抛光液

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抛光液相关的耗材

  • 吉致电子JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介:为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法:1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后,粗抛时调节PH11左右,精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法:1.贮存时应避免曝晒,贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存,防止结冰,在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格:吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格亲民。
  • 悬浮抛光液
    悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光,也可用于其它材料的抛光,抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光,悬浮抛光液以液态形式存在,可均匀分布于抛光盘的表面,有利于抛光过程的顺利进行。 产品名称金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光,也可用于其它材料的抛光。产品参数1、金刚石悬浮抛光液粒度:W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.02、二氧化硅悬浮抛光液粒度:50nm 3、氧化铝悬浮抛光液粒度:50nm、80nm
  • 悬浮抛光液
    悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的最后精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的最后精抛。技术参数1、金刚石悬浮抛光液粒度:W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2、W3、W5、W7、W9、W14、W20、W28、W40、W602、二氧化硅悬浮抛光液粒度:50nm3、氧化铝悬浮抛光液粒度:50nm、80nm

抛光液相关的仪器

  • A7000 AD 抛光液检测仪 产品介绍:AccuSizer A7000 AD 采用拥有的单颗粒激光测量技术(SPOS)和动态自动稀释技术实现单颗粒依次检测分析,具有极佳的灵敏度、解析度和精确度,不存在颗粒间相互干扰问题(如:激光衍射整体测量方法)。由于获得的是真实粒度分布,因此测量结果重复性好、准确可靠、统计精度高,特别适于检测分析亚微米颗粒体系中较大颗粒的分布信息。动态自动稀释和清洗系统使得测试方便快捷。 A7000 AD 抛光液检测仪 工作原理:单颗粒光学传感技术(SPOS)经过光感区域的粒子由于大小不同,光强随之产生相应的变化。将探测器收集的光信号转换成电压信号,不同的电压信号对应不同的粒径大小,从而得到微粒的粒径。SPOS技术将光消减和光散射两种物理作用有机的结合起来,通过光消减获得较大的动态粒径范围,通过光散射增加对小粒子的灵敏度,成为一项技术。 A7000 AD 抛光液检测仪 仪器参数:粒径测量范围(可选)0.5 – 400μm1.0 – 400μm3.0 – 1000μm分析方法单颗粒激光测量技术(SPOSPAT)可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池(可选)50 mL、60 mL 、100mL、250mL(动态稀释)磁力搅拌器转速可自由调控 流速(稀释系统)30 – 120 mL/min分析软件(可选)Windows 运行环境,标准软件或符合 21 CFR Part 11 规范分析软件电压220 – 240 VAC,50Hz 或100 – 120 VAC,60Hz外形尺寸主机1(计数器):20 cm *45 cm * 20cm;主机2(自动稀释系统):25cm * 45 cm * 56cm;重量约28kg安装条件稀释流体供给系统,废液池 A7000 AD 抛光液检测仪 配件:传感器LE400-05、LE400-1、LE1000-3测试模块水相和有机相模块选配 A7000 AD 抛光液检测仪 应用领域:混悬剂,乳剂, CMP 化学抛光液, 粉体。 混悬剂颗粒计数检测仪 工作原理:单颗粒光学传感技术(SPOS)经过光感区域的粒子由于大小不同,光强随之产生相应的变化。将探测器收集的光信号转换成电压信号,不同的电压信号对应不同的粒径大小,从而得到微粒的粒径。SPOS技术将光消减和光散射两种物理作用有机的结合起来,通过光消减获得较大的动态粒径范围,通过光散射增加对小粒子的灵敏度,成为一项技术。 混悬剂颗粒计数检测仪 仪器参数:粒径测量范围(可选)0.5 – 400μm1.0 – 400μm3.0 – 1000μm分析方法单颗粒激光测量技术(SPOSPAT)可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池(可选)50 mL、60 mL 、100mL、250mL(动态稀释)磁力搅拌器转速可自由调控 流速(稀释系统)30 – 120 mL/min分析软件(可选)Windows 运行环境,标准软件或符合 21 CFR Part 11 规范分析软件电压220 – 240 VAC,50Hz 或100 – 120 VAC,60Hz外形尺寸主机1(计数器):20 cm *45 cm * 20cm;主机2(自动稀释系统):25cm * 45 cm * 56cm;重量约28kg安装条件稀释流体供给系统,废液池 混悬剂颗粒计数检测仪 配件:传感器LE400-05、LE400-1、LE1000-3测试模块水相和有机相模块选配 应用领域: 医药领域:乳剂,注射剂,脂质体,胶体,混悬剂,滴眼液,高分子,病毒,疫苗等; 半导体: CMP Slurry,芯片,晶圆加工等; 特殊化工品:墨水&喷墨,纳米材料,化工染料,润滑剂,清洗剂等。其他:过滤产品,清洁度方面,食品饮料,化妆品等
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  • Nicomp 380 蓝宝石抛光液检测仪采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布,粒径检测范围0.3nm – 10μm。粒度分析复合采用Gaussian单峰算法和拥有技术的NiComp多峰算法,对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势,其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。整机采用模块化设计,可灵活方便地扩展Zeta电位等其它功能。Nicomp 380 蓝宝石抛光液检测仪 基本概述:Nicomp 380是纳米粒径分析仪器,采用现在先进的动态光散射原理,利用的Nicomp多峰算法可以很准确的分析比较复杂多组分混合样品。为实验室的研究提供最好的分析技术。 测试范围:0.3 nm – 10μm。 产品介绍: Nicomp 380 采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布,粒径检测范围 0.3 nm- 10 μm。粒度分析复合采用 Gaussian 单峰算法和拥有技术的 Nicomp 多峰算法,对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势,其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。 蓝宝石抛光液检测仪 工作原理:动态光散射法(DLS),有时称为准弹性光散射法(QELS),是一种成熟的非侵入技术,可测量亚微细颗粒范围内的分子与颗粒的粒度及粒度分布,使用最新技术,粒度可小于1nm。 动态光散射法的典型应用包括已分散或溶于液体的颗粒、乳剂或分子表征。 悬浮在溶液中的颗粒的布朗运动,造成散射光光强的波动。 分析光强的波动得到颗粒的布朗运动速度,再通过斯托克斯-爱因斯坦方程得到颗粒的粒度。 蓝宝石抛光液检测仪 仪器参数: 粒径测量范围粒度分析:0.3 nm - 10 μm分析方法粒度分析:动态光散射,Gaussian 单峰算法和 NiComp 无约束自由拟合多峰算法pH值范围2 - 12温度范围0℃ - 90 ℃检测角度(可选)粒度分析:90°或 多角度(10°- 175°,可选配)高浓度样品背散射175°背散射可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池4 mL(标准,石英玻璃或有机玻璃);500μL(高透光率微量样品池)分析软件Windows 运行环境,符合 21 CFR Part 11 规范分析软件电压220 – 240 VAC,50Hz 或100 – 120 VAC,60Hz外形尺寸56 cm * 41 cm * 24cm 重量约26kg(与配置有关)蓝宝石抛光液检测仪 配件:大功率激光二极管PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射,以便从小粒子出货的足够的入射光。15mW, 35mW, 50mW, 100mW –波长为635nm 的红色二极管。20 mW 50 mW 和 100 mW 波长为 514.4nm的绿色二极管。 雪崩光电二极管检测器(APD Detector)提供比普通光电倍增管(PMT)高20倍的灵敏度。Zeta 电位模块Zeta电位是确定交替系统稳定性的重要参数,决定粒子之间静电排斥力大小,从未影响粒子间的聚集作用及分散系的稳定。该模块使用电泳光散射(ELS)技术,通过测量带点粒子在外加电场中的移动速度,即电泳迁移率、推算出Zeta电位,实现了粒子的粒径与Zeta电位,实现了粒子的粒径与Zeta电位测定的同机操作。 自动稀释系统模块将初始浓度较高的样本自动稀释至可检测的的浓度,可稀释初始固含量为50%的原始样品,本模块收保护,其可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差,此技术被用于批量进样和在线检测的过程中。 多角度检测系统模块提供多角度的检测能力。使用高精度的步进电机和针孔光纤技术可对散射光的接收角度进行调整,可为微粒粒径分布提供可高分辨率的多角度检测。对高浓度样品(≤40%)以及大粒子多分散系的粒径提供了提供15至175度之间不同角度上散射光的采集和检测。 自动进样器批量自动进样器能实现最多76个连续样本的分析而无需操作人员的干预。因此它是一个非常好的质量控制工具,能增大样品的处理量。大大节省了宝贵的时间。 自动滴定模块样品的浓度及PH值是Zeta电位的重要参数,搭配瑞士万通的滴定仪进行检测,真正实现了自动滴定,自动调节PH值,自动检测Zeta电位值。免除外界的干扰和数据上的误差,精确分析出样品Zeta电位的趋势。 蓝宝石抛光液检测仪 应用领域:适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。 1)磨料 磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。 2)化学机械抛光(CMP) 化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计,对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。 3)陶瓷 陶瓷在工业中的应用非常广泛,从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最终产品的性能和质量。 4)粘土 粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似,但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。 5)涂料 涂料种类繁多,用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。 6)污染监测 粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用,产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范,必须严格遵守和执行,以保证产品满足质量要求。 7)化妆品 无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂,它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收,而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。 8)乳剂 乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系,通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型,一种是水分散在油中,另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶(水包油型)和黄油(油包水型),加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。 9)食品 食品的原料(粉末及液体)通常来源于不同的加工厂,不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使最终制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制(QA/QC)的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。 10)液体工作介质/油 液体工作介质(如:油)越来越昂贵,延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中(如:油浴润滑介质或液力传递介质),因此需要一种方法来确定介质(油)的更换周期。通过监测工作介质(油)中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。 11)墨水 随着打印机技术的不断发展,打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下,且分布均匀,大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方法制得的,可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程,以保证墨水的颗粒粒度分布均匀,避免产生聚集的大颗粒。 12) 胶束 胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后,其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒,这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。 乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO_2纳米管(TNAs)等
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  • 秒准MAYZUM氧化铈抛光液在线浓度检测仪MAY-2001PG在线抛光液密度计、在线抛光液浓度计、抛光液浓度计、在线抛光液浓度检测仪、金刚石抛光液浓度检测仪、氧化硅抛光液浓度检测仪、氧化铈抛光液浓度检测仪、氧化铝抛光液浓度监控仪、在线抛光液浓度测试仪、抛光液在线浓度检测仪、抛光液在线浓度测试仪、在线抛光液波美度测试仪、玻璃抛光液浓度计、玻璃抛光液浓度检测仪、研磨液在线浓度计、氧化硅抛光液浓度计、氧化铈抛光液浓度计、氧化铈波美浓度检测仪、分散剂波美度检测仪、在线抛光液波美浓度计秒准MAY-2001PGY抛光液在线浓度计适用于测量金刚石抛光液、氧化硅抛光液、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液、碳化硅抛光液的浓度波美度值,24小时实时在线监控,客户有伯*光学、比*迪汽车、卡*光学、可*电子……等,多年行业经验,针对抛光液容易产生气泡的痛点,提出多种解决方案,适应用户现场工况,免费提供上门装机服务。我司研发生产:在线光学浓度计、在线密度计、在线PH监控仪、全自动在线加药系统、自动排液系统、防误排误撞系统、台式密度浓度计、便携式折光仪、便携式密度浓度计,自有研发实验室,拥有100多种液体的温度补偿数据库,测量更加准确,承接非标定制单,欢迎咨询适用介质温度-30~120℃,防爆,可选法兰、螺纹、快卡连接,适用于测量氯化钙、酒精、白酒、甲醇、抛光液、硫酸、硝酸、盐酸、氨水、盐水、双氧水、石油、油品、浆料……等三、秒准MAYZUM氧化铈抛光液在线浓度检测仪MAY-2001PG特点描述:1.即插即用,免维护:安装方式灵活(安装于管道、槽体、反应釜、储罐…)、体积小巧,安装方式多样化,可选卡箍/法兰/螺纹安装;2.拥有强大的数据库,内置0-80℃温度补偿数据,克服了单片机内存小,温度补偿范围受限制的缺点。温度传感器与密度探头集成,紧贴测量介质,保证温度补偿及时、准确、可靠;3.不受介质颜色变化影响,不易受振动、压力变化的影响;4.出厂附带标定证书,无需现场校准,也不需要定期校准;5.用户自定义上下限报警,触屏输入,操作简单易懂,现场可接报警灯;6.标配多组信号模拟输出:可选4-20mA、RS485/232数字量、开关量(异常报警,上下限2路输出),便于客户集成控制,提高自动化程度,提高生产效率; 7.采用4.3寸触屏人机交互界面,显示内容更详细,彩色界面,操作便利,可拓展性强,可按用户需求定制界面和功能;8.数据自动保存,便于查询:历史数据查询、生成历史数据曲线,快捷查询、导出EXCEL,自动数据分析与汇总,数据保存周期12个月,便于溯源(需选配MAY-LST历史数据存储功能);9.支持sqlite数据库,可存储高达16G的历史数据,数据可通过U盘导出到电脑或者通过无线远传功能实时远传至PLC、PC、DCS等上位机系统;通过PC远程查看实时状态与报警。(需选配MAY-LOT数据远传模块)10.连续测量,迅速反馈,消除人工检测误差,不再需要人工频繁取样检测,节省大量人力财力,保证数据一致性,提升产品质量;11.采用智能化芯片,运行无需试剂耗材,功耗低,稳定性高,使用寿命长。四、秒准MAYZUM氧化铈抛光液在线浓度检测仪MAY-2001PG规格参数选型表:产品型号MAY-2001MAY-2001H测量项目密度g/cm³ 、温度℃、浓度%、波美度°Bé密度范围0-2.0g/cm³ 浓度范围0-100%分辨率0.001g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé0.0001g/cm³ 、0.1℃、0.01%、0.01°Bé测量精度±0.002g/cm³ 、0.1℃、0.5%、0.5°Bé±0.0005g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé测量温度-25℃-120℃温度补偿自动温度补偿,0-80℃环境温度-20℃-80℃关键部位材质£ 哈氏合金 £ 316L £ PTFE输入电源24V DC信号输出£ 4-20mA、£ RS485/232数字量、£ 开关量(异常报警,上下限2路输出)防护等级IP67耐压范围≤20MPa介质粘度0-2000cP(更高粘度请选择MAY-5001S)电气接口探头接口:M12*1.5、显示控制器接口:M16*1.5防爆等级£ MAY-2001常规款 £ MAY-2001EX本安型防爆 Ex ia IIB T6 Ga整机净重≈1050g≈1250g安装选项MAY-Y11卡箍弧形安装底座、MAY-PPR13三通管道、MAY-SS304L13三通管道……其他选项MAY-LST历史数据存储功能、MAY-LOT数据远传模块特殊标度非标定制,按客户需求建立数据模型
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  • 【资料】铜的抛光液

    抛光液化学组成为1%HN O3+1%B TA+0.2%H2O2较适宜.研究了腐蚀介质硝酸、成膜剂苯并三唑、H2O2、磨粒g-A12O3的浓度、抛光压力及抛光转速对铜化学-机械抛光速率的影响,解释了各种因素的影响机理. 配方0.1%甲胺溶液+0.5%K3Fe(CN)6+5%Al2O3可行.

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  • QMAXIS金相抛光液,让我对样品有了期盼
    我们都知道在实验室进行金相磨抛时,想要得到一个自己满意,客户认可的样品,需要使用到多种金相磨抛耗材,在金相磨抛机上经过多次磨抛才能完成。所以,毫不夸张的说,选择什么样的金相磨抛耗材就决定了你可以收获到什么样的样品。 可脉小编今天就为大家带来金相磨抛过程中不可或缺的一款耗材,一款可以让你轻松高效且满意的磨抛耗材。它就是来自美国QMAXIS原装进口的金相抛光液,是用于高品质的金相制样抛光的,微米级、纳米级的金相抛光液。 美国QMAXIS金相抛光液,分为金刚石研磨抛光液和氧化铝/氧化硅抛光悬浮液。详情介绍如下: 金刚石抛光液:为金相制样研磨、抛光工序常用的微米级的金刚石抛光剂,手工抛光、自动抛光均适用。有单晶、多晶;水基、油基;浓缩型,常规型等多种型号可供大家选择,无毒环保,基本可以满足各种材料的研磨抛光需求。 氧化铝/氧化硅抛光悬浮液:为高品质纳米级氧化物抛光材料,包括氧化铝、氧化硅、硅-铝混悬浮液,是各种材料的抛光理想抛光剂,可以精致地再现材料微观结构。 美国QMAXIS的原装进口金相抛光液不光好用,性价比也很高。而且种类多,型号全,真正做到了可以满足各种材料的金相抛光所需。所以,有需要金相抛光液的小伙伴们赶紧来可脉检测选购吧!
  • 一文看懂不同材料如何使用氧化铝抛光液抛出理想表面!
    铝合金、镁合金、硬钢、软钢、陶瓷涂层,印刷线路板?这么多种类材料的金相样品制备,精细磨抛如何用氧化铝抛光液抛光?只知道一般情况,末道工序要使用0.05μm的氧化铝抛光液。但是需要抛光多长时间呢?加载力是多少N呢?是否需要加水?......。对于刚入行的金相小白,对如何使用氧化铝抛光液抛光还真是一头雾水,有点懵圈......,只有恰当使用氧化铝抛光液抛,才能快速抛光出理想表面!可脉检测小编让您一文看懂,不同材料如何使用氧化铝抛光液抛出理想表面,希望能帮到你。在氧化铝抛光液的家族中,粒度径有0.05μm、0.3μm和1μm等多个粒度径型号,其中0.05μm的使用较多,主要用于金相样品的末尾一道抛光工序,可有效去除微小划痕,理想再现材料的微观组织形貌。依据各种类材料的性质不同,氧化铝抛光液在使用方法上略有差别。小编依据日常实验经验,整理出常见材料制备时的具体使用方法,列表如下:以上是0.05μm氧化铝抛光液,在对不同材料样品抛光时的使用方法,供大家参考。温馨提示:1、抛光过程中,当磨盘相对转数500转以上快速抛光时,则需要添加抛光冷却润滑液或者 水。 添加时,注意流速要慢些再慢些,以确保氧化铝磨料颗粒不被水流冲离抛光布而造成浪费。2、对于易氧化的材料,千万不可加水,换成酒精作为冷却润滑剂是不错的方法。介绍这么多对氧化铝抛光液的使用方法,你看懂了吗?如有疑问可随时联系可脉检测的应用工程师咨询。
  • 这款金刚石抛光液,给盛夏的实验室带来了清凉!
    8月的夏日,骄阳似火,蝉鸣蛙叫,南京的这个夏天酷热难挡,空气里带着热浪,炽热的太阳,照着烈日下每个忙碌的身影,人们穿梭在高楼林立的城市水泥森林中,赶路,上班,送快递,送外卖,即便是挥汗如雨,也不能停下脚步。带着满脸汗水,走进实验室,今天要给一家研究所做个电路板的金相试样,看到实验台上的金刚石抛光液,立刻忘记了炎热,心情倍感清新凉爽,有了这瓶金刚石抛光液,制备这个试样,就放心、安心、省心了。分享一下这个产品吧,希望也给你的夏日实验室带去一缕清凉。这款原装进口美国QMAXIS(可脉)金刚石抛光液,金刚石浓度高,纯度高,微粉粒径一致,分散均匀,性能稳定,且无毒环保。金刚石抛光悬浮液磨削能力强,去除率高,表面一致性效果好,抛光表面效果好,能满足各种材料的金相研磨、抛光需求,使金相试样的研磨和抛光既有速度,又有质量。手动抛光和自动抛光均适用,这款金刚石抛光液有多种规格型号可选:PolyDia 水基多晶金刚石抛光液MonoDia 水基单晶金刚石抛光液ComboDia 水基单晶金刚石混合抛光液OilDia 油基单晶金刚石抛光液手动抛光和自动抛光均适用。 八月里,这瓶经济又实用的,原装进口美国QMAXIS(可脉)金刚石抛光液,滴入飞速旋转的湿润的抛光布上,仿佛是给被抛光的试样注入了一丝清凉,也给整个实验室带来了盛夏里的凉爽,更是激发出了老师和同学们的工作热情。经历火热的八月,体会盛夏的味道,成就不一样的自己,一定会有更多的收获。
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