原位加热与电学芯片系统

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原位加热与电学芯片系统相关的厂商

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    超新芯(CHIPNOVA)是早期原位芯片技术开发研究者,拥有MEMS芯片制造和原位电镜方面的资深团队,10余年来技术不断迭代升级,在电镜中实现了液、气体微环境引入及光、电、力、热等外场控制与高时空分辨显微研究。相关系统在材料、能源、环境、化学、生物等领域广泛应用,促进了人类对微观世界的探索,推动了相关领域的科技进步。除了继续深耕原位电子显微等高端科研领域,做世界一流的科研产品供应商;超新芯(CHIPNOVA)也正将相关技术延伸应用于智慧物联、大健康等民用领域,产品涵盖提供智慧牧场方案的智能项圈、监测实时血糖状况的CGM,为国人提供高品质的技术与服务。
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  • 苏州原位芯片科技有限责任公司成立于2015年,由清华大学和中科院微电子专业人士共同创立,并获得国内顶尖VC机构千万级投资。公司专注于新型MEMS芯片与模组的研发、生产和销售。掌握40多项领先MEMS技术,拥有芯片设计、工艺开发、流片生产和测试的全流程自主研发、自主生产能力。 MEMS芯片凭借高精度、低成本、体积小的特点,拥有千亿级的广阔市场空间,公司已推出多款打破国外垄断产品,其中自主研发的氮化硅薄膜窗口产品凭借优异的薄膜洁净度和高强度,获得广大TEM和同步辐射研究人员的高度好评。公司已申请十余项发明、实用新型专利。未来还将推出多款新型MEMS芯片。 公司已与多家研究所、大学、医疗、工业、智能装备等行业的企事业单位建立了良好的合作伙伴关系。凭借国内领先的核心技术,公司成员齐心协力,致力于成为世界领先的生物MEMS技术公司。为更好的世界,提供更好的芯片!
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  • 苏州汶颢芯片科技有限公司是一家留学人员回国创业的高新科技企业,集研发、生产、销售为一体,技术力量雄厚,生产设备先进,检测手段齐全,产品质量过硬。公司建立了完备的微流控芯片研发与生产中心,配置了三条微流控芯片生产线,包括数控CNC微加工仪器,软刻蚀有机芯片加工系统,光刻-掩模无机芯片加工系统,可以加工生产所有材质的芯片,如玻璃、石英、硅、PDMS和PMMA等。产品涵盖集成式通用医疗诊断芯片、集成式通用环境保护分析监测芯片、集成式通用食品安全分析检测芯片和基于微流控芯片的新能源体系四大系列数十个品种,以及各类科研类芯片,并在生物芯片和化学芯片领域一直保持技术和研发的领先地位,拥有81项知识产权,其中:已申请发明**65件、实用新型**7件,注册商标2件,登记软件著作权7件。
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原位加热与电学芯片系统相关的仪器

  • 产品简介通过MEMS芯片对样品施加力学、电场、热场控制,在原位样品台内构建力、电、热复合多场自动控制及反馈测量系统,结合EDS、EELS、SAED、HRTEM、STEM等多种不同模式,实现从纳米层面实时、动态监测样品在真空环境下随温度、电场、施加力变化产生的微观结构、相变、元素价态、微观应力以及表/界面处的结构和成分演化等关键信息。我们的优势力学性能1.高精度压电陶瓷驱动,纳米级别精度数字化精确定位。2.实现1000℃加热条件下压缩、拉伸、弯曲等微观力学性能测试。3.nN级力学测量噪音。4.具备连续的载荷-位移-时间数据实时自动收集功能。5.具备恒定载荷、恒定位移、循环加载控制功能,适用于材料的蠕变特性、应力松弛、疲劳性能研究。优异的热学性能1.高精密红外测温校正,微米级高分辨热场测量及校准,确保温度的准确性。2.超高频控温方式,排除导线和接触电阻的影响,测量温度和电学参数更精确。3.采用高稳定性贵金属加热丝(非陶瓷材料),既是热导材料又是热敏材料,其电阻与温度有良好的线性关系,加热区覆盖整个观测区域,升温降温速度快,热场稳定且均匀,稳定状态下温度波动≤±0.1℃。4.采用闭合回路高频动态控制和反馈环境温度的控温方式,高频反馈控制消除误差,控温精度±0.01 ℃。5.多级复合加热MEMS芯片设计,控制加热过程热扩散,极大抑制升温过程的热漂移,确保实验的高效观察。优异的电学性能1.芯片表面的保护性涂层保证电学测量的低噪音和精确性,电流测量精度可达皮安级。2.MEMS微加工特殊设计,同时加载电场、热场、力学,相互独立控制。智能化软件1.人机分离,软件远程控制纳米探针运动,自动测量载荷-位移数据。2.自定义程序升温曲线。可定义10步以上升温程序、恒温时间等,同时可手动控制目标温度及时间,在程序升温过程中发现需要变温及恒温,可即时调整实验方案,提升实验效率。3.内置绝对温标校准程序,每块芯片每次控温都能根据电阻值变化,重新进行曲线拟合和校正,确保测量温度精确性,保证高温实验的重现性及可靠性。技术参数类别项目参数基本参数杆体材质高强度钛合金控制方式高精度压电陶瓷倾转角α≥±20°,倾转分辨率<0.1°(实际范围取决于透射电镜和极靴型号)适用电镜Thermo Fisher/FEI, JEOL, Hitachi适用极靴ST, XT, T, BioT, HRP, HTP, CRP(HR)TEM/STEM支持(HR)EDS/EELS/SAED支持应用案例600°C高温下铜纳米柱力学压缩实验以形状尺寸微小或操作尺度极小为特征的微机电系统 (MEMS)越来越受到人们的高度重视 , 对于尺度在 100μm 量级以下的样品 , 会给常规的拉伸和压缩试验带来一系列的困难。纳米压缩实验 , 由于在材料表面局部体积内只产生很小的压力 , 正逐渐成为微 / 纳米尺度力学特性测量的主要工作方式。因此 , 开展微纳米尺度下材料变形行为的实验研究十分必要。为了研究单晶面心立方材料的微纳米尺度下变形行为 , 以纳米压缩实验为主要手段 , 分析了铜纳米柱初始塑性变形行为和晶体缺陷对单晶铜初始塑性变形的影响。结果表明铜柱在纳米压缩过程中表现出更大程度的弹性变形。同时对压缩周围材料发生凸起的原因和产生的影响进行了分析 , 认为铜纳米柱压缩时周围材料的凸起将导致纳米硬度和测量的弹性模量值偏大。为了研究表面形貌的不均匀性对铜纳米柱初始塑性变形行为的影响 , 通过加热的方法 , 在铜纳米柱表面制备得到纳米级的表面缺陷 , 并对表面缺陷的纳米压缩实验数据进行对比分析 , 结果表明表面缺陷的存在会极大影响铜纳米柱初始塑性变形。通过透射电子显微镜 ,铜纳米柱压缩点周围的位错形态进行了观察 , 除了观察到纳米压缩周围生成的位错 , 还发现有层错、不全位错及位错环的共存。表明铜纳米柱的初始塑性变形与位错的发生有密切的联系。
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  • 仪器简介:MultiNA—是通过将岛津公司先进的微芯片技术和自动化分析技术完美结合,缔造出的全新的DNA/RNA快速分析系统,与传统的琼脂糖电泳技术相比,费用更低、速度更快、灵敏度更高!简单易用的MultiNA,提供更加卓越的分析精度,使电泳分析进入新境界。MultiNA!为生命科学实验室带来突破性变革的新一代微芯片电泳系统。主要特点: 分析成本极低采用精湛工艺制作的可重复利用的微芯片使消耗品费用在为减少,与琼脂糖凝胶电泳相比,运行成本更低。 分析速度快高速自动化分析,分析顺序表中一次最多可设定120个分析循环,可承载4枚微芯片平行样品前处理,顺序电泳分析,最快分析循环仅75秒。 高灵敏度检测采用LED激发的荧光检测器,达到比溴化乙锭染色法高出10倍以上的分析灵敏度。 分辨率高,重现性好根据样品的类型选择相应的分离缓冲液,样品与内标一起电泳,实现和保证了分析结果的可靠性和重现性。 使用简单方便控制和数据处理软件提供直观的图形界面,操作和掌控极为简单。三步操作即可完成从设置到启动的全过程。
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  • PicoFemto透射电镜原位MEMS加热/电学测量系统,关于价格请咨询(微信同号)透射电子显微镜是提供在较高时间分辨率下得到原子级空间分辨率的实验手段。透射电子显微镜原位加热/电学测量系统是在标准外形的透射电镜样品杆内安装MEMS工艺制成的微加热芯片和电学测量芯片。微加热芯片可对样品进行可控温度的加热,电学测量芯片可对样品进行电性质测量。并可在进行加热和电学测量的同时,动态、高分辨地对样品的晶体结构、化学组分、元素价态进行综合表征,大大地扩展了透射电子显微镜的功能与应用领域。 本系统硬件包括两部分,分别是加热/电学测量控制器、原位MEMS芯片样品杆。软件包括自动控温软件和自动电学测量软件。性能指标透射电子显微镜指标:● 兼容指定型号电镜及极靴;● 单倾可选高倾角版本;● 可选双倾版本,β角倾转±25°(同时受限于极靴); ● 测量电极数可选。 电学测量指标:● 包含一个电流电压测试单元;● 电压输出Z大±200 V,Z小±100 nV;● 电流测量Z大±1.5 A,Z小100 fA; ● 恒压或者恒流模式;● 自动电流-电压(I-V)测量、电流-时间(I-t)测量,自动保存。 加热与温控指标:● 温度控制范围:室温到1200 ℃;● 加热功率:Z大30 W;● 控温稳定性:优于±0.1 ℃;● Z大升温速率:1000 ℃/ms。 以上就是泽攸科技对PicoFemto透射电镜原位MEMS液体电化学测量系统的介绍,关于整套系统价格价格请咨询(微信同号) 原文 安徽泽攸科技有限公司,是一家具有完全自主知识产权的先进装备制造公司。公司集研发、生产和销售业务于一体,向客户提供原位电镜解决方案、扫描电子显微镜等设备,立志成为具有国际先进水平的电子显微镜及附件制造商。   公司有精通机械、光学、超高真空、电子技术、微纳加工技术、软件技术的团队,我们为纳米科学的研究提供的设备。公司团队于20世纪90年代投入电镜及相关附件研发中,现有两个系列核心产品:     (1)PicoFemto系列原位TEM/SEM测量系统;     (2)ZEM15台式扫描电子显微镜。     PicoFemto系列原位TEM/SEM测量系统自问世以来,获得了国内外研究者的高度关注,并且已外销至澳洲、美国、欧洲等地。我们协助用户做出大量研究成果,相关成果发表在Nature及其子刊/JACS/AM/Nano. Lett./Joule/Nano. Energy/APL/Angewandte/Inorg. Chem.等高水平刊物上。 目前在国内使用我公司产品的课题组/实验平台多达八十余个,遍布五十余所大学/研究机构,包括中科院过程所、北京大学、清华大学、浙江大学、中科院硅酸盐研究所、厦门大学、电子科大、苏州大学、西安交通大学、武汉理工大学、上海大学、中科院大连化物所等等。国外用户包括澳洲昆士兰科技大学、英国利物浦大学、美国休斯顿大学、美国莱斯大学等。
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原位加热与电学芯片系统相关的资讯

  • 北工大“原位透射电镜电学液体芯片及其制备方法”专利公布
    集微网消息,天眼查显示,北京工业大学“原位透射电镜电学液体芯片及其制备方法”专利公布,申请公布日为6月9日,申请公布号为CN116242847A。图源:天眼查专利摘要显示,本发明涉及原位透射电镜技术领域,提供一种原位透射电镜电学液体芯片及其制备方法。原位透射电学液体芯片包括:功能芯片、盖板芯片和盖板;功能芯片包括:第一基底、第一薄膜承载层和金属电极层,金属电极层包括工作电极、对电极和参比电极导线;钝化保护层,部分覆盖第一薄膜承载层和金属电极层;盖板芯片包括:第二基底和第二薄膜承载层;盖板设置于功能芯片的顶部,覆盖储液槽。据悉,本发明提供的原位透射电镜电学液体芯片及其制备方法,在实现液体环境施加的基础上,将传统电化学领域的三电极测试体系引入透射电镜,可对液体环境中样品的电化学行为进行原子尺度原位动态观测的同时,完成电学信号的精确控制及采集。
  • 透射电镜原位样品杆加热芯片设计原理解析
    透射电镜原位样品杆加热芯片设计原理解析 引言在上一篇文章《透射电镜原位样品杆加热功能 4 大特性解析》里,我们以 Wildfire 原位加热杆为例,为大家详细介绍了 DENS 样品杆加热功能在控温精准、图像稳定、高温能谱、加热均匀四个方面的具体表现。通过这篇文章,相信大家对 MEMS 芯片的优良性能有更进一步的了解。 本文将以透射电镜原位样品杆加热芯片的改变为例,与大家深入探讨芯片加热设计具体的变化细节。 01. 加热线圈的变化 1.1 线圈尺寸缩小,“鼓胀”现象得到明显抑制 图 1:新款芯片 图 2:旧款芯片 仔细观察上图中两款芯片的加热区,可以发现新款芯片的加热线圈要明显比旧款小很多。再观察下面的特写视频我们可以看到,加热线圈的形状也有明显变化。新款的是圆形螺旋,旧款的是方形螺旋。 线圈尺寸缩小后,加热功率减小,由加热所导致的“鼓胀”现象也会得到抑制。所谓“鼓胀”是指芯片受热时,支撑膜在 Z 轴方向上的突起。在透射电镜中原位观察样品时,支撑膜的突起会使得样品脱离电子束焦点,导致图像模糊,不得不重新调焦;甚至有时会漂出视野,再也找不到样品。这样一来,就会错失原位变温过程中那些瞬息即逝的实验现象。 1.2 加热时红外辐射减少 尺寸缩小、加热功率减小,所带来的另一个好处就是加热时红外辐射减少,从而对能谱分析的干扰就会降低。这意味着即便在更高温度下,依然能够进行稳定可靠的能谱分析。 图 3:使用新款芯片时,铂/钯纳米颗粒在高温下的能谱结果。 1.3 温度均匀性提升 此外,形状从方形变为圆形,优化了加热区域的温度分布情况,温度均匀性更好,可以达到 99.5% 的温度均匀度。图 4:新款芯片加热时的温度分布情况 02. 电子透明窗口的变化 2.1 电子透明窗口种类多样化 除了线圈尺寸、形状不同之外,新旧两款芯片所用来承载样品的电子透明窗口也明显不同。旧款设计中,窗口都是形状相同的长条,分布在方形螺旋之间。而在新款设计中,窗口种类则更加多样化,根据形状和位置不同可分为三类窗口,适用于不同的制样需求。 图 5:新款芯片中透明窗口分三类,可以适用于不同的样品需求。 红色窗口:圆形窗口,周围宽敞,没有遮挡,适合以各种角度放置 FIB 薄片。蓝色窗口:位于线圈最中心,加热均匀性最好,周围的金属也可以抑制荷电,适合对温度均匀性要求很高的原位实验,也适合放置易荷电的样品。绿色窗口:长条形窗口,和 α 轴垂直,在高倾角时照样可以观察样品,适合 3D 重构。 总结通过以上图文,我们为大家介绍了采用创新设计之后新款芯片的四大优势,全文小结如下:1. “鼓胀”更小,原位加热时图像更稳定,便于追踪瞬间变化过程。 2. 红外辐射更少,在 1000 ℃ 时,依旧可以进行可靠的能谱分析。 3. 优化线圈形状,抵消了温度梯度,提升了加热区域的温度均匀性。 4. 加热区有三种观察孔,分别适用于 FIB 薄片、超高均匀性受热、大倾角 3D 重构等不同需求。此外,优化后的窗口几何不仅便于薄膜沉积,还可消除滴涂时的毛细效应。这些针对不同需求的细节设计都使得制样更加便捷、高效。
  • 百实创发布百实创-双倾力热电集成系统 原子尺度分辨 原位新品
    INSTEMS系列为用户提供了7种原位TEM实验平台。其中包含三种单外场施加平台,三种双外场耦合平台和一种三外场耦合平台。三种单外场产品为INSTEMS-M(力学加载)、INSTEMS-E(电学加载)和INSTEMS-T(热场加载);三种双外场耦合产品为INSTEMS-ME(力电耦合)、INSTEMS-TE(热电耦合)和INSTEMS-MT(力热耦合);一种三外场耦合产品为INSTEMS-MET(力热电耦合)。产品介绍:INSTEMS-MET采用独特的MEMS芯片设计和新颖的集成策略,克服了多场耦合的诸多兼容性难题,完美保存了TEM样品杆的双轴倾转功能。可以在TEM中向样品施加力、热、电三种外场,实现外场的灵活组合,原位观察材料原子尺寸微观结构变化。该产品极大地拓宽了原位电子显微学的研究范畴,是科研工作者研究复杂力/热/电环境下材料的强大工具。突出优势:1、灵活热/力/电场耦合超宽加热范围 ( RT-1200 oC ) 超高加热精度( 100 mN) pm级驱动控制多种加载模式多种通电程序pA级电学测量2、双轴倾转α 轴倾转最高至±25° β 轴倾转最高至±25°3、稳定的原子尺度成像极限样品漂移<50 pm/s空间分辨率≤0.1 nm技术优势:ItemParametermini-lab兼容性MT/TE/ME/M/E/T加热范围RT up to 1200 ℃ *加热准确性≥98%加热速率10000 °C/s最大驱动力 100 mN最大驱动位移4 μm驱动精度电流测量范围1 pA-1 A空间分辨率≤0.1 nmEDS兼容性√应用领域:半导体电池安全器件失效热电材料… … 创新点:1、独特设计与精密加工的MEMS芯片排除了热膨胀或者样品抖动带来的干扰,提高实验成功率。 2、多通道信号传输保障多场的独立控制与信号采集 3、三场耦合大大提高了工作效率以及研发者的使用需求 百实创-双倾力热电集成系统 原子尺度分辨 原位

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原位加热与电学芯片系统相关的论坛

  • 《Science》大子刊:原位电子显微学用芯片厚度的重大突破!

    [color=#000000]原位电镜(in situ transmission electron microscopy)是一种在电子显微镜下实时高空间分辨率观察和记录材料或样品在不同条件下变化的技术,这种技术的应用涵盖了多个领域,包括材料科学、纳米科技、生物学等。特别是得益于气体和液体环境的引入,大大的拓展了原位电镜技术的应用范畴,如腐蚀科学和催化反应等。电子显微镜本身具有非常高的真空工作环境,因此,[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]反应介质通常被密封在一个非常小的纳米反应器里面。由于氮化硅(SiNx)具有易于微纳米制造且在一定厚度下仍有可靠的力学特性及适度的电子透明度等优点,被广泛应用于原位电镜中芯片用的密封膜材料。[/color][color=#000000]在过去20年,基于像差校正器、单色器及直接探测器等硬件技术的发展,电子显微镜本身的性能包括空间和能量分辨率都得到显著提升。但是原位电子显微学直到目前为止,在空间分辨率上并无显著突破。关键原因是作为密封的SiNx膜材料限制了电镜本身及原位实验的品质因子。目前商用的SiNx膜的厚度一般为50 nm,而[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]电子显微学一般需要用两个原位芯片,这样仅密封膜的厚度就高达100 nm。如此厚的密封膜会造成非常高的有害电子散射,大大降低了原位电子显微学实验中采集的各种数据的信噪比。在原位电子显微学领域,学者们都一直认为降低SiNx膜的厚度非常必要,但是直到目前仍很难实现,因为仅通过刻蚀降低SiNx膜厚度,会造成力学性能的显著恶化。[/color][color=#000000]针对此问题,[b]美国西北大学的Xiaobing Hu[/b]和[b]Vinayak Dravid教授[/b]研究团队从自然界蜂窝结构稳定性获得灵感,巧妙利用[b]掺杂浓度对Si的刻蚀速率影响,在观察窗口区域引入了额外的微米尺度Si支撑图案,成功的将SiNx膜的厚度从50 nm降至10 nm以下。[/b]这种在窗口区域具有支撑图案的超薄原位芯片具有很多优点,如优异的力学性能、耐电子束辐照、充分大的可观察区域,保证了该超薄芯片在原位电子显微学上的广泛应用。基于Pd的储氢特性,作者系统了探索了超薄芯片对原位实验测量品质因子的影响,及Pd纳米颗粒的吸/析氢行为。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/c12df4c5-8db9-4fce-8ddf-16d17cfd42fd.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图1. 超薄原位电镜用芯片的制备及其优异的力学稳定性和电子束耐辐照性能,插图A、C中标尺分别为10 mm, 100 μm[/color][/size][/align][color=#000000]图1A显示超薄芯片的制备过程,图1B显示了具有不同厚度的SiNx窗口的原位芯片。图1C的扫描透射模式下的暗场和明场像显示出超薄芯片窗口区域的蜂窝状特征。图1D显示出这种超薄芯片优异的力学特性,即使在5 nm厚的情况下,仍能承受1个大气压,完全满足绝大多数的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]原位实验。图1E显示出超薄芯片非常好的耐电子束辐照特性,当厚度从50 nm降到10 nm时,临界电子束剂量几乎没有改变。图1E为用光学方法和电子能量损失谱测量的不同厚度的SiNx膜数据。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/6f3b49eb-f7b1-4f8f-8a5f-362aa1e61846.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图2. 基于超薄原位芯片的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]电子显微学实验品质因数的显著提升[/color][/size][/align][color=#000000]图2A为理论模拟不同厚度的SiNx对Au纳米颗粒明场像信噪比的影响,对于超薄原位芯片而言,即使在电子剂量比较低的情况下,仍可以拥有很好的信噪比,成像质量比较高。图2B、C显示出在一个大气压的Ar环境不同SiNx膜厚度下的高分辨像对比。可以看出与常规50 nm厚的原位芯片相比,超薄芯片的应用不仅提高了图像的信噪比,分辨率也从2.3 ?提高到1.0 ?。图2C显示出了能谱对比结果,可以看出在一个大气压的Ar环境下,当原位芯片窗口区域膜厚度从50 nm 降低到10 nm时,Ar/Si峰值比从0.59%升到8.3%,提高了14倍以上。图2E-G数据显示了超薄原位芯片显著提高了电子能量损失谱分析的灵敏度。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/6d6e2657-12c9-4711-80d5-725e65b1eeb9.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图3. 基于超薄原位芯片电子显微学在储氢材料中应用[/color][/size][/align][color=#000000]图3A、3B为在不同支撑载体下纳米Pd颗粒的电子衍射对比图,可以看出超薄芯片显著压制了膜材料本身的有害电子散射,提高的电子衍射的信噪比。而这也允许研究人员在原位[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]实验中进行定量衍射分析。图3C-D的原位电子衍射,显示出Pd纳米颗粒在原位充氢、放氢过程中的相变行为。图3E的电子能量损失谱分析确认了相变产物PdHx的产生。[/color][color=#000000]基于[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]超薄原位芯片的设计与探索实验,作者提出这种超薄芯片的设计策略可大规模推广到[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]原位及其它基于SiNx的原位芯片上,大大提高原位电子显微学实验的品质因子,从而允许研究人员在原位实验过程中不单单观察形貌变化,可将其它先进电子显微学方法应用到原位实验上来。更进一步,这种超薄芯片也可拓展到原位X射线领域。可以说,超薄芯片的概念提出,将大大的影响整个原位实验领域。[/color][color=#000000]这一成果近期发表在[b][i]Science Advances[/i][/b]上,美国西北大学[b]胡肖兵研究副教授[/b],[/color][color=#000000][b]Vinayak Dravid讲席教授[/b][/color][color=#000000]为文章的通讯作者,[b]Kunmo Koo博士[/b]为文章的第一作者。[/color][来源:材料学网][align=right][/align]

  • 各个领域的“基因芯片”

    基因芯片及其在病原微生物检测中的应用基因芯片是近年来迅速发展的一门生物高新技术,它以其能够快速、高效、大规模地同步检测生物遗传信息的卓越功能而得到发展。在基因测序、基因表达分析、药物筛选、基因诊断等领域显示出重要的理论和实用价值。基因芯片是指应用大规模集成电路的微阵列技术。在固相支持物表面(常用的固相支持物有玻璃、硅片、尼龙膜等载体)有规律地合成数万个代表不同基因的寡核苷酸“探针”或液相合成探针后由点样器有规律地点样于固相支持物表面;然后将要研究的目的材料中的DNA、RNA或用cDNA同位素或荧光物标记后,与固相支持物表面的探针进行杂交,通过放射自显影或荧光共聚焦显微镜扫描,对这些杂交图谱进行检测;再利用计算机对每一个探针上的杂交信号作分析处理,便可得到目的材料中有关基因表达信息。该技术可将大量的探针同时固定于支持物上,所以一次可对大量核酸分子进行检测分析。基因芯片分类基因芯片按其片基不同可分为无机片基芯片和有机合成片基芯片:如果按其应用不同,可分为表达谱芯片、诊断芯片、检测芯片;如果按其结构不同可分为DNA阵列和寡核苷酸芯片;如果按其制备方法不同可分为原位合成芯片和合成后交联芯片。目前,常用于基因芯片制作的固相支持物主要包括半导体硅片、普通玻璃片、尼龙膜等基质。它们各有优缺点,可根据不同的用途和目的选择使用。用硅片制作的芯片,其DNA探针排列的密度高,在1.28cm芯片上,可达40万点阵。检测灵敏度高但专一性差。用玻璃制作的芯片,可用于双色荧光标记杂交,便于杂交信号的检测,但其灵敏度低,而且对玻璃片的处理要求高。尼龙膜主要用于制作eDNA芯片,即将不同的eDNA片断点阵于尼龙膜上,它可用同位素标记检测,灵敏度高,专一性好,但是DNA阵列的密度低。DNA探针的制备及固化探针的制备及固化有2种方法:①在片基上原位合成寡核苷酸;②在片基以外制备DNA探针,并以显微打印等手段将其固化于片基上。作者介绍了待测DNA样品的制备、标记样品与基因芯片杂交、杂交信息的检测与分析、操作过程中存在的问题及解决办法。基因芯片可以对病原细菌检测、病毒的检测及其他方面如支原体检测等。问题和展望基因芯片在病原微生物检测中具有快速、灵敏、高通量、自动化等特点。但目前仍面临一些问题有待解决,这些问题主要体现在硬件和软件2个方面。在硬件方面,DNA芯片技术需要昂贵的尖端仪器,如生产原位合成芯片需要光刻机器和寡核苷酸合成仪;构建DNA微集阵列的自动仪器约需8万美元以上,而检测芯片则要激光共聚焦显微镜、落射荧光显微镜等设备,费用较高。在软件(即技术)上也存在一些问题。首先,探针制备的环节上,原位合成寡核苷酸技术复杂,且有专利保护,合成过程中有可能插入错误核苷酸或混入杂质,降低了特异性和信噪比;显微打印技术较灵活,易实现,但需收集或合成大量探针,且阵列的集成度不高。其次,在样品和芯片杂交的环节上 ,因为杂交在固相上进行,空间因素会对杂交造成不利影响;还有,在一个芯片上存在多种探针,这对杂交条件是个挑战,因为这种探针的最适条件未必适合另一种探针;而且,复杂的探针如长寡核苷酸容易自身形成二 、三级结构,影响与靶序列的杂交或给出错误的阴性信号,当然在其它技术环节上也存在着一些难题,如样品准备复杂、检测的灵敏度低等。虽然基因芯片技术在多个环节上有待提高,但它在生命科学及相关领域中已呈现出广阔的应用前景,相信随着研究的不断深入和技术的更加完善,基因芯片会成为基础研究和临床应用的强有力工具。

  • 【分享】基因芯片的制备

    1 原位光刻合成寡聚核苷酸原位光刻合成技术是由Affymetrix公司开发的,采用的技术原理是在合成碱基单体的5'羟基末端连上一个光敏保护基。合成的第一步是利用光照射使羟基端脱保护,然后一个5'端保护的核苷酸单体连接上去,这个过程反复进行直至合成完毕。使用多种掩盖物能以更少的合成步骤生产出高密度的阵列,在合成循环中探针数目呈指数增长。某一含n个核苷酸的寡聚核苷酸,通过4×n个化学步骤能合成出4n个可能结构。例如:一个完整的十核苷酸通过32个化学步骤,8个小时可能合成65,536个探针。  2 原位喷印合成 芯片原位喷印合成原理与喷墨打印类似,不过芯片喷印头和墨盒有多个,墨盒中装的是四种碱基等液体而不是碳粉。喷印头可在整个芯片上移动并根据芯片上不同位点探针的序列需要将特定的碱基喷印在芯片上特定位置。该技术采用的化学原理与传统的DNA固相合成一致,因此不需要特殊制备的化学试剂。  3 点样法 点样法是将合成好的探针、cDNA或基因组DNA通过特定的高速点样机器人直接点在芯片上。采用的机器人有一套计算机控制三维移动装置;多个打印/喷印针的打印/喷印头;一个减震底座,上面可放内盛探针的多孔板和多个芯片。根据需要还可以有温度和湿度控制装置;针洗涤装置。打印/喷印针将探针从多孔板取出直接打印或喷印于芯片上。直接打印时针头与芯片接触,而在喷印时针头与芯片保持一定距离。打印法的优点是探针密度高,通常1平方厘米可打印2,500个探针。缺点是定量准确性及重现性不好, 打印针易堵塞且使用寿命有限。喷印法的优点是定量准确,重现性好,使用寿命长。缺点是喷印的斑点大,因此探针密度低,通常只有1平方厘米400点。国外有多家实验室和公司研究开发打印/喷印设备,目前有一些已经商品化。军事医学科学院目前正在利用打印/喷印技术进行生物芯片的研究和开发,预计2年内将有用于实验室研究或临床诊断的基因芯片产品问世。  4 电子芯片电子芯片是由美国Nanogen公司开发的,目前国内清华大学和复旦大学也在开发这一技术。这种芯片为带有阳电荷的硅芯片、芯片经热氧化,制成1mm(1mm的阵列、每个阵列含多个微电极,在每个电极上通过氮化硅沉积和蚀刻制备出样品池。将链连接亲和素的琼脂糖覆盖在电极上,在电场作用下生物素标记的探针即可结合在特定电极上。电子芯片的最大特点是杂交速度快,可大大缩短分析时间。制备复杂、成本高是其不足。  5 三维芯片三维芯片是由美国的Packard、摩托罗拉、Argonne国家实验室三家机构与俄罗斯Engelhardt分子生物学研究所合作开发的一种芯片技术。三维生物芯片的实质上是一块显微镜载玻片,其上有10,000个微小聚乙烯酰胺凝胶条,每个凝胶条可用于靶DNA,RNA和蛋白质的分析。先把已知化合物加在凝胶条上,用3cm长的微型玻璃毛细管将待测样品加到凝胶条上。每个毛细管能把小到0.2nl的体积打到凝胶上。以上几家机构构合作研究的生物芯片系统具有其它生物芯片系统不具有的几个优点。一是凝胶条的三维化能加进更多的已知物质,增加了敏感性。二是可以在芯片上同时进行扩增与检测。一般情况下,必须在微量多孔板上先进行PCR扩增,再把样品加到芯片上,因此需要进行许多额外操作。本芯片所用凝胶体积很小,使PCR扩增体系的体积减小1,000倍(总体积约纳升级),从而节约了每个反应所用的PCR酶(约减少100倍)。三是以三维构象形式存在的蛋白和基因材料可以其天然状态在凝胶条上分析,可以进行免疫测定,受体-配体研究和蛋白组分析。  6 流过式芯片(flow-thru chip) Gene Logic 正在开发一种在芯片片基上制成格栅状微通道,Gene Logic设计及合成特定的寡核苷酸探针,结合于微通道内芯片的特定区域。从待测样品中分离DNA或RNA并对其进行荧光标记,然后,该样品流过芯片,固定的寡核苷酸探针捕获与之相互补的核酸,采用Gene Logic's信号检测系统分析结果。流通式芯片用于高通量分析已知基因的变化,其特点在于(1)敏感性高:由于寡核苷酸吸咐表面的增大,流过式芯片可监测稀有基因表达的变化;(2)速度快:微通道加速了杂交反应,减少了每次检测所需时间;(3)价格降低:由于采用了特殊的共价化学技术将寡核苷酸吸咐于微通道内,使每一种流过式芯片可反复使用多次,从而使其成本降低。

原位加热与电学芯片系统相关的耗材

  • SEM / TEM专用液体原位芯片
    TEM用液体原位芯片由于电镜需要真空环境的特点,正常情况样品只能做真空环境下静态电镜分析。运用新技术生产的液体芯片可将待测液体样品封闭起来,并通过氮化硅薄膜窗口做动态观测。基于氮化硅薄膜的液体原位芯片。它可以用作液体原位TEM观测。L-300液体芯片由上芯片和下芯片组合而成,芯片中间有10×50μm氮化硅薄膜观察窗口,下芯片左右两侧各有一个液体滴加口。上下两枚芯片由密封胶粘合在一起,中间有一个微型液体腔室。原位实验时首先在液体滴加口滴入待测液体,等待待测液体在浸润通过微型液体腔室并从另外一个液体滴加口渗出。再使用环氧树脂密封两个液体滴加窗口,待胶固化后即可进行原位液体观测。 ZB-NS0300 液体芯片使用说明 ZB-NS0300 液体芯片是用环氧树脂胶将上芯片和下芯片粘合在一起组合而成,中间形成微型液体腔室。芯片中间有 10um x 10um x 30nm 的氮化硅薄膜观察窗口,背面左右两侧各有一个液体滴加口。准备工作:待测液体、微量进样器、镊子、双面胶(固定芯片)、吸气装置(注射器针头带有橡胶圈)、胶(环氧树脂胶或指甲油)。待测液体封装流程: (示意图如第二页所示)1. 取出芯片,翻转芯片,使用双面胶将芯片固定在实验台上;2. 使用微量进样器向液体滴加口滴加待测液体;3. 将抽真空注射器插入另一液体滴加口;4. 向下按压橡胶使其尽量与芯片紧密贴合;5. 缓慢吸拉注射器, 观察左侧滴加口的液体是否减少,若没有减少,按住橡胶,继续缓慢吸拉注射器;6. 使用胶密封液体滴加口,胶干燥后即可进行原位液体观测。 ZB-NS0300原位TEM液体芯片剖面图 ZB-NS0300原位SEM液体芯片剖面图
  • TEM 原位液体芯片(可定位型)
    TEM 原位液体芯片产品说明产品名称:Nano-VIEW Cell 产品编号:ZB-CG0010用途:原位 TEM 观测化学反应过程,原位 TEM 观测生物活体细胞/菌落等,可封装液体,制样方便,结果清晰。简介及使用方法:本款产品为密封式芯片,由上下两片具有氮化硅薄膜窗口的芯片组成,氮化硅膜厚度为 50nm。制样时,将待观测液体滴加在“Out-frame”的“liquid tank”中,再将“In-frame”扣在“Out-frame”之上(Au spacors 朝下),组成上图中最右图所示结构;再使用 AB 胶绕“In-frame”外缘将其与“Out-frame”粘接在一起,完成密封过程。 芯片密封之后,其外切圆尺寸为 3mm。使用案例:在 TEM liquid cell 中原位观测 Ag 纳米线与 S 纳米颗粒的反应过程,配方如下:原料:Ag 纳米线(1mol/L 于乙醇中)、 S 的乙醇饱和溶液制样过程:将 Ag 纳米线/乙醇溶液与 S 的乙醇饱和溶液混合后,取约 1μL 溶液滴加在 liquid tank 中,将两片芯片叠盖在一起,用胶将其外缘密封,封片观察。结果:随着观测时间的增加,可明显观察到 Ag 纳米线的缺陷的产生、逐渐生成 Ag2S 的过程。
  • LCD驱动芯片检测系统配件
    LCD驱动芯片检测系统配件是一套LDI(LCD Driver IC)自动视觉检测系统,采用超快实时自动聚焦技术(Real-time Auto Foucs),实时聚焦LCD驱动芯片的表面,快速发现LCD Driver IC缺陷。LCD驱动芯片检测系统配件特色可在LCD驱动芯片表面上实时聚焦,对LDI tray上的不同器件提供公差补偿,更为清晰地获得景深图像。具有超快变焦技术可获得高精度聚焦的彩色图像,采用彩色相机替代传统的单色相机,能够获得暗花纹区图像(Dark pattern Area)。提供三种照明方式更好地探测缺陷.LCD驱动芯片检测系统配件和LCD驱动芯片自动视觉检测系统由孚光精仪进口销售,孚光精仪是中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商!精通光学,服务科学,欢迎垂询。
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