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再次苦求以下硅的测量方法,拜托了!多谢!!! GB/T 1557-1989 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 GB/T 1558-1997 硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法 GB/T 4058-1995 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 GB/T 4059-1983 硅多晶气氛区熔磷检验方法 GB/T 4060-1983 硅多晶真空区熔基硼检验方法 GB/T 4061-1983 硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法 GB/T 4298-1984 半导体硅材料中杂质元素的活化分析方法 GB/T 4326-1984 非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法 GB/T 6616-1995 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定非接触涡流法 GB/T 6617-1995 硅片电阻率测定扩展电阻探针法 GB/T 6618-1995 硅片厚度和总厚度变化测试方法 GB/T 6619-1995 硅片弯曲度测试方法 GB/T 6620-1995 硅片翘曲度非接触式测试方法 GB/T 6621-1995 硅抛光片表面平整度测试方法 GB/T 6624-1995 硅抛光片表面质量目测检验方法 GB/T 11073-1989 硅片径向电阻率变化的测量方法 GB/T 13388-1992 硅片参考面结晶学取向x射线测量方法 GB/T 14140.1-1993 硅片直径测量方法 光学投影法 GB/T 14140.2-1993 硅片直径测量方法 千分尺法 GB/T 1414l-1993 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定直排四探针法 GB/T 14142-1993 硅外延层晶体完整性检验方法腐蚀法 GB/T 14143-1993 300~900μm硅片间隙氧含量红外吸收测量方法 GB/T 14144-1993 硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法 GB/T 14145-1993 硅外延层堆垛层错密度测定干涉相衬显微镜法 GB/T 14146-1993 硅外延层载流子浓度测定汞探针电容一电压法 GB/T 14847-1993 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法 GB/T 14849.1-1993 工业硅化学分析方法 1,10-二氮杂菲分光光度法测定铁量 GB/T 14849.2-1993 工业硅化学分析方法 铬天青-S分光光度法测定铝量 GB/T 14849.3-1993 工业硅化学分析方法 钙量的测定 GB/T 15615-1995 硅片抗弯强度测试方法
哪位高手 告诉我 如何 将一大块 硅晶片 切割成 小块的衬底????还有 ,云母衬底 哪里有卖的 ,都分为 那些 种类啊 ???谢谢了!!!!!!!!!!!!!!!1
[align=center][b]柔性衬底非晶硅薄膜太阳电池的研究陈宇华中科技大学[/b][/align]摘要:[color=#666666]随着能源问题的日益突出,近年来太阳电池光伏发电技术发展迅猛。聚合物衬底柔性薄膜太阳电池凭借其耗材少、成本低、可卷曲(柔性)、重量比功率高、轻便等特点成为当前太阳电池研究领域的热点。 聚酰亚胺(PI)膜具有耐高温等优点,被本研究选作了柔性衬底材料。针对聚合物材料光透过率普遍偏低的情况,本研究设计了“柔性衬底/Al底电极/N/I/P/TCO(透明导电薄膜)”的倒结构柔性太阳电池,并制定了相应的工艺制备方案。 PI膜在高温200℃以上存在气体释放现象,本研究提出了PI膜的预烘(prebake)工艺,以解决PI膜高温释放气体问题,并通过实验确定了最佳的预烘工艺条件。在此基础上,为了保证沉积在PI膜上的Al底电极不掉膜不脱落,本研究探索了制备高电导、良好附着性的Al底电极的工艺。 本研究通过在PECVD沉积非晶硅薄膜的过程中通入CH4来制备宽带隙a-SiC:H薄膜作为电池窗口层以提高电池的性能,研究优化了其制备工艺条件。同时研究了获得高光暗电导比(δph/δd>105)的本征非晶硅层的制备工艺以及获得高暗电导的N型非晶硅膜... [/color]更多[url=https://kns.cnki.net/kcms/detail/detail.aspx?dbcode=CMFD&dbname=CMFD2010&filename=2009228005.nh]柔性衬底非晶硅薄膜太阳电池的研究 - 中国知网 (cnki.net)[/url]