光学膜

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光学膜相关的耗材

  • 无镀膜光学基底
    镀膜光学基底镀膜光学基底通过降低光楔，最大限度减少发射光束的角度偏差和对准误差。 表面质量高，波前失真小，适用于消色差束采样等。圆形基板的楔形10 arc sec,矩形或矩形基板的楔形 arc min低楔形选项：30±5arc min镀膜光学基底大楔形选项：1°或3。镜片材料：FS和BK-7。传播波前误差：λ/10@633nm，表面质量10-5。通光孔径大于85%，光楔30±5arc min。基底、尺寸和镀膜均支持定制。
    供应商： 先锋科技（香港）股份有限公司
    品牌： CVI
    价格： 面议
  • 光学薄膜测厚仪配件
    教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
    供应商： 孚光精仪（中国）有限公司
    品牌： 孚光精仪
    价格： 面议
  • 普通封板膜、光学封板膜
    特点 Characteristics粘合力强，密封性好，防止样品蒸发与污染 无DNase、RNase，无热源 光学封板膜透光率好 与96孔白色PCR板组合使用可增强荧光信号，提高数据准确度应用 Application普通封板膜用于定性PCR，光学封板膜用于荧光定量PCR‍
    供应商： 德瑞科仪（广州）科技有限公司
    品牌： 杭州博日科技
    价格： 面议
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光学膜相关的仪器

  • ZTB系列半膜片式薄型气浮隔振光学平台 400-628-5299
    特点：? 采用半膜片式空气弹簧，隔振性能好，固有频率通常小于1.5～3Hz。? 整体焊接支架，具有更好的刚性和稳定性，支架上下均带高度调整机构。? 台面材料为SUS410铁磁不锈钢，具有较好的耐腐蚀性能。? 台面厚度50/100/150/200mm，具有很好的厚重比和刚性。台面侧面采用灰色铝塑板包边，美观、实用。? 性价比非常高的科研级气浮隔振光学平台。说明：ZTB 系列是卓立汉光采用：整体焊接支架、半膜片式空气弹簧、薄型铁磁不锈钢台面（同OTB 台面）的气浮隔振光学平台，整体高度800mm，分为气浮式支架和台面两部分。台面整体为三层夹心式蜂窝结构，采用焊接工艺（非胶粘工艺），没有松动、开裂、脱落等困扰。上台面材料为SUS410 铁磁不锈钢，具有较好的耐腐蚀性能。厚度根据尺寸设计为：50/100/150/200mm，具有很好的硬重比和刚性。台面采用精密磨削工艺，台面的平面度达到0.1mm/600mm×600mm，台面上按照25mm×25mm 孔距均布M6 螺纹孔，方便安装各类位移台和调整架。气浮支架采用半膜片式空气弹簧，气室为二层结构，采用整体焊接四支撑结构（3 米及3 米以上为六支撑），下方采用阻尼隔振垫，隔振性能较好，固有频率一般小于1.5 ～ 3Hz。3 个进口水平调节阀反应灵敏，响应时间短。调整高度机构分为两部分：支架下方（每个支撑腿下方）还具有高度调整机构，可解决地面不平引起的支架扭曲、变形等现象。支架上方采用三个特有的高度调整机构，可以调整高度和台面水平。ZTB 系列平台不带脚轮，若需要带脚轮的整体焊接支架，可选择卓立汉光其他气浮平台产品。ZTB 系列产品刚性强、稳定性好、隔振效果好、性价比高，适合于对隔振要求较高的环境使用。技术指标：? 自动充气，自动平衡，响应时间短，平衡速度快? 固有频率：＜1.5～3Hz，同负载和实际使用情况相关? 标配静音无油空气压缩机，工作压力：3～7Kg/cm2? 气浮支撑：半膜片式空气弹簧，支撑腿内部还有二级气室，进一步提升隔振性能? 台面结构：三层夹心式蜂窝结构? 上台面：4～6mm厚SUS410铁磁不锈钢? 台面内部支撑：钢制井字形蜂窝状支撑结构，焊接工艺，强度高? 下底面：4～6mm厚碳钢，表面喷黑塑处理? 侧板：内层碳钢板，外层为灰色铝塑板，美观、实用，四角用不锈钢板包角? 厚度：50/100/150/200mm，详见选型表? 平面度：0.1mm/600mm×600mm，同国际同类产品一致? 支架：整体焊接式四或六支撑结构（3米为六支撑），具有更好的刚性和稳定性，支架带上下两套高度（水平）调整机构。? 台面加支架总高度800mm，总高度可调范围：-10～+15mm? 孔距：25mm×25mm；孔径：M6? 台面重量：50mm厚台面约：110Kg/m2，100mm厚台面约：120Kg/m2150mm厚台面约：130Kg/m2，200mm厚台面约：140Kg/m2选型表：
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    厂商： 北京卓立汉光仪器有限公司
    品牌： 卓立汉光/ZOLIX
    型号： ZTB系列
    价格： 1万 - 3万元
  • Zygo光学元件光学镀膜
    Zygo光学元件光学镀膜ZYGO世界一流的镀膜设计工程师和技术人员与我们的计量和光学制造团队紧密合作，为我们的客户提供“一站式购物”体验。这简化了您的供应链，降低了项目风险和整体时间。如果您的基材在镀膜后必须满足所有要求，请选择一个单一的垂直整合制造商。反射涂层保护性和增强金属（金、银、铝）铬镍铁合金、镍、铬和钛多层定制电介质设计减反射涂层UV到MWIR光谱范围（248nm到5μm）宽带（BBAR），单频或双频，还提供定制设计EMI网格上的减反射涂层特殊涂层高LIDT，包括飞秒激光应用滤波器分光镜ZYGO的优势工程设计、制造、计量、镀膜一应俱全直径达45英寸[1145mm]和重量达300磅[136kg]的大型基板在各种材料上沉积定制镀膜设计根据标准MIL、ISO规格在内部进行环境和耐久性测试成熟的涂层应力补偿技术ZYGO业界领先的计量系统会在镀膜后对所有规格进行认证我们还提供涂层翻新服务
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    厂商： Zygo
    品牌： 翟柯
    型号： 光学镀膜
    价格： 面议
  • 便携式光学膜厚仪 400-860-5168转3827
    便携式膜厚仪FR-pOrtable是一种独特的 USB 供电解决方案，用于对透明和半透明单层薄膜或薄膜叠层进行准确和精确的无损表征。FR-pOrtable 可以在 370-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量。FR-pOrtable 的紧凑设计保证了测量的高度准确和可重复性。FR-pOrtable，既可以安装在提供的平台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具，放置在被表征的区域上。通过这种方式，FR-pOrtable 是适用于现场应用的光学表征工具。可以测量反射率、透射率、吸收率和颜色参数FR-portable 便携式膜厚仪主要由以下系统组成：Α) 白炽-LED混合集成式光源系统，通过内嵌式微处理器控制，使用寿命超过20000小时。小型光谱仪，光谱范围370nm –1050nm,分辨精度可达3648像素， 16位级 A/D 分辨精度；配有USB通讯接口。Β) FR-Monitor膜厚测试软件系统可精确计算如下参数：1）单一或堆积膜层的厚度； 2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。C) 参考样片：a) 经校准过的反射标准硅片；b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片；c) 经校准过的带有Si3N4/SiO2/Si特征区域的样片；D) 反射探针台和样片夹具可处理的样品尺寸达200mm, 包含不规则的尺寸等；手动调节可测量高度可达50mm；可针对更大尺寸订制样片夹具；Ε) 反射率测量的光学探针内嵌系统6组透射光探针200μm, 1组反射光探针200μm；
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    厂商： 迈可诺技术有限公司
    品牌： 未知
    型号： FR-portable
    价格： 10万 - 20万元
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  • 光学膜

    光学膜上存在异物点，想分析其成分，该如何做

  • 【资料】菲涅耳公式与薄膜光学

    菲涅耳公式与薄膜光学[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=63167]菲涅耳公式与薄膜光学[/url]

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  • 光学薄膜的真空镀膜设备
    光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (PlasmaSystem)　 G-12100（&phi 35ccx20） 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    时间： 2008-12-28
    作者： 艾泰克
  • 薄膜光学重点实验室揭牌
    军工企业在本市首家重点实验室——天津市薄膜光学重点实验室正式揭牌。该所依托于中国航天科工集团八三五八研究所建设，在薄膜光学领域具有很强的基础研究、技术开发和工程应用能力，为航天、航空、船舶等诸多国家重大或重点工程项目研制、开发做出了重要贡献。现承担国家级重大军工项目，工艺攻关课题两项、省部级科研项目十余项。 　　据介绍，该实验室主要研究领域为薄膜光学理论及应用，以薄膜光学中的理论问题、前沿问题和国家需求为主要研究内容，以获取原始创新成果和自主知识产权为主要研究目标，以基础研究和高新工程应用相结合为特色，形成了激光光学薄膜、超硬光学薄膜、光电功能薄膜三大研究方向。
    时间： 2009-08-21
    作者： sunny
  • 保护隐私 拒绝偷窥—防窥膜的光学性能评价
    随着科学技术的发展，计算机的便携性，智能手机的大屏性，使得人们在日常生活和工作中使用广泛，据调查，大部分使用者都有在公共场合被人偷窥屏幕的经历，因此，保护隐私成为当务之急。防窥膜可以保证使用者在垂直方向清楚看清屏幕内容，在倾斜方向看到黑屏状态，有效的保护使用者的隐私。防窥膜的这种特点是在于膜对倾斜角度的入射光透过率极低，在垂直角度时透过率高。因此，测定膜在入射光角度不同时的透过率曲线，对防窥膜的光学性能评价至关重要。 日立紫外可见近红外分光光度计UH4150，由于其优良的光学特点，是材料光学性能分析的主要工具，可用于评价防窥屏幕保护膜的光学性能。应用仪器之测量附件 由于从不同角度看电子屏幕，防窥膜呈现的结果不同，因此我们需要选择可以改变入射光角度的测量附件，测定防窥膜在不同角度处对可见光的透过率。此次实验我们使用角度可变透射附件（图1）。当透过光谱的入射角度大于等于12°时，样品的偏振特性显著，则需要安装偏振器测定偏振光的透过率，如S和P的偏振，计算两组分偏振的平均值作为样品的透过率值。 应用仪器之软件包 防窥膜的有效性需要依据人类的视力情况评定，而实际的可见度将随光源的变化而变化，因此，需指定光源。依据日本工业标准JIS R3106，选定D65作为光源，测定可见光区的透过率。基于JIS R3106计算可见光区的透过率，不需要人工进行，将对应软件包嵌入UV solution仪器软件中即可实现自动计算。防窥膜透过率测定实例我们对一种防窥膜进行了不同角度的透射率测定，评定其不同角度的光学性能。通过实验分析，可以发现防窥膜在不同倾斜角度的可见光透过率不同，随着倾斜角度的增加，透过率逐渐降低。倾斜角度为40°时，透过率达到了0.03%T，可以有效防止他人偷窥屏幕信息。隐私泄露已经成为一个社会焦点问题，对隐私的保护不仅是对个人人格独立和自由的维护，还有助于促进社会和谐。日立集团以“高科技解决方案创造价值”这一基本理念，使用自主研发技术，为促进社会稳定和谐做出贡献。具体详细应用数据请见：https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102446/s909883.htm日立高新技术公司是日立集团旗下的一家仪器设备子公司。全球雇员超过10000人，在世界上26个国家及地区共有百余处经营网点。企业发展目标是"成为独步全球的高新技术和解决方案提供商"，即兼有掌握先进技术水准的开发、设计、制造能力和满足企业不同需求的解决方案提供商身份的综合性高新技术公司。其产品涵盖半导体制造、生命科学、电子零配件、液晶制造及工业电子材料。其中，生命科学领域产品包括电子显微镜、原子力显微镜和分析仪器（色谱、光谱、热分析）等。
    时间： 2019-03-26
    作者： 日立科学仪器
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