纳米狭缝涂布仪

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纳米狭缝涂布仪相关的厂商

  • 400-860-5168转2856
    溢鑫科创成立于2006年,是由数位显微镜领域和微纳加工领域的专业人员创办,自创建以来我们先后与国内外一流研究单位在微纳米科研领域开展紧密合作,十年间伴随着中国科研日新月异溢鑫科创已发展成为国内知名的微纳米科技领域专业供应商。我们本着以“勇于创新不懈追求”为经营信念,始终坚持提供以用户为导向的最合适最完善的科研解决方案,不断优化的售前、售后服务也保证了客户满意度和方案的可行性和先进性。目前公司有三大部门:显微镜部门:英国Cressington电镜专用镀膜设备, 美国XEI高真空等离子清洗设备, 美国NPGS纳米图形发生器电子束曝光系统光刻和等离子部门:美国PlasmaEtch高性能等离子表面处理仪,激光直写光刻系统印刷电子部门:美国Sonoplot Microplotter微纳米材料沉积喷墨打印系统, 日本SIJ超级喷墨打印系统, 德国MicroDrop多功能材料沉积喷墨打印系统,美国NovaCentrix光子烧结系统,英国PolyPico高精量生物材料打印系统,瑞士TSE Troller超高精度大面积狭缝涂布仪,瑞士NSM多功能凹版印刷系统eLab实验室拥有多台高端实验设备,测试内容包括薄膜表征及纳米材料喷墨打印等。
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  • 400-860-5168转5104
    江苏雷博科学仪器有限公司2013年9月成立于江苏江阴,是一家初期以高档专业的实验室仪器开发为目标的海归创业企业。2020年8月,江苏雷博科仪通过资源整合,将雷博科仪中发展起来的的工业半导体设备业务分拆出来成立了江苏雷博微电子设备有限公司。两家公司使用同一品牌,独立经营不同系列产品。公司主营高档实验室仪器及半导体设备开发业务。公司技术力量雄厚,人才济济,凭借雄厚的技术实力不断进行新产品开发和创新实现,在纳米薄膜制备类仪器领域取得了显著的市场地位。公司生产的高精度高可靠性匀胶机荣获江苏省高新技术产品,是国内匀胶机全系列、多功能、定制 化服务的知名品牌供应商。 公司生产和销售不同领域的高档科研仪器和工业半导体设备:Schwan technology是我们的纳米薄膜制备类设备品牌,主要有匀胶机、显影机、烤胶机、提拉机、喷胶机、涂膜机、狭缝涂布机等相关产品;LEBO science是我们的工业半导体设备品牌,主要有匀胶机、显影机、蚀刻机、去胶机、清洗机等独立柜式机台及工业全自动机台。 公司产品被广泛应用于纳米薄膜制备需求的钙钛矿薄膜太阳能、有机光电、MEMS、声表、光通讯、化合物半导体及先进封装等领域,具有核心技术可靠、高性价比、定制化服务的竞争优势。
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  • 布鲁克纳米表面仪器部——表面分析测试设备领先者布鲁克纳米表面仪器部是全球领先的分析仪器公司布鲁克下属的一个事业部,前身是美国维易科(Veeco)公司纳米测试仪器部。布鲁克公司作为全球领先的分析仪器公司之一,拥有自成立五十多年以来,始终针对当今的分析需求,开发最先进的技术和最全面的解决方案。布鲁克公司的产品和服务遍布全球一百多个国家和地区。在五十多年的高速发展过程中,布鲁克公司凭借自身的科研优势,以独有的先进技术、科学的管理和市场导向的产品推动了全球的科学发展。布鲁克纳米表面仪器部作为作为表面观测和测量技术的全球领导者,一直着眼于研发新的表面计量、检测方法和工具,致力于为客户解决各种技术难题,提供最完善的解决方案。布鲁克纳米表面仪器部的设备都是同领域领先的设备,包括:1)用于表面理化性能纳米尺度表征和操纵的原子力显微镜,2)用于表面三维形貌及粗糙度快速测量分析的三维非接触式光学轮廓仪,3)用于表面三维形貌和台阶高度测量的接触式探针表面轮廓仪,4)用于材料摩擦磨损、润滑测试及涂层结合力测试的摩擦磨损测试仪,5)用于研究化学机械抛光的化学机械抛光测试仪,6)用于表征纳米尺度表面的机械性能、摩擦磨损和薄膜结合力的纳米压痕仪,7)用于生命科学前沿研究的超高分辨快速荧光/双光子显微镜等。这些设备从不同维度构成了表面表征测试的多种应用方案,适用于从高校研究所到工业领域的材料、化学、生命科学、物理、LED、太阳能、触摸屏、半导体、通信以及数据存储等领域进行科学研究、产品开发、质量控制及失效分析的准确、高效分析测试的要求。这些产品和应用方案帮助我们的客户在各自的表面测量测试应用中解决面临的问题,提升技术和工艺水平,提高研发效率,从而实现最大限度的回报。布鲁克纳米表面仪器部在中国的业务是布鲁克公司全球业务的重要组成部分,很早就在北京、上海和广州陆续设有产品演示中心,在北京还单独设立的客户关怀中心和备件仓库,大大方便了客户从购买设备之前的考察到售后阶段的各种需求。不论是售前还是售后服务,都获得了广大用户的好评。
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纳米狭缝涂布仪相关的仪器

  • 进口纳米狭缝涂布机 400-860-5168转3827
    进口纳米狭缝涂布机 高性能槽模涂层研发系统型号:nRad 该仪器为小型研究纳米材料的狭缝涂布提供了高效高精度的试验机台,机台尺寸小。“狭缝涂布精密成膜装备系统”是一个高端先进制造业项目,其成膜技术可在玻璃、塑料、不锈钢等基体上精确涂布制备功能纳米、微米薄膜,在许多光电领域,如平板显示、触摸屏、薄膜太阳能电池、半导体元器件及封装、柔性及印制电子、智能玻璃等,有着非常广泛的应用。 特点:高效的材料利用率和最少的浪费基于槽模的沉积技术涂布厚度范围:从20nm到100μm均匀度为 ±3%,效率高/材料利用率高:材料利用率可达95%从研发到小批量试制、大量生产满足不同需求支持各种基材(刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片)适用于各种应用(平板显示器、触摸屏、光伏(薄膜和硅)、柔性电子产品、光学薄膜) 研发体系中无与伦比的性能和价值专有设计在小型封装中提供可靠的性能简单而灵活的设计和操作,能够为各种应用沉积各种材料紧凑型系统与大多数标准手套箱和实验室台面兼容全自动涂层工艺通过配方可编程参数控制线性伺服电机驱动的空气轴承级确保平稳运行和准确的涂层用户友好的控制与板载触摸屏和基于PC的软件极低的填充量非常适合测试小样本材料可编程涂层间隙(微米分辨率)测量并调整每个处理的基板可编程的引发步骤,以在沉积在基板上之前立即建立涂层珠 流程优势槽模涂布技术使涂布液的利用率最大化,而不会产生与替代方法相关的浪费有效利用材料可最大限度地减少对环境的影响和处置该过程适用于开发应用程序,可扩展到更大的生产规模精确,可编程控制涂层间隙和模具运动轮廓,提供高度均匀的涂层和出色的涂层边缘轮廓控制有效可调涂布速度0-2m / min 技术参数:基板尺寸:标准150mm 最大值210-300mm 150或200mm晶圆选项基板类型:玻璃、塑料、金属箔、硅片 刚性或柔韧性涂层厚度范围:20nm to 100um涂层均匀性:对于超过150nm的薄膜,±3%或更好,对于50和150nm的薄膜,±5%或更好涂料粘度范围:标准1至70 cp设备尺寸: L: 911mm W: 578mm H:645mm 设备重量:170千克/ 380ibs
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  • 纳米材料狭缝涂布仪 400-860-5168转4149
    “狭缝涂布精密成膜装备系统”是一个高端先进制造业项目,其成膜技术可在玻璃、塑料、不锈钢等基体上精确涂布制备功能纳米、微米薄膜,在许多光电领域,如平板显示、触摸屏、薄膜太阳能电池、半导体元器件及封装、柔性及印制电子、智能玻璃等,有着非常广泛的应用。 从研发用150mm平台到6代线,为用户提供灵活多变的配置方案。不仅用于光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)、OLED涂布等,还可以用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布,也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。 狭缝涂布技术适用于各种涂布液,可广泛应用于不同基材表面的涂布,如玻璃,不锈钢和塑料基片涂布模具相对于基片精确地运动,并精确检测控制工艺流体及其涂布速度。 优势 可涂布不同粘度的各种材料 涂布厚度范围广泛:从20nm到150μm以上 很好的涂布一致性:通常优于±3% 效率高/材料利用率高:材料利用率可达95% 能够满足不同需求:从研发到小批量试制、大量生产 工艺具有高的可靠性和鲁棒性:良率可达到95% 适用于S2S和R2R加工模式 在一个工艺周期内可实现矩形阵列的涂布加工 过程参数 涂布间隙控制:动态控制涂布头高度 (z轴) 模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造 涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制 控制软件: 所有配方参数,数据监控和反馈控制,数据采集分析。 应用领域 平板显示 LCD, OLED, Flexible, Touch Screen LCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏 太阳能光伏 PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si 固态照明 OLED lighting 高附加值玻璃 可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃 半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件
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  • 一、特点:落地式设备,为设备提供平稳性与储存空间;配备FFU空气净化系统;模块化设计,集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺,实现不同涂布功能的切换;按需供墨,狭缝涂布墨水用量低,减少浪费和污染;大尺寸触控屏控制,自定义涂布过程,便于开展涂布工艺研究;可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统,CCD成像系统等。二、适用范围:针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等;涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备,以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点:落地式设备;结合狭缝、刮刀、线棒、超声工艺;模块化设计,便于工艺研究。四、技术参数:【外形尺寸】:1040*670*1850mm【工作台范围】:X:280 Y:280 Z:80(mm)【间隙控制精度】:2μm【最大速度】:0-60(X轴)、0-70(Y轴)、0-40(Z轴)mm/s【平台加热温度】:室温-150℃【温度偏差】:±2℃【平台平面精度】:±5μm(100mm)【溶剂体系】:水性、油性、有机溶剂等【适用基材】:玻璃、PET、CPI、金属箔等柔性基材【基材固定方式】:真空吸附【驱动方式】:步进电机+伺服电机+进口研磨级丝杆【控制方式】:触控屏控制【涂布工艺】:狭缝涂布、超声喷涂、刮刀刮涂、线棒辊涂(选配)【涂布厚度】:0.05-20μm(干膜厚度){视涂布工艺和油墨而定}【涂布宽度】:10-200μm {根据选用涂布头而定}【涂布条数】:1-10 {可自由设定涂布条数}【狭缝头唇口线度】:≤3μm【液体粘度】:1500cps
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纳米狭缝涂布仪相关的资讯

  • 新品上市|VCML实验室/中试生产涂布印刷机
    RK试验室/中试涂布机VCMLVCML实验室/中试生产涂布印刷机是一款精密设计的涂布机,适用于以卷轴为基础的印刷、涂布和层压所有类型的柔性卷材,如纸张、薄膜和金属箔。VCML实验室/中试生产涂布机能够将各种涂层应用方法应用到各种涂料中,如油墨、油漆、清漆、溶剂型和水基粘合剂,特别适用于产品开发、质量控制和专门产品的小规模生产。VCML涂布印刷机优势✔适用于印刷、涂层和复合所有类型的柔性卷材✔适用于溶剂型、水型和UV型应用✔涂布和印刷系统容易互换✔带有图形设置和操作系统的触摸屏控制系统✔速度范围为1-70m/min的伺服驱动✔刚性的铝制框架✔集成电气和气动控制✔有多种标准印刷涂布工艺可供选择,可以配置成各种涂布方法,满足广泛的应用。这些涂层和印刷系统很容易互换。多功能涂布印刷机VCML客户名单VCML实验室/中试生产涂布机被广泛运用在涂料油墨,颜料,树脂,染料,胶粘剂,纸张,薄膜,医药,电池纺织等等行业,部分企业如下:实验室/生产中试涂布机VCML应用✔计量棒涂布✔凹版印刷✔直接凹版印刷✔反向凹版印刷✔胶印凹版印刷✔差异胶印凹版印刷✔柔印✔辊式刮刀涂布✔狭缝涂布✔旋转涂布✔气刀涂布✔热熔胶涂布旋转运行式涂布印刷机ROKO和实验室/生产中试涂布机VCML之间的比较详情旋转涂布印刷机ROKO试验室/中试生产涂布印刷机VCML (标准版)VCML – Load Cell Version试验室/中试生产涂布印刷机称重传感器版速度范围(m/min)0.2至22至205到50(标准)10到90速度范围是通过改变变速箱来设定的1至70m/min不需要更换变速箱1至50 m/min不需要更换变速箱操作控制传统的旋钮和开关彩色触摸屏(HMI)彩色触摸屏(HMI)操作语言多语种多语种卷板宽度可达300mm可达300mm可达300mm电气控制柜外部地板或墙壁安装集成控制面板远程落地式控制面板涂抹器直径mm67.5mm或(100mm用于凹印滚筒)81mm–100mm用于凹版印刷81mm–100mm用于凹版印刷驱动单交流电机2 个伺服电机2 个伺服电机速度控制变频器模拟设定伺服控制器数字设定伺服控制器数字设定尺寸,长*宽*高,m2 *1* 2.32.4*1*1.82.4*1*1.8最大卷材直径,mm300300300最大卷材重量,kg256060幅材张力范围,kg5 – 10kg1 – 20 kg1 – 20 kg张力控制手动手动自动闭环称重传感器开卷和倒带可拆卸自锁夹头悬臂自锁夹头也可提供气动夹头悬臂自锁夹头也可提供气动夹头开卷刹车卡尺气动装置磁粉制动器倒带离合器气动装置气动装置磁粉制动器工作噪音水平dB @ 1m757070干燥机隧道长度mm600900900喷嘴数量51111最大喷嘴速度m/s155喷嘴间隙mm1到21到21到2进排气管直径mm50100100加热器功率Kw111111气流调节喷嘴间隙和阻尼器喷嘴间隙和阻尼器喷嘴间隙和阻尼器蒸汽去除通往涂层托盘前后的排气管干燥机入口和出口上的排气管带排气装置的封闭涂层区域干燥机背面的集成排气管带排气装置的封闭涂层区域干燥机背面的集成排气管涂层区域提取认证ATEXATEX & NFPAATEX & NFPA烘干机穿线可拆卸底板允许从隧道下方穿线蛤壳式,气动开口,便于穿线蛤壳式,气动开口,便于穿线烘干机隧道保温无12mm 硅胶泡沫(低热损失)12mm 硅胶泡沫(低热损失)烘干机管道50mm柔性硅胶软管100mm柔性硅胶软管100mm柔性硅胶软管安装步骤将ROKO底座放在工作台上并固定 将干燥器定位并固定到框架上 定位并固定电气柜和电源风扇 将电源线连接到机柜 连接基本单元、机柜和电源风扇之间的所有电缆 在供应风扇和干燥器之间安装软管/管道 连接压缩空气和水管定位和调平机器 将电源线连接至机器(整体机柜) 连接压缩空气和水管定位和调平机器 将电源线连接到机器上 连接压缩空气和水管 从VCML布线并连接控制电缆至控制面板屏幕操作说明无HMI上显示的设置说明HMI上显示的设置说明远程故障诊断无可选可选实验室/生产中试涂布机VCML型号及技术参数卷板宽度可达300mm刚性铝框架长2.5m,宽1m,高1.8m悬臂式开卷和倒带带托盘升降机和槽的头部安装站带有可调节的气动压区的层压机站速度范围为1-70 m/min的伺服驱动实验室/生产中试涂布机VCML可选配件- 电子张力控制- 热风干燥- 加热层压机- 紫外线固化- 红外线- 电晕处理- 边缘引导- ATEX涂层区
  • 海洋光学可更换狭缝的光谱仪提供应用多样化
    海洋光学(Ocean Optics)准确的激光切割狭缝和光圈组件技术为其生产的Jaz、Torus和QE65 Pro微型光谱仪增添了灵活性。可更换的狭缝在光谱仪的设计上提供了更多自由度,用户只需通过替换一些螺丝就能轻松地从一个应用功能转换至另一个应用功能。模块化的光谱学通过在各种配置中混搭光具座和其它组件来实现数千种应用功能。Jaz、Torus和QE65 Pro光谱仪利用现场可更换的狭缝为顾客提供了另一种灵活性。光 谱仪器的设计标准是反复权衡各种利弊后的结果。光谱仪是否理想,取决于其应用。对于一些用户来说,最令人苦恼的权衡之一就是如何选择入口光圈(狭缝)。大 一点的狭缝会增加吞吐量,但是却以光学分辨率为代价。小一点的狭缝会提高光圈分辨率,但是会降低吞吐量。一般来说,要更改狭缝就要在制造商的设备上进行光 谱仪的返工。有了可更换的狭缝,用户可以在现场直接更改光谱仪的性能。只需几分钟就可以完成狭缝的更改,并无需重新对齐。例如,QE65 Pro用户如果需要低光度应用下的高敏感性,比如荧光性,可以将大狭缝更改为小狭缝,避免了吸光度应用中的饱和。或者Torus用户可以将配置好的用于解 决一个应用中紧密对齐的发射峰的Torus进行调整,从而为另一个应用提供低光度水平的测量。如想要了解更多信息,请登陆www.OceanOptics.com以及www.OceanOptics.cn网站;或拨打电话86(21)6295 6600、发邮件至asiasales@oceanoptics.com联系海洋光学应用工程师。
  • 关于光学仪器可调狭缝的误区解读
    在某些光学仪器产品指标里,经常看到关于光谱带宽或狭缝的类型写为&ldquo 连续可调&rdquo 式。其后仔细一问:其实就是几档固定狭缝式的,如下图:    这种狭缝一般分为若干固定宽度档,但不是可调的更不是连续的,仅仅是&ldquo 可选的&rdquo 。  真正的连续可调狭缝如下图。这种狭缝的两个刀口,一个为固定的,另一个可以左右移动从而来改变狭缝(带宽)的宽度。    固定可选狭缝的优点:带宽不会改变,重复性好。  固定可选狭缝的缺点:狭缝宽度限制死了,不能灵活使用 尤其是作为红外伺服式可变宽度狭缝则不能胜任。  连续可调式狭缝的优点:使用宽度灵活性好 可以作为伺服式场合应用。  连续可调式狭缝的缺点:同一狭缝宽度在重复设定时,其宽度的重复精度很难保证。要想保证带宽的精度,要先行设置到零点(onm)处,然后再调整到预设的宽度,较为繁琐。  之所以有些仪器厂家的产品指标将二者混淆而谈,一是概念不清,二是难免有故意有偷梁换柱之嫌。作者:仪器信息网网友 夕阳

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  • PE的狭缝

    PE[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原吸[/color][/url]软件方法设置首页中,关于光谱仪狭缝的设置,选项有2.0L, 0.7L, 0.2L, 0.2H, 0.7H, 2.0H。前面狭缝有带(纳米)这样的单位。而在推荐条件窗口中狭缝数据并没带L或H。那么这当中的L和H代表什么?

  • 【讨论】有关DAD狭缝的讨论

    [em09504]请各位大虾们讨论讨论DAD检测器狭缝的作用,全波长190~900纳米通过流通池后进入狭缝,因为狭缝宽度远小于波长,会发生单狭缝衍射现象,衍射后波长的光是如何运行的?是发射到光栅上,由光栅上分光?还是发射的反光镜上,有衍射光谱反射到二极管上?为什么低宽度狭缝会提高分辨率?[em09509]

纳米狭缝涂布仪相关的耗材

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