去除杂质

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去除杂质相关的耗材

  • 杂质捕集小柱
    鬼峰描述色谱分离过程中,特别是在梯度洗脱或者仪器使用时间过久容易产生时有时无的色谱峰,我们俗称鬼峰(Ghost peak)。鬼峰的来源流动相(放置时间过长导致滋生细菌和流动相添加剂等);液相系统时间较久已不再纯净;样品前处理过程引入;色谱柱污染等。产品描述月旭科技研发的 Ghost-Buster Column 杂质捕集小柱不仅能够去除流动相中的杂质,还可以有效去除管路和混合器中的杂质,消除鬼峰对分析的干扰,提高工作效率,也一定程度上延长了色谱柱和仪器的使用寿命。月旭科技推出的第二代Ghost-Buster Column II杂质捕集小柱,通过产品进一步升级和改进,不仅可以更加卓越地吸附流动相中的杂质,消除鬼峰。同时解决以往梯度初始比例水相过高而导致的基线漂移问题,从而获得更佳平稳的基线。月旭科技推出的Ghost-Buster UP Column杂质捕集小柱可耐受90MPa压力,完美实现与超高压液相系统的兼容。注意事项1、新柱请使用80%甲醇水冲洗,1.0mL/min流速冲洗15分钟,再连接设备使用。2、请理解并不是任何杂质都可以被杂质捕集小柱吸附。3、流动相中如果使用离子对试剂时,可能会吸附离子对试剂,进而影响目标物的保留时间或峰形。这一类流动相条件,请根据色谱效果决定是否使用该小柱。4、如果发现捕集效果变差,建议及时更换,并不是连接上以后可以无限次使用。
  • 岛津 耗材配件 接头杂质捕集小柱
    UHPLC接头 ( 最高耐压: 130MPa)UHPLC 接头安装在UHPLC 系统的色谱柱入口管处,不仅可以承受130MPa的压力,还可以在更换色谱柱时拆下重新使用。 Nexlock高压接头“Nexlock” 是一种使用方便,并且在耐压和耐久性能方面很优异的高压接头。配管前端和连接头的接口直接紧贴,因此可以实现无死体积。接头易拆卸,同时配管可以更换,耐压130MPa,手拧即可,可重复操作使用100 次以上。UHPLC/HPLC 流动相杂质捕集小柱Ghost Trap DS 流动相杂质捕集小柱是由日本第一三共制药和岛津株式会社联合开发的用于过捕集流动相中杂质的小柱,将此小柱安装在泵前面,就可以有效过滤流动相中的杂质,避免鬼峰的出现,在色谱方法验证或者杂质分析过程中,往往会因为鬼峰的出现而耗费太多的时间,安装DS 捕集柱以后,可以大大缩短因鬼峰出现而浪费的时间。新型DS-HP 捕集柱可以耐受100MPa压力,从而可以与UHPLC系统兼容,有了耐高压的DS-HP 小柱之后,便可以实现UHPLC 方法与常规分析系统方法之间的互相转移。 即使是有机溶剂,也可以持续捕集杂质杂质捕集DS小柱主要的特点是能够去除溶剂包括有机溶剂中的杂质。反相色谱梯度分析时,将小柱安装在梯度混合器和自动进样器之间,不仅能够去除流动相中的杂质,还可以有效捕集管路和混合器中的杂质。
  • 杂质标准板
    gb5413.30-2016 2016年新版 乳品杂质度标准板共两张分为,乳粉乳杂质度标准板 液体乳杂质度标准板 牛乳中杂质标准板,杂质度对比对照板,乳制品标准板,杂质度标准板杂质度对比对照板,乳制品标准板,杂质度标准板 所是集研制、生产和销售乳品检测专用仪器、专用玻璃仪器、专用试剂和专用品于一体的科研企业。l 从事乳、乳制品专业检验技术工作始于1983 年。 1984 年参与制定、整理我国 首部 《乳、乳制品及其检验方法》国家标准。 1997年改版本公司是其他专用仪器仪表的专业供应商,不仅常用型号的其他专用仪器仪表备有现货,而且还能根据客户要求定制其他专用仪器仪表。本公司销售灵活,除了杂质度对比对照板,乳制品标准板,杂质度标准板,公司还供应仪器仪表行业行业的其他其他专用仪器仪表产品,欢迎洽谈相关仪器有:毛氏法:毛氏抽脂瓶,毛氏离心机,毛氏水浴锅,毛氏摇混器巴布科克法:巴布科克乳脂瓶罗兹哥特里法:罗兹哥特里抽脂瓶盖勃法:盖勃乳脂肪离心机,盖勃乳脂计,11ml和10.75ml单标牛乳吸管,10ml硫酸量取器,1ml戌异醇自动量取器乳品杂质度的测定:HL-GB2乳品杂质度过滤机,杂质度过滤板,杂质度标准板,杂质度标准板说明书,带带铝盒等乳稠度的测定:HL-15A乳稠计,乳品电子温度计乳品硝酸盐与亚硝酸盐的检测:镉柱还原装置,镀铜镉粒乳品溶解度的检测:不溶度指数搅拌器,指数搅拌杯,柱底离心管,不溶度指数离心机牛乳中杂质标准板,杂质度对比对照板,乳制品标准板,杂质度标准板杂质度对比对照板,乳制品标准板,杂质度标准板 所是集研制、生产和销售乳品检测专用仪器、专用玻璃仪器、专用试剂和专用品于一体的科研企业。l从事乳、乳制品专业检验技术工作始于1983年。 1984年参与制定、整理我国 首部 《乳、乳制品及其检验方法》国家标准。1997年改版本公司是其他专用仪器仪表的专业供应商,不仅常用型号的其他专用仪器仪表备有现货,而且还能根据客户要求定制其他专用仪器仪表。本公司销售灵活,除了杂质度对比对照板,乳制品标准板,杂质度标准板,公司还供应仪器仪表行业行业的其他其他专用仪器仪表产品,欢迎洽谈

去除杂质相关的仪器

  • 型号ST-1540ST-1540机械杂质测定仪适用于测定石油产品中的各类轻、重质油、润滑油及添加剂的机械杂质的含量。根据GB/T511《石油产品和添加剂机械杂质测定法(重量法)》设计制造的专用仪器。可广泛应用于电力、石油、化工、高校、商检及科研等部门。 生产厂家北京旭鑫仪器设备有限公司 功能特点l 液晶屏汉字显示l 采用新的单片微机技术l 实现按标准要求的升温速率,温度升温快l 精密铂电阻作为测量元件,控温精度高l 具有恒温功能,自动化程度高,操作简单技术参数适用标准GB/T511控温范围室温~100℃控温精度±1℃显示方式液晶汉字显示加热功率300W相对湿度10%~80%Rh环境温度5℃~45℃电源电压220V±10% 50Hz
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  • 牛奶杂质度测定仪,牛奶杂质度分析仪、鲜乳杂质分析仪、乳品杂质测定仪牛奶杂质度测定仪,牛奶杂质度分析仪、鲜乳杂质分析仪、乳品杂质测定仪技术参数:主要用途:用于乳品,牛奶杂质度的测试检测速度:800样品/小时每一滤膜可测500ml牛奶溶液牛奶杂质度测定仪,牛奶杂质度分析仪、鲜乳杂质分析仪、乳品杂质测定仪标准配置:主机、 标准滤纸、结果比对卡
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  • 型号ST-1540ST-1540机械杂质测定仪适用于测定石油产品中的各类轻、重质油、润滑油及添加剂的机械杂质的含量。根据GB/T511《石油产品和添加剂机械杂质测定法(重量法)》设计制造的专用仪器。可广泛应用于电力、石油、化工、高校、商检及科研等部门。 生产厂家北京旭鑫仪器设备有限公司 功能特点l 液晶屏汉字显示l 采用新的单片微机技术l 实现按标准要求的升温速率,温度升温快l 精密铂电阻作为测量元件,控温精度高l 具有恒温功能,自动化程度高,操作简单技术参数适用标准GB/T511控温范围室温~100℃控温精度±1℃显示方式液晶汉字显示加热功率300W相对湿度10%~80%Rh环境温度5℃~45℃电源电压220V±10% 50Hz
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去除杂质相关的方案

  • iCAP TQ三重四级杆ICPMS测定高纯氧 化镝中的15种稀土杂质
    本文运用赛默飞iCAP TQ三重四级杆ICPMS 建立了一种直接测试高纯氧化镝中15种稀土杂质的方法。该方法简单快速,无需复杂的基体分离过程,利用iCAP TQ有效去除氧化镝基体多原子离子对165Ho和175Lu的干扰,适用于纯度为99.99%~99.9999%的高纯氧化镝中稀土杂质纯度分析。
  • NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质
    控制硅基半导体器件中的杂质含量是至关重要的,因为即使是超痕量的杂质都可能会导致器件发生缺陷。出于质量控制的目的,常规分析的硅主要有两种类型:体硅和硅晶片表面。由于许多重要的待测元素在使用电感耦合等离子体质谱仪分析时会受到等离子产生的分子和同质异位素的干扰,因此对许多重要的待测元素的分析都很困难,这进一步增加了分析硅杂质的难度和复杂性。通过向通用池中通入适当的低流量反应气和使用独特的动态带通调谐(DBT)的功能,就能够在离子束进入四级杆质谱前用化学方法将干扰去除,而这两个功能都是NexION 300 ICP-MS所兼具的。本应用报告证明了NexION 300SICP-MS使用低流量雾化器对小体积体硅样品中的杂质元素进行测定的能力。
  • IC-ICP-MS 基质分离分析核电级高纯硼酸中杂质元素的含量
    本文所建立的 IC-ICPMS 联机测定核电级硼酸中的 10 种杂质元素的方法。通过前端色谱柱去流动相纯化,大定量环 1.0 mL 满环进样,进行金属富集,去除硼酸基质,再反向冲出在色谱柱 CG10 上进行分离,最终在 ICPMS 上进行杂质检测;固体硼酸中检出限在 0.093 到 6.6µ g/kg 之间,加标回收再 82 和 112% 之间。相比传统 ICPMS 直接测定方法提高了检出限,解决了 B 元素对 ICPMS 的系统污染。

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  • 黄金首饰杂质去除

    黄金首饰表面杂质去除 需要配酸 应该用什么样的配方比较适合 黄金首饰表面才会更亮色一点 求各位化工学霸指点指点。

去除杂质相关的资料

去除杂质相关的资讯

  • Pall免费讲座:膜层析技术——快速去除杂质的灵活解决方案
    Pall免费在线讲座   上游工艺技术的持续改善已经使蛋白表达水平越来越高,从而使下游产量超过1g/L,甚至达到10g/L。这些前提将直接影响到下游工艺,直至遇到技术瓶颈。然而,目前的趋势,比如使用更高载量、选择性更广的层析填料,以及更多使用一次性技术如膜层析等,将会突破这些瓶颈,使制药行业的快速发展获得强大动力。   如何有效去除杂质是制药工艺中一个很大的挑战,这也是膜层析技术应用最受欢迎和流行的应用点。膜层析的操作非常简便,其高速以及高效的特性有效降低了工艺时间和成本,提高总产量。本次网络讲座将会阐述膜层析的基本原理,并举例客户应用,说明如何将该技术整合到工艺中,以节约时间和成本。   参会者将有机会学习:   如何使用Mustang® 膜层析产品有效去除杂质,提高工艺经济性?   如何将膜层析产品纳入到一次性系统的设计中?   如何使用膜层析技术解决当前以及未来的工艺挑战?   谁应该参加?   ● 致力于高效、高质药物研发和生产的行业领导者   ●下游工艺研发专家、工程师和组长   ●早期制药工艺开发相关的科学家   ● 产品工程师   ● 验证专员   ● 层析专员   ● 生产人员   ● 关注 cGMP 临床试验产品的质量经理   ● 工程咨询   讲座专家:   Russell M. H. Jones   Mustang膜层析全球产品经理   Pall Life Sciences   John M. Jenco, Ph.D   高级首席科学家   技术服务部   Pall Life Sciences   Dr Iann Rancé   工艺开发总监   Cytheris公司下游工艺及分析部门   讲座信息   讲座时间:2012年2月16日, 23:00pm(北京时间)   注册网址:https://event.webcasts.com/starthere.jsp?ei=1003510&sti=S   (本次讲座全部免费,但是请务必提前登陆注册,收到确认邮件后即可顺利参会。)   颇尔公司及Mustang层析技术简介   作为全球过滤、分离、纯化技术的领导者,颇尔公司(Pall Corporation)提供经济、高效、创新的层析纯化平台,帮助制药用户满足日益严格的应用需求,实现高产量目标。Pall层析产品提供极佳的独特选择性,完美解决当下的工艺挑战,具从实验室到生产规模的真实放大性,独特的平台可提高工艺经济性,应用于制药工艺下游多个步骤。产品系列包括:层析填料,PRC预装柱,LRC层析空柱,Mustang离子交换膜产品,Resolute层析柱,PKP层析系统,PK层析系统等。   Mustang离子交换层析产品为生物工艺提供了灵活的解决方案,包含一次性和重复使用两大类产品,均可放大。高流速,高通量,操作简便,紧凑设计等特性显著降低缓冲液的消耗,提高整体工艺的经济性。   Mustang膜层析技术是目前高效去除杂质、捕获大目标分子(质粒DNA,病毒载体等)的首选技术。
  • 药品研发注册杂质研究与控制专题研讨会会议通知
    关于举办“药品研发注册杂质研究与控制专题研讨会”的通知   各有关单位:   随着《国家药品安全规划(2011—2015年)》的出台,对全面提高药品安全保障能力,降低药品安全风险提出了更高的要求 而在药品安全研究中,杂质问题一直是国内注册和国际注册的难点和重点,控制药物中杂质已成为控制药品质量的关键因素之一,也是困扰着广大药物分析工作者的难题之一。由于药物杂质的来源广泛,已知的杂质可以通过现有的分析手段进行定性定量,未知的杂质则成为分析的难题,为了让广大药物分析工作者能实现有效地药品杂质控制,更深刻的理解安全性对于药品的关键影响,经研究,全国医药技术市场协会定于2013年3月15日-17日在北京市举办“药品研发注册杂质研究与控制专题研讨会”。请各有关单位积极选派人员参加。现将有关事项通知如下:   一、会议时间地点:   时间:2013年3月15日-17日(15日全天报到)   地点: 北京市 (地点确定直接通知报名者)   二、会议主要内容   详见课程安排(附件一)   三、参会对象   制药企业和新药研究机构的研发人员,各级药品检验所(院)和口岸药品检验所人员,药品生产企业研发技术与质量管理负责人,新药研发CRO实验室人员及高管。各药品分析仪器设备研发生产、代理商 各高等院校、科研院所、医疗机构等相关专业人员。   四、会议说明   1、理论讲解,实例分析,模拟审计,互动答疑.   2、主讲嘉宾均为药典委委员和行业内资深专家、欢迎来电咨询   3、本次会议将征集与会议主题和研讨内容有关的论文。来稿应具有科学性、实用性,且论点鲜明、数据可靠、文字精练通顺。截稿日期:2013年3月9日。   五、会议费用   会务费:1980元/人。会务费包括:培训、研讨、证书、资料及论文集。食宿统一安排,费用自理。   六、联系方式   电 话:13121666780   传 真:010-52226401   联 系 人:陈海涛   邮 箱:yyxhpx2012@126.com   会议质量监督电话:010-51606480 张 岚   附件一 日 程 安 排 表 3月16日 (星期六) 09:00-12:00 14:00-17:00 药品杂质分析指导原则   1、创新药物杂质研究的思路、仿制药物杂质研究的思路、原料药物杂质研究的思路   2、仿制药与原研有关物质的对比研究   3、.新药注册申请资料的质量要求、药物杂质研究案例分析(对注册批件中生产工艺内容要求的思考)   4、针对质量标准中已规定的已知杂质和未知杂质的研究思路   5、药物研发中杂质分离、分析、控制策略与去除策略   6、有关物质研究中的液相使用技巧与注意事项   7、起始原料质量对终产品的重要影响:杂质超标等问题   8、原料药杂质控制的相关法规:Q3A, Q3B, Q3C   9、原料药申报中采用HPLC方法测定有关物质存在的问题   10、原料药与成品药中的残留溶剂   11、主药与辅料相容性研究时出现的杂质问题   12、案例分析   主讲人:谢沐风 资深专家、上海市食品药品检验所及国家药典委中检所相关专家等。 3月17日 (星期日) 09:00-12:00 14:00-17:00 FDA对药物杂质的控制要求   1、原料药与成品药中的有机杂质   2、有机杂质来源和控制   3、有机杂质控制限度的论证   4、案例分析:有机杂质控制限度的设置和论证   5、原料药与成品药中的残留溶剂   6、残留溶剂的指导原则和控制限额的建立   7、案例分析:如何建立残留溶剂的控制限额   8、具有基因毒性杂质的控制   9、多晶型药物质量控制、异构体杂质控制等。   主讲人:沈新华博士 上海安必生技术有限公司研发副总裁,首席科学家,主要负责药物分析研发。曾在国外工作20 多年,具有药物研发、药物合成、药物分析的丰富实践经验及其深厚的理论知识,以及国际仿制药公司工作的经验。曾在TEVA 药业(全球著名的跨国仿制药集团)加拿大分公司任高级研发科学家,以及在加拿大最大的制药公司Apotex 任研发部门经理,负责和参与了数十种非专利药ANDA 的分析研发、药物申报和质量监控等工作。曾获中国药科大学有机合成硕士学位和瑞典皇家理工大学 化学博士学位 兼任北京大学药物信息与工程研究中心授课教师。 备注 每天除专家报告外,还安排了约1小时的代表发言和提问时间。   附件二: 药品研发注册杂质研究与控制专题研讨会回执表   (此表复制有效) 单位名称 联系人 地 址 邮 编 姓 名 性别 职务 电 话 传真/E-mail 手 机住宿是否需要单间:是○ 否○ 是否参加企业推广: 是○ 否○ 是否参加会议发言:是○ 否○ 是否提交论文: 想学习的内容: 论文题目: 联系人: 陈海涛 电话/传真:010-52226401 邮箱:yyxhpx2012@126.com
  • 梅赛德斯-奔驰联合研究:减少锂电生产过程中杂质颗粒的 4 种方法
    Nature Energy|梅赛德斯-奔驰联合研究成果:减少锂电池生产过程中杂质颗粒的 4 种方法目前,尽管在实验室研究的锂离子电池材料的研发已经取得巨大进展,但是从实验室几克材料的合成,到千克、以及吨级大规模生产,还存在许多质量控制的盲点。本文作者重点关注下一代锂离子和锂金属电池,分别从电池的原材料、正负极加工工艺、超轻量集流体、以及电池生产过程中的清洁度把控(锂电池清洁度分析)等方面出发,给出了锂电池大规模量产的机遇和挑战。这一研究成果《锂电池从实验室研究到大规模量产》,由太平洋西北国家实验室、华盛顿大学、宾夕法尼亚州立大学和梅赛德斯 - 奔驰北美研发公司以及赛默飞世尔科技共同完成,并发表在国际顶级期刊《nature energy》上。原文链接:https://doi.org/10.1038/s41560-023-01221-y文章解读文中在“对锂电池原材料和生产过程的表征”部分指出,为了实现可控且高品质的电池材料生产,先进的表征手段在这个过程中非常关键。品质把控包括原材料、电极形貌和成分、以及表面处理等众多步骤。在品质把控的过程中,来料中有 2 类金属杂质对于电池性能危害最为严重。一种是非磁性颗粒,比如铜 (Cu)、锌 (Zn) 类。另一种是磁性颗粒,比如铁 (Fe)、铬 (Cr)、镍 (Ni) 以及合金颗粒。目前电池制造商们主要采用以下 4 种策略来减少生产过程中的杂质颗粒。对原料进行严格的品质把控 策略一 这一过程可以借助电感耦合等离子体发射光谱仪、光学显微镜和扫描电镜(ParticleX Battery 锂电清洁度检测系统),来识别原材料的杂质颗粒并分析其成分,这些方法对于磁性颗粒和非磁性颗粒都具有适用性。使用 ParticleX Battery 锂电清洁度检测系统,识别到的磁性和非磁性异物颗粒某些生产环节加入除磁步骤策略二生产工艺中(如搅拌池),添加除磁工艺,以去除磁性颗粒物。监测生产车间的环境清洁度 策略三 生产车间中任何金属零件的磨损,都有可能产生异物颗粒,都会影响生产环境的清洁度。这一过程可以使用光学显微镜和扫描电镜(PaticleX Battery 锂电清洁度检测系统)来追溯污染来源。生产设备的金属表面涂覆防护涂层 策略四 比如在金属储罐表面涂覆聚四氟乙烯涂层,以减少浆料中混入金属碎片的风险。/ ParticleX Battery 全自动锂电清洁度检测系统 /文中使用扫描电镜进行的清洁度检测,正是使用飞纳电镜的 ParticleX Battery 锂电清洁度系统完成的。锂电池中金属异物可能导致严重的安全事故,对金属异物的管控也已经成为行业共识。飞纳电镜 ParticleX Battery 全自动锂电清洁度分析系统,从异物颗粒的图像出发,结合颗粒的能谱(成分)信息,可以自动识别、分析和统计铜(Cu)、锌(Zn)、铁(Fe)等金属异物,进而帮助准确分析异物来源,改善生产条件,减少安全事故的发生。- 自动杂质颗粒识别- 自动高清图像采集- 自动能谱成分分析- 自动杂质颗粒分类
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