高精度薄膜测量设备

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高精度薄膜测量设备相关的厂商

  • 上海博众测量技术有限公司致力于为制药、生命科学、微电子、锂电池、航空航天、钢铁、交通、电力、烟草、空分、净化、除湿干燥等行业的客户提供受控环境、过程气体以及大气环境监测所需的温湿度、露点、压力、二氧化碳及其他气体浓度分析、风速风向等关键控制参数的测量、记录、监测、验证解决方案。我们还可以为客户提供从测量方案设计、测量产品的选型推荐、销售、成套、系统集成、软件编制、IQOQ验证等软硬件产品,并可为所供产品或系统提供在生命周期的内的维保及计量校准服务。因为我们专业、诚信所以值得您的信赖!品牌及合作伙伴:l 芬兰VAISALA : 温湿度、露点、二氧化碳、油中水分、 大气压、风速风向等气象测量产品l 英国MICHELL : 湿度发生器、镜面露点仪、碳氢露点及氧气测量、干燥等标准设备l 美国GE DRUCK : 压力测量传感器及变送器、压力及电信号校验设备l 美国SETRA: 微差压测量变送器、微差压开关、微差压校验仪l 美国TSI: 便携式室内空气参数测试仪器、便携式粉尘仪、质量流量计等l 加拿大VERITEQ :高精度温湿度一体记录仪 、高精度温度度记录仪、热电偶记录仪 模拟 信号记录仪、EMS监测系统、GMP/FDA/GSP温湿度分布、验证l 德国TESTO : 持式多功能测量仪表l Airmonic :温湿度、露点、结露预警、二氧化碳、气象、IAQ、烟气排放、压 力等环境及过程流体的数据测量、传输、监测、记录、分析的方案 提供和系统集成,以及成套业务l Bodhi: 露点测量变送器、二次显示仪表、一体化监测处理系统、一体化测量变送器、便携式采样系统、温湿度监测系统、室内空气品质测量变送器等
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  • 400-860-5168转5104
    江苏雷博科学仪器有限公司2013年9月成立于江苏江阴,是一家初期以高档专业的实验室仪器开发为目标的海归创业企业。2020年8月,江苏雷博科仪通过资源整合,将雷博科仪中发展起来的的工业半导体设备业务分拆出来成立了江苏雷博微电子设备有限公司。两家公司使用同一品牌,独立经营不同系列产品。公司主营高档实验室仪器及半导体设备开发业务。公司技术力量雄厚,人才济济,凭借雄厚的技术实力不断进行新产品开发和创新实现,在纳米薄膜制备类仪器领域取得了显著的市场地位。公司生产的高精度高可靠性匀胶机荣获江苏省高新技术产品,是国内匀胶机全系列、多功能、定制 化服务的知名品牌供应商。 公司生产和销售不同领域的高档科研仪器和工业半导体设备:Schwan technology是我们的纳米薄膜制备类设备品牌,主要有匀胶机、显影机、烤胶机、提拉机、喷胶机、涂膜机、狭缝涂布机等相关产品;LEBO science是我们的工业半导体设备品牌,主要有匀胶机、显影机、蚀刻机、去胶机、清洗机等独立柜式机台及工业全自动机台。 公司产品被广泛应用于纳米薄膜制备需求的钙钛矿薄膜太阳能、有机光电、MEMS、声表、光通讯、化合物半导体及先进封装等领域,具有核心技术可靠、高性价比、定制化服务的竞争优势。
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  • 东莞市九品测量设备有限公司是一家集开发、生产、销售、服务于一体的企业,销售各类直流电源、稳压电源、变频电源,及专业开发生产各类轻触开关,旋转开关、档位开关,行程开关、薄膜开关机械寿命测试仪、电位器旋转寿命测试仪,根据客户所提出的产品技术要求量身制做,为客户打造属于自己的专业检测仪器,同时经营各类电子测量仪器设备,所生产经营产品广泛用于五金、电子、塑胶,模具,印刷等众多行业,本着诚信是金的经营理念,为客户提供高品质、高效能的检验仪器设备。 主营产品: 一、开关式直流稳压电源,线性直流稳压电源,变频电源。二、各类全自动开关寿命测试仪,电位器寿命测试仪。三、数字电桥,信号发生器,频率计,功率计,示波器,万用表。四、电阻测试仪,噪音计、照度计、风速计、转速计。
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高精度薄膜测量设备相关的仪器

  • 包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪仪器名称:CHY-02测厚仪制造商:山东泉科瑞达仪器设备有限公司仪器品牌:泉科瑞达包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪是一种高精度的测量设备,主要用于测量塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度。以下是对接触式包装薄膜厚度测量仪的详细介绍:包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪产品特征高精度测量:采用机械接触式测量原理,通过精密的位移传感器测量薄膜材料的厚度。自动升降测头:在测试过程中,测量头自动升降,减少人为因素造成的误差。操作简便:配备大液晶屏显示,操作界面直观,支持手动和自动两种测量模式。数据管理:实时显示测量结果,包括最大值、最小值、平均值和标准偏差,方便数据分析。系统标定:配置标准量块用于系统标定,确保测试精度和数据一致性。打印功能:系统支持数据实时显示、自动统计和打印,方便获取测试结果。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪技术参数测试范围:0~2mm(标配),可选配0~6mm或0~12mm的测量范围。分辨率:0.1μm,确保极高的测量精度。测量压力:17.5±1 kPa(薄膜),50±1 kPa(纸张),适应不同材料的测量需求。接触面积:50mm² (薄膜),200mm² (纸张),可根据测试材料选择。电源:AC 220V 50Hz,符合多数实验室的电源要求。外形尺寸:设备体积适中,便于实验室内安置。净重:大约26kg,便于移动和携带。执行标准该仪器符合多项国家和国际标准,如GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、BS 3983、BS 4817等。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪应用领域广泛应用于塑料薄膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度测量,适用于包装材料生产过程中的质量控制、研发与技术创新等领域。仪器配置标准配置通常包括主机、微型打印机、标准量块等。可选配件包括专业软件、通信电缆、配重砝码盘、配重砝码等。
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  • 高精度薄膜片材测厚仪 厚度测量仪 仪器简介:行业标准中关于薄膜、片材、铝箔铜箔片等厚度的测量采用的接触式测量方式,济南赛成科技根据GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ASTM D645等标准研发的CHY-CA薄膜测厚仪即为该测量方式。CHY-CA仪器采用进口优质传感器,测厚分辨率高达0.1微米选用优质传动元件,确保了试验结果的稳定性与准确性。赛成 CHY-CA高精度薄膜、片材测厚仪 性能特点: (1)严格按照标准设计的接触面积和测量压力,同时支持各种非标定制?(2)测试过程中测量头自动升降,有效避免了人为因素造成的系统误差?支持自动和手动两种测量模式,方便用户自由选择。(3)实时显示测量结果的大小极限值、平均值以及标准偏差等分析数据,方便用户进行判断?(4)系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能,方便快捷地获取测试结果赛成 CHY-CA01高精度薄膜、片材测厚仪测试标准ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672、GB/T 451.3、 GB/T 6547、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817赛成 CHY-CA01高精度薄膜、片材测厚仪 应用领域基础应用:薄膜、薄片、隔膜 、纸张、纸板 、箔片、硅片 、金属片 、纺织材料 、固体电绝缘体 、无纺布材料,如尿不湿、卫生巾片材等赛成 CHY-CA01高精度薄膜、片材测厚仪 技术指标测试范围: 0~2 mm(常规)0~6 mm;10 mm(可选)分辨率 :0.1 μm测量速度 :10 次/min (可调)测试压力 :17.5±1 KPa(薄膜);50±1 KPa(纸张)接触面积 :50 mm2(薄膜);200 mm2(纸张)注:薄膜、纸张任选一种;非标可定制进样步距 :0~1000 mm进样速度 :0.1~99.9 mm/s电 源 :AC 220V 50Hz外形尺寸 :461 mm(L)× 334 mm(W)× 357 mm(H)净重 :32 kg
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  • 高精度薄膜测厚仪 400-860-5168转3947
    高精度薄膜测厚仪应用领域对有些材料而言,厚度测量是衡量材料质量的基础手段。测量的对象往往是对厚度有较高要求的材料,例如薄膜、塑料、橡胶、纸张、纺织品、金属箔片(铝箔、铜箔、锡箔等)、板材等等。测量厚度的目的也逐渐由控制外观质量发展成为保证材料进一步完善加工的主要方法。因此,以节约成本、提高工业化生产效率为目的,材料厚度的测量受到了各行各业的广泛关注。 薄膜等包装材料厚度是否均匀一致,是检测薄膜各项性能的基础。薄膜厚度不均匀,不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等,更会影响薄膜的后续加工。厚度测量仪适用于2mm范围内各种薄膜、复合膜、纸张、金属箔片等硬质和软质材料厚度精确测量。 技术特征 配备微型打印机,数据实时显示、自动统计、打印,方便快捷地获取测试结果 打印大,小值、平均值及每次测量结果,方便用户分析数据 仪器自动保存至多100组测试结果,随时查看并打印 标准量块标定,方便用户快速标定设备 配备专用自动进样器,可一键实现全自动多点测量,人为误差小 软件提供测试结果图形统计分析,准确直观地将测试结果展示给用户 配备标准RS232接口,方便系统与电脑的外部连接和数据传输 技术参数 测量范围 0-2mm (其他量程可定制 分辨率 0.1um 测量速度 10次/min(可调) 测量压力 17.5±1kPa(薄膜);100±1kPa(纸张) 接触面积 50mm² (薄膜),200mm² (纸张) 注:薄膜、纸张任选一种 进样步矩 0 ~ 1300 mm(可调) 进样速度 0 ~ 120 mm/s(可调) 机器尺寸 450mm×340mm×390mm (长宽高) 重 量 23Kg 工作温度 15℃-50℃ 相对湿度 高80%,无凝露 试验环境 无震动,无电磁干扰 工作电源 220V 50Hz 参照标准 GB/T6672(塑料薄膜与薄片厚度的测定机械测量法)、GB/T451.3(GB/T451.3纸张和纸板厚度测定方法)、GB/T6547(瓦楞纸板的厚度测量准则)、ASTMD645、ASTMD374、ASTMD1777、TAPPIT411、ISO4593、ISO534、ISO3034、 DIN53105、DIN53353、JISK6250、JISK6328、JISK6783、JISZ1702、BS3983、BS4817 GB/T 6618-2009《硅片厚度和总厚度变化测试方法》 产品配置 标准配置:主机、标准量块、微型打印机 选用配置:软件、通信电缆、测量头、配重砝码、自动进样器高精度薄膜测厚仪此为广告
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  • NanoMOKE3助力科学家实现超高精度磁矩测量
    超高精度的磁性质测量是科学工作者一直追求的目标,高精度的磁探测技术能够获得更加丰富的信息,对科学研究具有重要的意义。 英国Durham公司是依托于英国Durham大学的高科技企业。与Durham大学的磁光学研究相对应,Durham公司设计并制造了当前上性能高,功能强大的磁光克尔效应系统——NanoMOKE3,兼具Kerr显微镜与超高灵敏度磁强计,可实现1 x 10-12 emu精度的磁矩测量。 近日,德国马克斯-普朗克研究所(Max Planck Institute, MPI)的G. Dieterle等在NanoMOKE3系统上,通过引入新的测试方法和自己搭建的锁相技术,探测到了信号为1.5 x 10-17 Am2 = 1.5 x 10-14 emu的votex permalloy合金的磁性信号,比NanoMOKE3设备本身的精度高出2个数量。表明NanoMOKE3不仅是一款为方便的高性能磁光克尔检测系统(开机即用,无需调试光路),同时也是一个可以进行改造并观测更好结果的高端测量平台。图片来自Applied Physics Letters 108, 022401(2016) 上图为G. Dieterle等做检测500nm区域示意图,红色部分代表激光光斑大小。NanoMOKE3所使用的激光大小为2μm,所以大家通常认为限分辨精度应该是2μm。G. Dieterle等通过引入自己的锁相技术并进行多次积分减少噪音,检测了500nm的votex结构及翻转情况。相关文章于2016年1月发表在Applied Physics Letters上(Applied Physics Letters 108, 022401(2016);doi:10.1063/1.4939709)。 NanoMOKE3对于纵向、横向以及向磁光克尔效应都非常灵敏,成为研究磁性薄膜以及磁性微结构理想的测量工具,在很多研究领域都有广泛的应用。该系统集成了光学模块,方便了测试,同时预留了很多接口,方便用户的拓展,是一款功能强大的磁光克尔效应测量平台。NanoMOKE3磁光克尔效应系统相关产品兼具克尔显微镜与超高灵敏度的磁光克尔效应系统-NanoMOKE3:http://www.qd-china.com/products2.aspx?id=30Microsense大型磁光克尔效应测量系统:http://www.qd-china.com/products2.aspx?id=286关于Quantum Design Quantum Design是的科研设备制造商和仪器分销商,于1982年创建于美国加州圣迭戈。公司生产的 SQUID 磁学测量系统 (MPMS) 和材料综合物理性质测量系统 (PPMS) 已经成为公认的测量平台,广泛的分布于上几乎所有材料、物理、化学、纳米等研究领域的实验室。2007年,Quantum Design并购了欧洲大的仪器分销商LOT公司,现已成为著名的科学仪器领域的跨国公司。目前公司拥有分布于英国、美国、法国、德国、巴西、印度,日本和中国等地区的数十个分公司和办事处,业务遍及全球一百多个和地区。中国地区是Quantum Design公司活跃的市场,公司在北京、上海和广州设有分公司或办事处。几十年来,公司与中国的科研和教育领域的合作有成效,为中国科研的进步提供了先进的设备以及高质量的服务。
  • 金刚石薄膜热导率测量的难点和TDTR解决方案
    金刚石薄膜热导率测量的难点和TDTR解决方案金刚石从4000年前,印度首次开采以来,金刚石在人类历史上一直扮演着比其他材料引人注意的角色,几个世纪以来,诚勿论加之其因稀缺而作为财富和声望象征属性。单就一系列非凡的物理特性,例如:已知最硬的材料,在室温下具有最高的热导率,宽的透光范围,最坚硬的材料,可压缩性最小,并且对大多数物质是化学惰性,就足以使得其备受推崇,所以金刚石常常被有时被称为“终极工程材料”也不那么为人惊讶了。一些金刚石的物理特性解决金刚石的稀缺性的工业方案:金刚石的化学气相沉积(CVD)高温高压但是因为大型天然钻石的成本和稀缺性,金刚石的工业化应用一致非常困难。200 年前,人们就知道钻石是仅由碳组成(Tennant 1797),并且进行了许多尝试以人工合成金刚石,作为金刚石在自然界中最常见的同素异构体之一的石墨,被尝试用于人造金刚石合成。虽然结果确被证明其过程是非常困难因为石墨和金刚石虽然标准焓仅相差 2.9 kJ mol-1 (Bundy 1980),但因为一个大的活化势垒将两相隔开,阻止了石墨和金刚石在室温和大气下相互转化。有趣的是,这种使金刚石如此稀有的巨大能量屏障也是金刚石之所以成为金刚石的原因。但是终究在1992年,一项称之为HPHT(high-pressure high-temperature)生长技术的出现,并随着通用电气发布为几十年来一直用于生产工业金刚石的标准技术。在这个过程中,石墨在液压机中被压缩到数万个大气压,在合适的金属催化剂存在下加热到 2000 K 以上,直到金刚石结晶。由此产生的金刚石晶体用于广泛的工业过程,利用金刚石的硬度和耐磨性能,例如切割和加工机械部件,以及用于光学的抛光和研磨。高温高压法的缺点是它只能生产出纳米级到毫米级的单晶金刚石,这限制了它的应用范围。直到金刚石的化学气相沉积(CVD)生产方法以及金刚石薄膜的出现,该金刚石的形式可以允许其更多的最高级特性被利用。金刚石的化学气相沉积(CVD)生产方法相比起HPHT 复制自然界金刚石产生的环境和方法,化学气相沉积选择将碳原子一次一个地添加到初始模板中,从而产生四面体键合碳网络结果。化学气相沉法,顾名思义,其主要涉及在固体表面上方发生的气相化学反应,从而导致沉积到该表面上。下图展示了一些比较常见的制备方法金刚石薄膜一旦单个金刚石微晶在表面成核,就会在三个维度上进行生长,直到晶体聚结。而形成了连续的薄膜后,生长方向就会会限定会向上生长。因此得到的薄膜是具有许多晶界和缺陷的多晶产品,并呈现出从衬底向上延伸的柱状结构。不过,随着薄膜变厚,晶体尺寸增加,而缺陷和晶界的数量减少。这意味着较厚薄膜的外层通常比初始形核层的质量要好得多。下文中会提到的在金刚石薄膜用作热管理散热器件时,通常将薄膜与其基材分离,最底部的 50-100 um 是通过机械抛光去除。尽管如此,在 CVD 过程中获得的金刚石薄膜的表面形态主要取决于各种工艺条件,导致其性能表现个不一致,相差很大。这也为作为散热应用中的一些参数测量,例如热导率等带来了很大挑战。金刚石薄膜的热管理应用金刚石薄膜在作为散热热管理材料应用时,有着出色的前景,与此同时也伴随着巨大挑战。一方面,而在热学方面,金刚石具有目前所知的天然物质中最高的热导率(1000~2000W/(mK )),比碳化硅(SiC)大4倍,比硅(Si)大13倍,比砷化稼(GaAs)大43倍,是铜和银的4~5倍,目前金刚石热沉片大有可为。下图展示了常见材料和金刚石材料的热导率参数:另一方面,但人造金刚石薄膜的性能表现,往往远远低于这一高水平。并且就日常表现而言,现代大功率电子和光电器件(5G应用,半导体芯片散热等)由于在小面积内产生大量热量而面临严重的冷却问题。为了快速制冷,往往需要一些高导热性材料制成的散热片/散热涂层发热端和冷却端(散热器,风扇,热沉等等)CVD 金刚石在很宽的温度范围内具有远优于铜的导热率,而且它还具电绝缘的优势。早在1996年沃纳等人就在可以使用导热率约为 2 W mm-1 K-1 的大面积 CVD 金刚石板用于各种热管理应用。 包括用于集成电路的基板(Boudreaux 1995),用于高功率激光二极管的散热器(Troy 1992),甚至作为多芯片模块的基板材料(Lu 1993)。从而使得器件更高的速度运行,因为设备可以更紧密地安置而不会过热。 并且设备可靠性也有望提高,因为对于给定的器件,安装在金刚石上时合流合度会更低。比起现在流行的石墨烯,金刚石也有着其独特优势。飞秒高速热反射测量(FSTR)在CVD金刚石薄膜热学测量中的应用挑战金刚石薄膜的热导率表征不是一个简单的问题,特别是在膜层厚度很薄的情况下美国国防部高级研究计划局(DARPA)的电子热管理金刚石薄膜热传输项目曾经将将来自五所大学的研究人员聚集在一起,全面描述CVD金刚石薄膜的热传输和材料特性,以便更好地进一步改善热传输特性,可见其在应用端处理优化之挑战。而这其中,用于特殊需求材料热导率测量的飞秒高速热反射测量(FSTR)(又叫飞秒时域热反射(TDTR)测试系统)发挥了极其重要的作用,它在精确测量通常具有高表面粗糙度的微米厚各向异性薄膜的热导率的研究,以及在某些情况下,CVD金刚石薄膜的热导率和热边界改善研究,使其对大功率电子器件的热管理应用根据吸引力的研究上发挥了决定性指导作用。常见的材料热学测试方法,包括闪光法(Laser Flash),3-Ω法,稳态四探针法,悬浮电加热法,拉曼热成像法,时域热反射法(TDTR)等。而对于CVD金刚石薄膜的热学测量,受限于在过程中可能需要多层解析、精细的空间分辨率、高精度分析,以及解析薄膜特性和界面的能力,飞秒高速热反射测量(FSTR)(又叫飞秒时域热反射(TDTR)测试系统)已成为为过去十年来最普遍采用的的热导率测量方法之一。飞秒高速热反射测量(FSTR)飞秒高速热反射测量(FSTR),也被称为飞秒时域热反射(TDTR)测量,被用于测量0.1 W/m-K至1000 W/m-K,甚至更到以上范围内的热导率系统适用于各种样品测量,如聚合物薄膜、超晶格、石墨烯界面、液体等。总的来说,飞秒高速热反射测量(FSTR)是一种泵-探针光热技术,使用超快激光加热样品,然后测量其在数ns内的温度响应。泵浦(加热)脉冲在一定频率的范围内进行调制,这不仅可以控制热量进入样品的深度,还可以使用锁定放大器提取具有更高信噪比的表面温度响应。探测光(温度感应)脉冲通过一个机械级,该机械级可以在0.1到数ns的范围内延迟探头相对于泵脉冲的到达,从而获取温度衰减曲线。如上文提到,因为生长特性,导致典型的金刚石样品是粗糙的、不均匀的和不同厚度特性的这就为飞秒高速热反射测量(FSTR)的CVD 金刚石薄膜热学测量带来了一些挑战。具体而言,粗糙表面会影响通过反射而来的探测光采集,且过于粗糙导致实际面型为非平面,这对理论热学传递建模分析也会引入额外误差,在某些情况下,可以对样品进行抛光以降低表面粗糙度,但仍必须处理薄膜的不均匀和各向性质差异。对于各向异性材料,存在 2D 和 3D 各向异性的精确解析解,但这使得热导率和热边界电阻的确定更加困难,并且具有额外的未知属性。即使样品中和传导层铝模之间总是存在未知的边界热阻,但是通常使用单个调制频率可以从样本中提取两个未知属性,这意味着在大多数情况下测量可以提取层热导率。然而,对于金刚石样品,样品内纵向和横向热导率是不同的,这意味着需要额外的测量来提取这两种特性;这可以通过改变一些系统参数来实现校正,参见系统参数描述(详情联系请上海昊量光电)。另一个困难是确定金刚石 CVD 的热容量,根据生长质量和样品中存在的非金刚石碳(NDC)的数量,生长出来的金刚石的热容量值相差极大。在这种情况下对于5 um的金刚石薄膜,测量将完全穿透金刚石样品,抵达样品到下面的基底材料(上图不同情况下的金刚石薄膜TDTR测量分析手段将会有很大不同)这使得测量对金刚石-基底边界电阻也很敏感。这意味着测量可能总共有五个未知参数:1)铝膜-金刚石间边界热阻,2)金刚石内横向热导率,3)金刚石内纵向热导率,4)金刚石热容量,5)金刚石-基底材料间边界热阻即使结合一定分析处理手段,见设备说明(详情联系请上海昊量光电),准确提取所有未知参数也很困难。一些常见影响样品尺寸确认 测量相对于样本尺寸的采样量很重要;飞秒高速热反射测量(FSTR)通常是基于标准体材料传热建模,而现在一些测量的块体材料样品越来越小,对于高质量的单晶半导体,基于块体材料的传热模型分析假设是有效的,但是对于更多缺陷和异质材料,例如 CVD 金刚石,这个假设就只是一个近似值。纵向均匀性通常而言,金刚石生长过程中,颗粒梯度会非常大,这也可能会导致热导率梯度非常大。此外,非金刚石碳(NDC,non-diamond carbon)含量、晶粒尺寸或表面粗糙度的局部变化也可能影响热导率的局部测量。TDTR测量中,可以 通过控制调制频率,从而实现加热深度控制,从而实现采样深度控制(详细技术讨论联系请上海昊量光电)对于不同热导率样品和不同加热频率,测量薄膜中采样 可能从1-2 um 到 20 um 不等 (相对应的,薄膜厚度超过300微米)其他更多 挑战和技术细节,受限于篇幅,将在后续更新继续讨论,如您有兴趣就相关设备和技术问题进行交流,可联系上海昊量光电获取更多信息。关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是目前国内知名光电产品专业代理商,也是近年来发展迅速的光电产品代理企业。除了拥有一批专业技术销售工程师之外,还有拥有一支强大技术支持队伍。我们的技术支持团队可以为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等工作。秉承诚信、高效、创新、共赢的核心价值观,昊量光电坚持以诚信为基石,凭借高效的运营机制和勇于创新的探索精神为我们的客户与与合作伙伴不断创造价值,实现各方共赢!
  • 磁性薄膜测量新突破:铁磁共振FMR实现全方位搭配、升级!
    2018年度“亚洲磁学联盟奖”(aums award)于6月4日在韩国揭晓,物理所韩秀峰研究员凭借“基于磁性缘体的磁子阀效应”项目荣获此奖。韩秀峰研究员团队创新性地采用yig磁性缘体作为磁性电、au作为中间层研制出了高质量、新型磁性缘体/金属/磁性缘体(mi/nm/mi)磁子阀结构,并且在该结构中次观测和发现了磁子阀效应(magnon valve effect),揭示了磁子阀比值主要取决于磁性缘体/金属界面磁子-电子自旋转换效率的原理。[1] 图1:(a) 磁子阀结构、原理和测量示意图(b)-(c) ggg/yig和yig/au/yig区域的透射电镜图该项工作的相关研究进展发表在 phys. rev. lett.[2],并且作为亮点文章在prl网站页重点推荐。在此我们祝贺quantum design的ppms和microsense vsm用户韩秀峰研究员团队,也祝愿他们今后能够再创辉煌!在上述的研究中,yig作为磁性缘体材料,有着其特的物理性能,其拥有低的gilbert阻尼因子。sun[3]等利用铁磁共振系统对yig薄膜进行了阻尼的测试研究,测出yig的阻尼因子大小约10-4。在对磁性材料的研究中,阻尼因子α是一个比较重要的参数,可以帮助我们提升电路及电子器件的传输效率和传输速度。图2:铁磁共振测试系统主机:phasefmr(常温);cryofmr(低温)quantum design携手nanosc提供的高精度铁磁共振测试系统,可以快速有效地获取阻尼系数α,以及有效磁矩 meff、旋磁比γ、非均匀展宽δho等动态磁学参数,也可以表征静态磁学性能,如饱和磁化强度ms、各向异性、交换偏置等。该系统基于共面波导技术,无需矢量网络分析仪,可以提供宽频2~40ghz测试,并应用锁相测试技术,大大提高了信噪比,可以测试到1.4nm厚的薄膜。 图3 :室温测试用共面波导 图4:用于ppms(versalab)铁磁共振样品杆图5:montana低温恒温器升cryofmr铁磁共振测试系统目前该系统可以应用于室温(基于电磁铁平台)、低温(配合ppms、versalab、montana恒温器),在上有包括中国科学院物理研究所、南京理工大学、三峡大学等用户在内的多套设备在运行,并使用该系统在prb等期刊上发表多篇文章。如franco[4]等用铁磁共振测试系统phasefmr对垂直磁化各向异性[cofeb/pd]n多层膜进行了研究,发现有效垂直各向异性随多层重复次数的增加而增大,部分测试数据见图6。 图6:phasefmr用户文章数据铁磁共振测试系统参数如下: 配置 带宽 温度范围 磁场大小phasefmr 2-18ghz 室温 根据电磁铁大小而定phasefmr-40 2-40ghzcryofmr 2-18ghz4-400k:ppms/dynacool™ 55-400k: versalab™ 10-350k: mi cryostation±9, 14, 16 t:ppms/dynacool™ ±3 t: versalab™ ±0.7 t: mi cryostationcryofmr-40 2-40ghz 如果您拥有电磁铁平台,快来升铁磁共振测试系统吧!如果您拥有ppms或者versalab,快来升铁磁共振测试系统吧!如果您拥有montana标准型低温恒温器,快来升铁磁共振测试系统吧!如果您也想在squid上进行铁磁共振测试,目前quantum design的工程师正在努力研发中,相信不久后,我们将会为您带来在squid上成功应用fmr的好消息! 参考文献:[1]中国科学院物理研究所官网http://www.iop.cas.cn/xwzx/snxw/201806/t20180605_5021775.html[2] h. wu, l. huang, c. fang, b. s. yang, c. h. wan, g. q. yu, j. f. feng, h. x. wei, and x. f. han, phys. rev. lett. 120, 097205 (2018)[3] y. sun, h. chang, m. kabatek, y. y. song, z. wang, m. jantz, w. schneider, m. wu, e. montoya, b. kardasz, b. heinrich, s. g. e. te velthuis, h. schultheiss, and a. hoffmann, phys. rev. lett. 111, 106601 (2013).[4] a. f. franco, c. gonzalez-fuentes, j. a° kerman, and c. garcia, phys. rev. b 95, 144417 (2017) 相关产品及链接:1、铁磁共振仪(fmr):http://www.instrument.com.cn/netshow/c221410.htm2、ppms综合物性测量系统:http://www.instrument.com.cn/netshow/c17086.htm3、多功能振动样品磁强计versalab系统:http://www.instrument.com.cn/netshow/c19330.htm4、montana instruments超精细多功能无液氦低温光学恒温器:http://www.instrument.com.cn/netshow/c122418.htm5、超导量子干涉仪器件squid:http://www.instrument.com.cn/netshow/c17093.htm

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  • 薄膜测厚仪的知识你知道吗?

    薄膜测厚仪的知识你知道吗?

    随着科技的发展,市场上出现了很多高科技的产品,随着各式各样的产品出现,对我们生活、工作中带来巨大的影响,下面小编要为大家普及薄膜测厚仪知识,希望能给您带来帮助!  薄膜测厚仪的应用范围很广,可以进行诸多产品的测量,所以,它被广泛应用于各个行业;在产品检测方面有着非常突出的应用,有时候可以超乎人们的想象,有些没有使用过它的工作者,从它的身上得到了非常多的好处。有了它,能够提高用户的检测效率,使得生产工作进一步加快,建议那些还没有尝试过的客户,可以去尝试一下,应该会得到很有效的帮助。 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/04/201604051141_589010_3085714_3.jpg  薄膜测厚仪帮助实现高精度的测量,就算是非接触式的测量也可以,大家都知道,在某些行业进行精确测量是非常重要的一件事情,更好的产品由此而生,测量出了偏差,一切就都不行了。大成精密薄膜测厚仪作为专门检测产品厚度的设备,它在这方面的能力就非常强,可以实现高效的检测服务。  薄膜测厚仪的出现,大大提高了产品的生产效益,尤其是在自动化生产线上,如此高科技又好用的设备,如果你的车间还没有配备相关的设备,建议大家为提高生产为检测车间配备一台测厚仪,时代在前进,使用高效的设备,打造更好的产品,这才是保证不落后的方法。

  • 短程分子蒸馏器的升级改造以实现高精度的真空控制

    短程分子蒸馏器的升级改造以实现高精度的真空控制

    [align=center][img=通过超高精度真空控制提高分子蒸馏分离纯度的方法,550,392]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/11/202211040202188410_3231_3221506_3.jpg!w690x492.jpg[/img][/align][color=#990000]摘要:为了提升蒸馏纯度,针对现有分子蒸馏中气体流量计式真空度控制系统存在精度较差和响应速度慢的问题,本文提出了更高精度的真空度控制解决方案。解决方案采用更直接、精密和快速的电动针阀来代替现有的气体质量流量计,并同时使用精度更高的薄膜电容规和24位AD、16位DA控制器,可实现任意设定真空度下±0.5%的控制精度,同时对温度等因素所带来的真空度变化有极快的响应,可保证分子蒸馏过程中真空控制的高精度和稳定性。[/color][align=center][color=#990000]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/color][/align][color=#990000][size=18px]一、问题的提出[/size][/color]分子蒸馏是一种特殊的液-液分离技术,它不同于传统蒸馏依靠沸点差分离原理,而是靠不同物质分子运动平均自由程的差别实现分离。当液体混合物沿加热板流动并被加热,轻、重分子会逸出液面而进入[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url],由于轻、重分子的自由程不同,因此,不同物质的分子从液面逸出后移动距离不同,若能恰当地设置一块冷凝板,则轻分子达到冷凝板被冷凝排出,而重分子达不到冷凝板沿混合液排出,由此达到物质分离的目的。短程蒸馏器是一个工作在0.001~1mbar(0.1~100Pa)绝对压力下热分离技术过程,它较低的沸腾温度,非常适合热敏性和高沸点物。在分子蒸馏工艺中,真空度的控制精度决定了分离物质的纯度,目前绝大多数分子蒸馏设备中真空度控制系统普遍还都采用液环真空泵与旋片式真空泵结合气体流量计的技术,这种通过气体流量计调节进气流量的方法无法实现高精度的真空度稳定控制,具体是以下几方面原因:(1)分子蒸馏过程的真空度变化范围一般为0.1~100Pa,这种高真空范围对气体流量计的真空漏率有较高要求,一般气体流量计很难满足要求,必须使用专门用于高真空的气体流量计。(2)气体流量计的调节精细度普遍较粗,如果要实现高精密的气体流量调节,同样要使用高档更精密的气体流量计。(3)通常气体流量计的响应速度比较慢,很难实现在1秒之内完成全闭到全关的动作时间。(4)多数分子蒸馏中的真空传感器普遍采用精度较差的数字皮拉尼电阻规和电热偶规等。(5)绝大多数调节气体流量计的PID控制器精度较差,多为12位AD和DA转换器,极少用到16位的AD和DA转换器,PID控制器的精度是决定分子蒸馏真空度控制精度的关键。为了提升蒸馏纯度,针对上述现有分子蒸馏中气体流量计式真空度控制系统存在的问题,本文提出了更高精度真空度控制的解决方案。解决方案将采用更直接、精密和快速的电动针阀来代替现有的气体质量流量计,并同时使用精度更高的薄膜电容规和24位AD、16位DA控制器,由此可实现分子蒸馏工艺中任意设定真空度下±0.5%的控制精度,并对温度等因素所带来的真空度变化有极快的响应,有效保证分子蒸馏过程中真空度的高精度和高稳定性。[size=18px][color=#990000]二、解决方案[/color][/size]通过上述分析可以看出,限制现有短程分子蒸馏工艺真空度控制精度的主要因素分别是:(1)气体质量流量计调节精度和响应速度。(2)真空度传感器的测量精度。(3)PID控制器的测量和控制精度。为解决上述问题,本文提出的具体解决方案是采用相应的三个替换装置,如图1所示。[align=center][color=#990000][img=短程分子蒸馏高精度真空度控制装置,690,282]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/11/202211040201378335_1412_3221506_3.jpg!w690x282.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#990000]图1 短程分子蒸馏高精度真空度控制装置[/color][/align]如图1所示,为提高蒸馏纯度,实现高精度真空度控制,解决方案采用了以下三个装置:[color=#990000](1)采用高速电动针阀代替气体质量流量计[/color]分子蒸馏高真空度控制的基本原理是调节蒸馏器的进气流量和出气流量并达到一个动态平衡,所以这里的技术关键是如何实现进气流量的精密调节。尽管气体质量流量计可以进行进气流量调节,但采用的是电磁阀技术,有着较大的迟滞现象和较慢的响应速度,这些都会影响真空度的控制精度。解决方案中所采用的高速电动针阀是一种高速步进电机驱动的纯机械式针型阀,在大幅度减少迟滞误差的同时,还将整体响应时间缩短到了800微秒,同时精细步长可实现阀门的快速精密调节。驱动控制只需采用0-10V的模拟电压,整体结构简单且可靠性强。多个规格的电动针阀具有不同的气体流量调节能力,可满足不同容积的蒸馏器的真空度控制,同时还可以采用FFKM全氟醚橡胶密封提高耐腐蚀性。[color=#990000](2)采用薄膜电容规代替皮拉尼电阻规和电热偶规[/color]薄膜电容规的测量精度要远高于皮拉尼电阻规和热偶规,在任意真空度下其精度都可以达到±0.25%。那么对于短程蒸馏器0.001~1mbar(0.1~100Pa)的真空度量程内,可直接选择一只1Torr的薄膜电容规即可满足全量程的真空度测量,如果为了保证0.1~1Pa范围内的测量精度,还可以再补充一只0.1Torr的薄膜电容规。这样,通过两只不同量程的薄膜电容规可覆盖全真空度范围内的准确测量。[color=#990000](3)采用超过精度真空控制器代替普通精度PID控制器[/color]在任何PID反馈式闭环控制系统中,无论传感器和执行器精度多高,最终的控制精度都需要控制器的精度予以保证,为此,在解决方案中采用了超高精度的PID真空控制器。此超高精度PID真空度控制器具有24位AD和16位DA,采用了双精度浮点运算可实现0.01%的最小输出百分比,这是目前国内外最高技术指标的工业用PID控制器。采用此真空控制器可充分发挥电动针阀执行器和薄膜电容规真空传感器的精度优势,而且此系列控制器具有单通道和双通道不同型号。单通道控制器是可编程PID控制器,突出特点是可以进行不同量程双真空计的自动切换来实现全量程自动控制。双通道控制器是一种定点控制器,两个通道可以分别独立控制真空度和温度。[size=18px][color=#990000]三、结论[/color][/size]新型的真空控制系统对短程分子蒸馏工艺的真空度控制过程进行了优化,对其中的真空度控制系统做出了以下三方面的改进:(1)采用电动针阀代替气体质量流量计,提高了进气流量调节执行器的精度。(2)采用薄膜电容规代替拉尼电阻规和电热偶规,提高了真空度测量的精度。(3)采用真空控制器代替传统的PID控制器,提高了PID控制精度,并扩展了控制功能,可实现双传感器自动切换和两个工艺参数同时控制。总之,通过以上改进可大幅提高短程分子蒸馏工艺的真空度控制水平,通过大量考核试验和实际应用已经证明,此解决方案成熟度很高,在全真空度范围内可轻松实现±0.5%的控制精度,如果采用更高精度的真空计,此解决方案可进一步达到±0.1%的控制精度。[align=center][/align][align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align]

高精度薄膜测量设备相关的耗材

  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
  • Bristol 671系列 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计
    本系列其它产品型号 共3条 名称货号货期 描述参数Bristol 671A-IR 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计 1-5um671A-IRD80010016波长范围:1-5um;激光类型:连续波和准连续波(重复频率10 MHz); 测量精度:± 0.0002 nm @ 1000 nm;测量速率:4Hz;最大带宽:1GHz; 光学输入:准直光束 2-3mm直径孔径工作波长: 1-5µ m Bristol 671B-NIR 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计 520-1700nm671B-NIR-FC/UPCF80010048波长范围:NIR 520-1700nm;激光类型:连续波和准连续波(重复频率10 MHz); 测量精度:± 0.0008 nm @ 1000 nm;测量速率:10Hz;最大带宽:10GHz; 光学输入:预对准FC/UPC工作波长: 520-1700nm Bristol 671A-NIR 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计 520-1700nm671A-NIR-FC/UPCF80010049波长范围:NIR 520-1700nm;激光类型:连续波和准连续波(重复频率10 MHz); 测量精度:± 0.0002 nm @ 1000 nm;测量速率:4Hz;最大带宽:1GHz; 光学输入:预对准FC/UPC工作波长: 520-1700nm 总览Bristol Instruments的671系列激光波长计使用经验证的基于迈克尔逊干涉仪的技术来精确测量从可见光到中红外的连续激光的波长有两种版本可供选择。671A型是精确的,测量波长的精度为±0.2百万分之一(1000 nm时为±0.0002 nm)。对于不太严格的实验,671B型是一种价格较低的替代品,精度为±0.75百万分之一(1000 nm时为±0.0008 nm)为了保证波长测量的准确性,671激光波长计采用内置HeNe激光器进行连续校准。这是一个理想的参考源,因为它的波长是众所周知的,并且是由基本原子结构固定的。为了实现高精度,671A系统使用单频HeNe激光器,该激光器使用精确的平衡纵模技术进行稳定。在型号671B中,使用标准的HeNe激光器作为波长参考。Bristol 671系列 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计,Bristol 671系列 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计通用参数产品优点波长精度高达±0.0001 nm。使用内置波长标准进行连续校准。可在375 nm至12μm范围内进行操作。方便的预对准光纤输入,波长高达2.6μm。自由空间光圈输入,具有红外/中红外波长的可见对准辅助功能。使用USB或以太网直接操作电脑。提供显示软件,用于控制测量参数和报告波长数据。使用自定义或LabVIEW编程的自动数据报告消除了对专用PC的需求。方便的平板电脑/智能手机应用程序可在实验室的任何地方报告测量数据。五年保修涵盖所有零件和劳动。型号671A671B激光类型连续波和准连续波(重复频率10 MHz)波长波长范围VIS: 375 - 1100 nmNIR: 520 - 1700 nmNIR2: 1 - 2.6 μmIR: 1 - 5 μmVIS: 375 - 1100 nmNIR: 520 - 1700 nmNIR2: 1 - 2.6 μmIR: 1 - 5 μmMIR: 1.5 - 12 μm精度 1,2± 0.2 ppm ± 0.0002 nm @ 1000 nm± 0.002 cm-1 @ 10,000 cm-1± 60 MHz @ 300,000 GHz± 0.75 ppm (± 1 ppm for MIR) ± 0.0008 nm @ 1000 nm± 0.008 cm-1 @ 10,000 cm-1± 225 MHz @ 300,000 GHz重复性 3、4、5VIS/NIR/NIR2: 0.03 ppm (0.03 pm @ 1000 nm)IR: 0.06 ppm (0.2 pm @ 3 μm)0.1 ppm (0.1 pm @ 1000 nm)标定连续内置稳定单频HeNe激光器连续内置标准HeNe激光器显示分辨率9 digits8 digits单位 6nm, μm, cm-1, GHz, THz功率 (VIS / NIR) 7校准精度± 15%分辨率(Resolution)2%单位mW, μW, dBm光输入信号最大带宽81 GHz10 GHz最小输入9、10VIS: 10 - 500 μWNIR: 5 - 225 μWNIR2: 125 - 500 μWIR: 65 - 750 μWMIR: 120 - 925 μW测量速率4 Hz (VIS / NIR / NIR2) 2.5 Hz (IR)10 Hz (VIS / NIR/ NIR2) 2.5 Hz (IR / MIR)输入/输出光学输入11VIS/NIR:预对准FC/UPC或FC/APC连接器(芯径9μm)-可选自由光束到光纤耦合器NIR2:预对准FC/UPC或FC/APC连接器(芯直径7μm)-可选自由光束到光纤耦合器IR/MIR:准直光束,2-3mm直径孔径,可见示踪光束,便于对准仪表接口USB和以太网接口,带有基于Windows的显示程序和基于浏览器的显示应用程序使用任何PC操作系统进行自定义和LabVIEW编程的命令库(SCPI)计算机要求 12运行Windows 10的电脑,1 GB可用RAM,USB 2.0(或更高版本)端口,显示器,定点设备环境 10预热时间 15 minutesNone温度|压力|湿度+15°C to +30°C (-10°C to +70°C storage) | 500 – 900 mm Hg | ≤ 90% R.H. at + 40°C (no condensation)尺寸和重量尺寸(高x宽x深)13VIS / NIR / NIR2: 5.6” x 6.5” x 15.0” (142 mm x 165 mm x 381 mm) IR / MIR: 7.5” x 6.5” x 15.0” (191 mm x 165 mm x 381 mm)重量14 lbs (6.3 kg)功率要求90 - 264 VAC, 47 - 63 Hz, 50 VA max担保5 Years (parts and labor) (1) 定义为测量不确定度或最大波长误差,置信度≥99.7%。(2) 可追溯到公认的物理标准。(3) 对于671A,仪器达到热平衡后10分钟测量周期的标准偏差。(4) 对于671B,仪器达到热平衡后1分钟测量周期的标准偏差。由于HeNe参考激光器的纵向模式漂移引起的长期测量变化小于±0.4 ppm。(5) 波长分辨率大约是可重复性的两倍。(6) 以nm、μm和cm-1为单位的数据以真空值的形式给出。(7) NIR2、IR和MIR版本不测量绝对功率。强度计显示相对功率。(8) 带宽为FWHM。当带宽较大时,波长精度会降低。(9) 特定波长下的灵敏度可以从671系列产品详细资料手册中提供的图表中确定。(10) 特性性能,但无担保。(11) IR和MIR要求的光束高度为5.4±0.25“。(12) 用于基于Windows的显示程序。与SCPI的接口可以使用任何PC操作系统来完成。(13) IR和MIR仪器高度可调(7.25±0.25“),用于校准。Bristol Instruments保留根据需要更改规格的权利,以改进其产品的设计。规格如有更改,恕不另行通知 公司简介筱晓(上海)光子技术有限公司成立于2014年,是一家被上海市评为高新技术企业和拥有上海市专精特新企业称号的专业光学服务公司,业务涵盖设备代理以及项目合作研发,公司位于大虹桥商务板块,拥有接近2000m² 的办公区域,建有500平先进的AOL(Advanced Optical Labs)光学实验室,为国内外客户提供专业技术支持服务。公司主要经营光学元件、激光光学测试设备、以及光学系统集成业务。十年来,依托专业、强大的技术支持,以及良好的商务支持团队,筱晓的业务范围正在逐年增长。目前业务覆盖国内外各著名高校、顶级科研机构及相关领域等诸多企事业单位。筱晓拥有一支核心的管理团队以及专业的研发实验室,奠定了我们在设备的拓展应用及自主研发领域坚实的基础。主要经营激光器/光源半导体激光器(DFB激光器、SLD激光器、量子级联激光器、FP激光器、VCSEL激光器)气体激光器(HENE激光器、氩离子激光器、氦镉激光器)光纤激光器(连续激光器、超短脉冲激光器)光学元件光纤光栅滤波器、光纤放大器、光学晶体、光纤隔离器/环形器、脉冲驱动板、光纤耦合器、气体吸收池、光纤准直器、光接收组件、激光控制驱动器等各种无源器件激光分析设备高精度光谱分析仪、自相关仪、偏振分析仪,激光波长计、红外相机、光束质量分析仪、红外观察镜等光纤处理设备光纤拉锥机、裸光纤研磨机
  • 高精度波长计
    高精度波长计筱晓光子供应高精度波长计,SHR高精度波长计和SHR-IR近红外波长计可供选择。该系列激光波长计具有如下特点:测量精度高、光谱范围宽、结构紧凑、无移动部件、光纤耦合输入,应用于:连续激光波长测量、脉冲激光波长测量。SHR Laser Wavelength MeterOperation modesCW and pulsed (externally triggered)Spectral range190-1100nmAbsolute accuracy±0.003nmSpectral resolution0.006nm for 193nm, 0.04nm at 1200nmSource linewidth requirement≤125см-10.5nm at 193nm, 18nm at 1200nmOptical interfaceoptical fiber(400um core diameter, 1m length, SMA905 connector)diffuse attenuator FA-3 equipped with SMA-905SHR-IR Laser Wavelength MeterOperation modesCW and pulsed (externally triggered)Spectral range600-1800nmAbsolute accuracy±0.02nmSpectral resolution0.15nm for 600nm, 0.48nm for 1800nmSource linewidth requirement≤125см-14nm for 600nm, 40nm for 1800nmOptical interfaceoptical fiber(400um core diameter, 1m length, SMA905 connector)diffuse attenuator FA-3 equipped with SMA-905
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