薄膜分析系统

薄膜太阳电池QE测试专用系统 SCS10-Film适用范围： 非晶硅薄膜电池、CIGS 薄膜电池、CdTe 薄膜电池、非晶/ 微晶双结薄膜电池、非晶/ 微晶/微晶锗硅三结薄膜电池等光谱范围：300~1700nm电池结构：单结、多结太阳电池可测参数：光谱响应度、外量子效率、反射率、透射率、内量子效率、短路电流密度可测样品面积：300mm×300mm● 集成一体化turnkey系统● 大面积薄膜电池测试专用● 超大样品室，光纤传导● 背面电极快速连接● 反射率、内外量子效率同步测试● 快速高效售后服务 SCS10-Film系统规格 光源150W高稳定性氙灯，光学稳定度≤0.4%，光纤传导测试光斑尺寸2mm~10mm可调单色仪三光栅DSP扫描单色仪波长范围300nm~1700nm波长准确度±0.2nm（@1200g/mm,500nm)扫描间隔最小可达0.1nm，默认设置10nm输出波长带宽0.1nm~10nm可调，默认设置5nm多级光谱滤除装置根据波长自动切换，消除多级光谱的影响光调制频率4~400Hz标准探测器进口Si光电探测器，含校正测试报告数据采集装置灵敏度直流模式：100nA；交流模式：2nV测量重复精度0.6%( 400~1000nm范围0.3%)测量速度单次光谱响应扫描 1min 完整流程扫描 5min(扫描间隔10nm）样品加持探针样品台，156mm×156mm，特殊样品台可定制*Mapping扫描速度：20点/s（@0.5mm step）分辨率：0.5mm仪器尺寸主机：；样品室：控制机柜：800mm×600mm×1300mm计算机及软件系统含工控计算机、显示器、鼠标、键盘，正版windows 7操作系统，系统软件安装光盘

仪器简介：高级薄膜测定系统 NKD-8000系统综合了光学、电子学和高级分析软件，是目前测定多层薄膜和基片的折射率、吸收系数和厚度最精确、最易用的系统。NKD-8000系列产品具有全自动、可同时测定透过光谱和反射光谱，入射光角度从0° 到90° 连续改变。对分光光谱仪而言，这是一项前所未有的新功能，使得NKD-8000适用于最具挑战性的光学测量。对多层薄膜和基片的n、k和d的测定变得准确、快捷。技术参数：光谱范围 NKD-8000 350nm&mdash 1000nm ( 标准模式 ) NKD-8000v 280nm&mdash 1000nm ( 紫外增强型) NKD-8000r 800nm&mdash 1700nm ( 红 外 型 ) NKD-8000w 350nm&mdash 1700nm (宽光谱 型 ) NKD-8000e 350nm&mdash 2200nm (超宽光谱 型 ) 注：宽光谱型提供两个检测器，可以覆盖350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm (仅适用nkd-8000e)，但二者不能同时用。 获得数据时间 2&mdash 10分钟，这取决于光谱范围和不同选件 数据分析时间 5秒&mdash 5分钟，取决于数据的复杂程度 光谱分辨率 1nm或2nm （可选） 光源 NKD-8000v 150W 氙弧灯 其他 高稳态100W石英钨卤灯 样品尺寸 10× 10mm到200× 250mm标准系统,100mm 直径样品的扫描台 层数 至多5层，两个未知参数 薄膜厚度范围 1nm到25um，取决于角度、偏振和波长 1nm 需要增加椭偏模块 基片 透明、半透明或半吸收或半导体 材料 电介质、高聚物、半导体和金属 精确度 对于半吸收薄膜 典型 最大 薄膜厚度 ＜1% ＜3% 折射率 ＜0.1% ＜1% 消光系数 ＜1% ＜3% 对于金属薄膜 薄膜厚度 ＜1% ＜3% 折射率 ＜1% ＜3% 消光系数 ＜1% ＜3% 重现性 透射率 ＜0.01% ＜0.1% 反射率 ＜0.01% ＜1% 折射系数 ＜0.01% ＜0.1% 入射光角度 30° 、50° 或70° （标准单元）或由客户指定的从 20° 到70° 连续可变（可变角版本）或3个位置角度 样品上的光斑尺寸 5mm(标准系统)，250um（选件） 电源 220V，50Hz，2A 或110V，60Hz，3A 外观尺寸 890× 540× 720mm 重量 105Kg 选件 多角度，可变角度，X-Y样品扫描台，多种标准尺寸品架。样品观测显微镜。手动或全软件控制的偏振选件（s-、p-或非偏振）。样品加热台。台式机或工业PC。主要特点：主要特点 ◆ 可测定波长范围从280nm到2300nm的透射和反射光谱 ◆ 在同一区域可同时测定T和R值 ◆ 可对折射率(n)，吸收系数(k) 和厚度(d)进行准确测定 ◆ 样品可在X-Y扫描台上进行扫描 ◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和从0° 到90° 的连续变化的角度 ◆ 可用s-、p-或非偏振光作为入射光对T和R进行测定 ◆ 可对透明基片进行测定且不需要对样品进行前处理 ◆ 内建的材料数据库 ◆ 密封的样品室 ◆ 可选择散射模式 ◆ 具有在线或离线分析功能 对T和R同时测定 KD-8000系统在同一个光斑处，同时对透过光谱和发射光谱进行测定，保证了两套数据具有直接的相关性。通过测定这些光谱，全自动的控制和分析软件系统可以从中得到n、k和d值。而且所有这些都源自同一次测定。不同散射模式的选择使得对宽广范围材料的分析成为可能，而且用户可以选择缺省模式或者高级分析模式。 功能强大的Pro-OptixTM控制和分析软件系统包括一个可编辑的数据库，它允许对材料进行预先定义，以提高分析速度。该软件的其他特点包括颜色的匹配和太阳光的计算以及金属薄膜的算法。样品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而无需对它们特殊处理。 NKD-8000是唯一一款能全部提供上述功能的分光型光学薄膜分析系统，它为薄膜表征设立了一个标准。 可变的入射光角度 ①反射光检测 ②光束管 ③Y轴坐标 ④透射光检测器 ⑤Z轴坐标 ⑥X轴坐标 ⑦样品台 ⑧马达驱动的可变角度选择装置 NKD-8000系统提供可变的角度选择装置，它提供完全马达驱动的，可由PC机控制入射光的角度，入射角度从从0° 到90° 可自由选择。 通过使用分析软件中的集成工具就可实现对T和R的s-偏振光谱和p-偏振光谱进行独立分析或二者一起分析。 通过作为选件的X-Y扫描台可以对大尺寸样品进行扫描，样品在X、Y两个方向上的最大行程是100mm，同时保持入射光斑始终位于行程的中间。 在测定时有许多样品架备选，它们可以夹持不同类型尺寸的样品。全PC控制使这种方法对整个样品的数据收集和分析变得简单、准确和快捷。 多个角度 如果在应用中只需一些不连续的入射光角度，那么多角度选件可以提供一个满意的解决方案。从0° 到90° ，用户可自定义三个入射光角度。 附件 热台：可控制样品温度至150度，测定变温下的T和R，对测定光学涂层和基体的光谱位移十分有用。 显微镜/相机：对样品进行显微分析。 微光斑附件：将入射光斑聚焦至200微米，特别适合表征微小样品和局部区域。

PHI 4700薄膜分析仪产品介绍产品名称：薄膜分析仪产品型号：PHI 4700品 牌：日本ULVAC-PHI产 地：日本前言在开发新材料及薄膜制程上，为了有助于了解材料组成间的相互作用及解决制程上的问题，材料组成或薄膜迭层的深度分析是非常重要的。PHI 4700使用了AES分析技术为基础，搭配高感度半球型能量分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析，提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于Ulvac-Phi公司的高性能PHI 700Xi俄歇扫描纳米探针。它提供了高度自动化，成本效益的方案进行例行俄歇深度分析和微米范围的故障分析。 PHI 4700可以轻易的配备上互联网的设备，以供远程操作或监控之用。优点量化薄膜的成分 层的厚度测量检测相互扩散层 微米范围多点分析基本规格全自动多样品纵深分析: PHI 4700薄膜分析仪在微小区域之纵深分析拥有绝佳的经济效益，可在SEM上特定微米等级之微小区域快速进行深度分析。图2显示长年使用的移动电话镀金电极正常与变色两个样品之纵深分析结果，两者材质皆为镀金之锡磷合金。从电极二（变色电极）可看到金属锡扩散到镀金膜上，因为界面的腐蚀而产生氧及锡导致电极变色。高感度半球型能量分析器：PHI 4700半球形能量分析器和高传输输入镜头可提供最高的灵敏度和大幅缩短样品侦测时间。除此之外，具有全自动的量测功能，此装置可在短时间内测量多个样品。点选屏幕上软件所显示的样品座，可以记录欲量测的位置，对产品与制程管理上之数据搜集可进行个别分析。10 kV LaB6扫瞄式电子枪：PHI的06-220电子枪是基于一个以LaB6为电子源灯丝以提供稳定且长寿命电子枪的工具，主要在氩气溅射薄膜时进行深度分析。06-220电子枪还可以：产生二次电子成像，俄歇测绘和多点分析。在加速电压调节从0.2至10千伏。电子束的最小尺寸可保证小于80纳米。浮动柱状式Ar离子枪：PHI的FIG- 5B浮动柱状式Ar离子枪:提供离子由5伏到5千伏。大电流高能量离子束被用于厚膜，低能量离子束（250-500 V）用于超薄膜。浮动柱状式，确保高蚀刻率与低加速电压。物理弯曲柱会停止高能量的中性原子，从而改善了接口定义和减少对邻近地区的溅射。五轴电动样品台和Zalar方位旋转：PHI 15-680精密样品台提供5轴样品传送：X，Y，Z，旋转和倾斜。所有轴都设有摩打及软件控制，以方便就多个样品进行的自动纵深分析。样品台提供Zalar（方位角）旋转的纵深剖析，透过减少构件与溅射在一个固定样本的位置，以优化纵深分析。PHI SmartSoft用户界面：PHI SmartSoft是一个被认同为方便用者使用的操作仪器软件。软件透过任务导向和卷标横跨顶部的显示指导用户从输入样品，定义分析点，并设定分析。多个分析点的定义和最理想样品的定位是由一个强大的&ldquo 自动Z轴定位&rdquo 功能所提供。在广泛使用的软件设置，可让新手能够快速，方便地设立测量及其模板。可选用配备热/冷样品座样品真空传送付仪（Sample Transfer vessel）应用领域半导体薄膜产业微电子封装产业无机光电产业微摩擦学