光谱膜厚仪

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光谱膜厚仪相关的厂商

  • 400-858-8867
    服务科学,世界领先--赛默飞世尔科技 赛默飞世尔科技(纽约证交所代码:TMO)是科学服务领域的世界领导者。公司年销售额170亿美元,在50个国家拥有约50,000名员工。我们的使命是帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全。我们的产品和服务帮助客户加速生命科学领域的研究、解决在分析领域所遇到的复杂问题与挑战,促进医疗诊断发展、提高实验室生产力。借助于首要品牌Thermo Scientific、Applied Biosystems、Invitrogen、Fisher Scientific和Unity Lab Services,我们将创新技术、便捷采购方案和实验室运营管理的整体解决方案相结合,为客户、股东和员工创造价值。欲了解更多信息,请浏览公司网站:www.thermofisher.com。 赛默飞世尔科技中国赛默飞世尔科技进入中国发展已有30多年,在中国的总部设于上海,并在北京、广州、香港、台湾、成都、沈阳、西安、南京、武汉、昆明等地设立了分公司,员工人数约3700名。我们的产品主要包括分析仪器、实验室设备、试剂、耗材和软件等,提供实验室综合解决方案,为各行各业的客户服务。为了满足中国市场的需求,现有8家工厂分别在上海、北京和苏州运营。我们在全国共设立了6个应用开发中心,将世界级的前沿技术和产品带给国内客户,并提供应用开发与培训等多项服务;位于上海的中国创新中心结合国内市场的需求和国外先进技术,研发适合中国的技术和产品;我们拥有遍布全国的维修服务网点和特别成立的中国技术培训团队,在全国有超过2000名专业人员直接为客户提供服务。我们致力于帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全。欲了解更多信息,请登录网站 www.thermofisher.com。 联系方式:电话:800-810-5118, 400-650-5118(支持手机)售前咨询电子邮箱:sales.china@thermofisher.com售后服务电子邮箱:cru.cn@thermofisher.com 扫一扫,关注 “赛默飞世尔”官方微信赛默飞世尔科技分子光谱的红外/拉曼光谱的前品牌Nicolet(原美国尼高力仪器公司),是世界上最大的傅立叶红外光谱仪(FT-IR)和拉曼光谱仪(Raman)的专业生产厂家。几十年来其以精湛的技术、卓越的产品和优质全面的服务居于世界红外及拉曼领域的前列,并在全球范围内具有最大的市场占有率。尼高力以其卓越的成就曾赢得至高无上的美国总统“E 星奖”,历年来被世界著名分析仪器杂志和权威机构评为 FT-IR 购买首选和用户最满意的 FT-IR 供应商。其紫外可见分光光度计的原品牌UNICAM(原英国UNICAM光学仪器公司),以其产品的性能卓越,可靠耐用而享誉世界。1897年,在英国剑桥大学内诞生了UNICAM,在二次大战期间,UNICAM从事生产各类光学仪器和军事瞄准器,1949年生产了世界第一台紫外可见光度计SP500,1958年推出世界上第一台扫描型紫外-可见-近红外光度计,1978年第一家将计算机微处理器引入紫外光谱仪SP8型,1989年第一家通过ISO9000认证的紫外光谱仪生产商,1993年推出采用Hatten分束器和步进单色仪驱动器的UV系列,克服了峰变形和波长漂移,获得极大的成功。目前赛默飞是唯一坚持采用全息母版衍射光栅的厂家,也是唯一一家公司可对外提供标准校准滤光片的厂家,更是唯一一家可提供进行全自动计量校正系统CTU、CVC的厂家。分子光谱产品包括:各种普及型、分析型及研究型 FT-IR 光谱仪;独立型及联机型 FT-Raman 光谱仪,激光拉曼光谱仪及各种拉曼附件;专用近红外光谱仪、红外气体分析仪,红外油分析仪及红外半导体分析仪;红外显微镜,拉曼显微镜及齐全的红外制样附件;多种应用软件,如智能化定量分析软件,红外谱图解析软件,红外应用文献库软件等;世界上最大数量的傅立叶红外、拉曼的标准谱库。为促进用户间的交流,我们还专门组织成立了尼高力红外光谱仪中国用户协会,定期举办用户交流会,各种操作、制样及应用学习班,出版 FT-IR 专业书籍、用户通讯等期刊。用户协会现已组织出版了多集《傅立叶变换红外光谱技术及应用研讨会论文集》和《实用傅立叶变换红外光谱学》等专著,组织全国四十多位红外光谱专家撰写出版了《近代傅立叶变换红外光谱技术及应用》一书(上下册240 万字,此书荣获了中宣部颁发的第九届中国图书奖)。对尼高力光谱仪的用户而言,不仅意味着拥有一台高质量和良好售后服务的仪器,而且在整个使用过程中还会不断得到公司、用户协会等多方面的帮助和支持,以便能更好地开发仪器功能,解决工作中遇到的实际问题。
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  • 厚谱科仪于2020这个特殊的庚子年“诞生”在我国北方明珠、浪漫之都—大连,是分析仪器行业升起的一颗新星。公司凝聚了一个朝气蓬勃、才华横溢、勇于创新的一流团队。公司始终聚焦广大客户客户的需求,在“严谨的态度、创新的理念及务实的精神”指引下,并凭借自身超强的研发力量,志在为广大客户提供有着准确、稳定、可靠、高效、安全、便捷服务的高新技术产品及技术服务。 厚谱科仪产品涵盖了水质实验室分析仪器、油品实验室分析仪器及水质在线分析仪器在内的众多门类,公司能为电力、石化、化工、钢铁、环保、高校以及质检等行业的广大客户提供便捷优质的产品服务。公司的全面详细的售前支持、安全信赖的产品设计及优质快速的售后服务定能为您提供焕然一新的使用体验。 厚谱科仪志在吸纳更多的有志于献身于分析仪器行业的新秀,公司竭尽全力的为他们的快速健康成长保驾护航,愿他们能在公司这片沃土里茁壮成长,最终成为行业翘楚。 厚谱科仪全体人员:怀着“厚德载物,佳谱传世;崇尚科学,智造精仪”的初心,用最“新”的技术,用最“心”的服务,用最“辛”的努力,智造让客户满意的产品,提供让客户满意的服务。公司努力向前,最终实现“始于大连、立足祖国、放眼世界”的这一宏伟目标!
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  • 山东东仪光电仪器有限公司是国内最早生产直读光谱仪的专业厂家之一,成立于2000年,位于山东省烟台莱山经济开发区,是经山东省科技厅认定的高新技术企业。2002年推出中国最具竞争力的DF-100型仪器,多项技术填补国内空白,打破了国外仪器在中国市场的垄断地位,引入了国产仪器与进口仪器的竞争。经过十余年的迅猛发展,公司建立了专业化的研发团队,仪器生产已经系列化、多元化,市场已经全球化。
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光谱膜厚仪相关的仪器

  • 反射光谱膜厚仪SD-SR-100是一款专为薄膜厚度测量而设计的先进仪器。以下是对该产品的详细介绍:1. 测量范围与精度: - 该仪器能够测量从2纳米到3000微米的薄膜厚度,具有高达0.1纳米的测量精度。2. 测量功能: - 在折射率未知的情况下,SD-SR-100不仅可以测量薄膜的厚度,还能同时测量其折射率。 - 可用于测量半导体镀膜、手机触摸屏ITO等镀膜厚度、PET柔性涂布的胶厚、LED镀膜厚度、建筑玻璃镀膜厚度等多种应用场景。3. 测试原理: - 利用薄膜干涉光学原理进行厚度测量及分析。通过从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面,探头同位接收反射光线,并根据反射回来的干涉光,用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。4.软件支持: - 配备易于安装和操作的基于视窗结构的软件,界面友好,操作简便。 - 软件功能强大,支持多层膜厚的测试,并可对多层膜厚参数进行测量。 - 提供大量的光学常数数据及数据库,支持多种折射率模型,如Cauchy, Cauchy-Urbach, Sellmeier等。5. 特点与优势: - 先进的光学设计和探测器系统,确保系统性能优越和快速测量。 - 光源设计独特,具有较好的光源强度稳定性。 - 提供多种方法来调整光的强度,以满足不同测量需求。 - 配备微电脑控制系统,大液晶显示和PLC操作面板,便于用户进行试验操作和数据查看。 - 支持自动和手动两种测量模式,以及实时显示测量结果的较小值、平均值以及标准偏差等分析数据。6. 应用领域: - 广泛应用于医疗卫生、生物产业、农业、印刷包装、纺织皮革等多个行业,特别是在薄膜分析领域表现出色。综上所述,反射光谱膜厚仪SD-SR-100凭借其高精度、多功能和广泛的应用领域,成为薄膜厚度测量领域的理想选择。
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  • 膜厚光谱分析仪系统 400-860-5168转3181
    产品特点: ? 光谱仪(MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700)提供丰富选配套件以及客制化光纤。? 可依据安装现场需求评估设计。? 可灵活架设于各种环境下的最佳即时测量系统。 测量项目: 分光光谱仪种类测量波长范围MCPD-9800:高动态范围型360~1100nmMCPD-3700:紫外/可视/近红外光型220~1000nmMCPD-7700:高感度型220~1100nm平面显示器模组测量: 平面显示器(FPD)模组、液晶显示器(LCD)模组、电浆显示器(PDP)模组、CRT显示器、OLED面板系统架构: ①光谱仪 ②受光光纤 ③放射感应器测量实例: 液晶面板色度测量液晶面板对比测量
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  • 膜厚光谱分析仪系统 400-860-5168转1545
    产品特点: ? 光谱仪(MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700)提供丰富选配套件以及客制化光纤。? 可依据安装现场需求评估设计。? 可灵活架设于各种环境下的最佳即时测量系统。 测量项目: 分光光谱仪种类测量波长范围MCPD-9800:高动态范围型360~1100nmMCPD-3700:紫外/可视/近红外光型220~1000nmMCPD-7700:高感度型220~1100nm平面显示器模组测量: 平面显示器(FPD)模组、液晶显示器(LCD)模组、电浆显示器(PDP)模组、CRT显示器、OLED面板系统架构: ①光谱仪 ②受光光纤 ③放射感应器测量实例: 液晶面板色度测量液晶面板对比测量
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光谱膜厚仪相关的资讯

  • 世界知名矿企先后购置伊诺斯光谱仪
    热烈庆祝Mount ISA Mine(芒特艾萨矿),Newmont Mining(纽蒙特矿业公司), Glencore(嘉能可国际公司),江西铜业 先后购买奥林巴斯手持式光谱仪分析仪,金属或贵重金属(如铜、锌、铁和黄金)提取的过程控制,以提高成本效益和增加产品价值。铜提取为例,一般来说,铜提取过程包括以下步骤:粉碎硫化铜矿石(比如黄铜矿),泡沫浮选法选矿,使富集成为铜精矿,一般含铜(Cu)品位为20 - 30%。然后石英少与铜精矿混合,经闪速熔炼、氧化还原和阳极浇铸,最终产品(含量 99.0%纯铜)送往精炼厂生产含量 99.9%的铜。品位较低的矿石,需要经过选矿,使品位富集成为精矿。为正确选用各种选矿方法,要研究铜矿石的物质组份和结构构造;查明矿石的自然类型和工业类型;还要了解矿石中难选矿物的含量及其大致分布情况等。以铜矿为例,1.单一硫化铜矿石的选矿。一般采用浮选法选矿。2.多金属硫化矿石的选矿。一般根据其主要组份而形成的不同加工技术特性,分别采用混合浮选法、优先浮选法、混合优先浮选法、浮选和重选联合选矿法、浮选和磁选联合选矿法,以及浮选和湿法冶炼联合进行处理等。3.混合矿石选矿。一般均可采用浮选法,它可以单独处理,或与硫化矿石一起处理;也可采用浮选和湿法冶炼联合处理,即先用浮选法选出铜精矿,再将浮选后的尾矿用湿法冶炼处理。 4.氧化矿石的选矿。一般用浮选与湿法冶炼联合处理或用离析法与浮选联合处理;含结合式氧化铜高的矿石,一般用湿法冶炼处理。湿法冶炼主要适用于处理氧化矿石或含自然铜不高的单一矿石。由于使用的浸出剂不同,又分:硫酸浸出法——用以处理二氧化硅含量很高的酸性氧化矿石 ;氨浸出法——用以处理含多量碱性矿物的氧化矿石或自然铜贫矿; 细菌浸出法——用以处理低品位硫化矿石。奥林巴斯便携式XRD分析仪可以快速实时分分氧化矿石的晶相,帮助选择合适的选矿方法;在选矿过程中,实时确认化学反应的状态,决定是否需要添加矿料;反射炉熔炼主要是处理浮选后的铜精矿,-般要求精矿的含铜品位不得低于8%,最好为15~20%。铜精矿中的有害杂质砷、氟、锌、镁等,影响冶炼工艺和污染环境卫生,在矿料入炉时要进行控制,或在冶炼中加以回收处理。砷:以氧化状态存在,在冶炼过程中容易挥发,进入烟尘后污染大气,对人体有害;因此,一般要求铜精矿中砷的含量小于0.3%。冰铜中的砷通过转炉吹炼后,进入制酸系统的砷在转化器里使触媒逐渐位一般30~45%),冰铜经过吹炼而成为粗铜(含铜品位97~99%),粗铜再经过火法精炼或电解精炼而得到精铜(含铜品位99.9%以上)。有少量富铜矿石(一般含铜大于5%)可以不经过选矿,而与铜精矿混合直接入炉冶炼。氟:以氟化氢(HF)状态进入炉气,带入制酸车间,腐蚀破坏生产设备。一般要求铜精矿中氟的含量小于0.1%。锌:在冶炼过程中一部份以氧化锌(ZnO)状态进入渣中,增大渣的粘度,夹杂铜和影响铜的熔解;一部份以硫化锌(ZnS)的状态进入冰铜中,使冰铜呈粘滞或泡沫状,不利与渣分离。另外,当冰铜温度低于1200℃时,硫化锌(ZnS)结晶析出,形成炉结阻塞放铜口。因此,一般要求铜精矿中锌的含量小于6%;否则,要进行优先浮选。镁:以氧化镁(MgO)状态存在于含镁矿物中,铜矿石中含有滑石、蛇纹石、绿泥石、橄榄石等含镁高的矿物,易泥化,采用浮选时,多与铜矿物一起浮出,分选困难,而且容易形成泥饼,使磨矿流程不畅通。此外,含氧化镁(MgO)高的铜精矿入炉后使炉渣产生粘性,熔点增高并导致熄炉。因此,一般要求铜精矿中氧化镁(MgO)的含量小于5%奥林巴斯手持式光谱仪分析结果可靠、重现性好、最少的样品制备和操作简单等重要特点,可以快速分析砷、铜、锌、镁等元素的含量在快闪熔炼过程中,冰铜品位和熔炼矿渣中金属含量是影响随后的冶炼加工阶段(如氧化还原和精炼)和整体生产力的两个最重要的因素。冰铜中铜的品位低意味着铜还原不足和冰铜中铁(主要成分:铁硫化物(FeS)的含量影响氧化还原反应。冰铜中的铜的品位应该 48%,铁应 10%。冰铜品位可以通过改变输入空气或富氧空气的总氧比来调整。不适当的调整导致生产率降低,如铜渣和/资源浪费(工时和能源)。产生这种损失的最大的原因之一是缺乏正确分析测方法。奥林巴斯手持式光谱仪分析可以快速及时的分析冰铜中铜铁的含量,分析结果有ICP 分析结果基本吻合,帮助操作员确认将冰铜转入氧化还原炉中最好时机。深圳市莱雷科技发展有限公司是时奥林巴斯手持式光谱仪分析在中国的代理商,是OLYMPUS在中国的长期战略合作伙伴,为广大客户提供元素分析整体介绍方案及及时满意的售后服务。
  • 高光谱成像技术在薄膜厚度检测中的应用
    研究背景在薄膜和涂层行业中,厚度是非常重要的质量参数,厚度和均匀性指标严重影响着薄膜的性能。目前,薄膜厚度检测常用的是X射线技术和光谱学技术,在线应用时,通常是将单点式光谱仪安装在横向扫描平台上,得到的是一个“之”字形的检测轨迹(如下图左),因此只能检测薄膜部分区域的厚度。SPECIM FX系列行扫描(推扫式成像)高光谱相机可以克服上述缺点。在每条线扫描数据中,光谱数据能覆盖薄膜的整个宽度(如上图右),并且有很高的空间分辨率。 实验过程 为了验证高光谱成像技术在膜厚度测量上的应用,芬兰Specim 公司使用高光谱相机SPECIM FX17(935nm-1700nm))测量了4 种薄膜样品的厚度,薄膜样品的标称厚度为17 μm,20 μm,20 μm和23 μm. 使用镜面几何的方法,并仔细检查干涉图形,根据相长干涉之间的光谱位置及距离,可以推导出薄膜的厚度值。通过镜面反射的方式测量得到的光谱干涉图,可以转化为厚度图使用 Matlab 将光谱干涉图转换为厚度热图,通过SPECIM FX17相机采集的光谱数据,计算的平均厚度为18.4 μm、20.05 μm、21.7 μm 和 23.9 μm,标准偏差分别为0.12 μm、0.076 μm、0.34 μm和0.183 μm。当测量薄膜时,没有拉伸薄膜,因此测量值略高于标称值。此外,在过程中同时检测到了薄膜上的缺陷,如下图所示,两个缺陷可能是外部压力造成的压痕。结论SPECIM FX17高光谱相机每秒可采集多达数千条线图像,同时可以对薄膜进行100%全覆盖在线检测,显著提高了台式检测系统的检测速度,提高质量的一致性并减少浪费。与单点式光谱仪相比,高光谱成像将显著提高薄膜效率和涂层质量控制系统,同时也无X射线辐射风险。 理论上,SPECIM FX10可以测量1.5 μm到30 μm的厚度,而SPECIM FX17则适用于4 μm 到90 μm的厚度。如需了解更多详情,请参考:工业高光谱相机-SPECIM FX:https://www.instrument.com.cn/netshow/C265811.htm
  • 新型有机薄膜传感器或可替代外部光谱仪?
    德国科学家研制出一种新型有机薄膜传感器,它能以全新的方式识别光的波长,分辨率低于1纳米。研究人员称,作为一款集成组件,这种新型薄膜传感器未来可替代外部光谱仪,用于表征光源。这一技术已经申请专利,相关论文刊发于最新一期《先进材料》杂志。  光谱学被认为是研究领域和工业领域最重要的分析方法之一。光谱仪可以确定光源的颜色(波长),并在医学、工程、食品工业等各种应用领域用作传感器。目前的商用光谱仪通常“体型”较大且非常昂贵。  现在,德累斯顿工业大学应用物理研究所(IAP)和德累斯顿应用物理与光子材料综合中心(IAPP)的研究人员与该校物理化学研究所合作,开发出了一种新型薄膜传感器,能以一种全新的方法识别光的波长,而且,由于其尺寸小、成本低,与商用光谱仪相比具有明显优势,未来或可成功替代后者。  新型传感器的工作原理如下:未知波长的光激发薄膜内的发光材料。该薄膜由长时间发光(磷光)和短时间发光(荧光)的器件组成,它们能以不同方式吸收未知波长的光,研究人员根据余辉的强度推断未知输入光的波长。  该研究负责人、IAP博士生安东基奇解释说:“我们利用了发光材料中激发态的基本物理特性,在这样的系统内,不同波长的光激发出一定比例的长寿命三重和短寿命单重自旋态,使用光电探测器识别自旋比例,就可以识别出光的波长。”  利用这一策略,研究人员实现了亚纳米光谱分辨率,并成功跟踪了光源的微小波长变化。除了表征光源,新型传感器还可用于防伪。基奇说:“小型且廉价的传感器可用于快速可靠地确定钞票或文件的真实性,而无需任何昂贵的实验室技术。”  IAP有机传感器和太阳能电池小组负责人约翰内斯本顿博士说:“一个简单的光活性膜与光电探测器结合,形成一个高分辨率设备,令人印象深刻。”

光谱膜厚仪相关的方案

光谱膜厚仪相关的资料

光谱膜厚仪相关的论坛

  • 在线语音研讨会--微型光纤光谱仪在膜厚测量中的应用

    报名地址: http://webinar.ofweek.com/activityDetail.action?activity.id=4555210&user.id=2 时间:2011年12月22日 10:00-11:00http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInfo.asp?infoID=314 时间:2011年12月28日 14:30-15:30在线研讨会介绍研讨会主题:微型光纤光谱仪在膜厚测量中的应用 举行公司:海洋光学亚洲分公司研讨会简介: 美国海洋光学作为微型光纤光谱仪的发明者,一直致力于光纤光谱仪,化学传感器的研究,是全球领先的光传感解决方案提供商,自1989年来在全球共售出近200,000套光谱仪,为OEM客户提供灵活多样的产品选择,为工业科研用户提供性能优越的系统解决方案,涉及领域涵盖生物,环保,医药,光电,化工,教育等。 干涉膜厚仪nanocalc系列和椭偏仪specEI系列是海洋光学针对薄膜测量用户推出的两套解决方案,已经应用在半导体器件(如晶硅/非晶硅,SiO2,GaN,及半导体),金属(Au,Ag等)镀膜,多层减反射膜等光学薄膜,薄膜太阳能电池,光刻胶,透明导电薄膜(ITO,FTO,AZO等),OLED(PEDOT,AlQ3),硬质保护膜及封装材料(PC,PET,PMMA等),铁电介电薄膜(PbZr1-xTixO3,Si3N4)等薄膜厚度,光学参数(包括介电常数)的在线/离线检测。根据配置选择,测试范围10nm-250μm,精度达0.1nm,对多层薄膜分析最多可达10层,研究用户还可选择膜厚分析软件SCOUT建模处理复杂膜系。主讲人介绍http://webinar.ofweek.com/upload/users/ofweek/image/pic.png演讲专家: 文豪专家职务: 研发工程师专家简介: 2011年毕业于中科院上海硅酸盐研究所信息功能中心,博士 答疑人介绍http://webinar.ofweek.com/upload/users/ofweek/image/dinghaifeng.jpg演讲专家: 丁海峰专家职务: 光学工程师专家简介: 1982年出生,2008年毕业于上海交通大学 光学工程专业,硕士; 2010年3月加入海洋光学以来,一直致力于光学传感、光度测量及光谱分析方面的工作,侧重于技术研发及应用支持,尤其在LED光度、颜色测量及荧光粉测量方面。奖品介绍http://webinar.ofweek.com/upload/users/ofweek/image/j1.jpghttp://webinar.ofweek.com/upload/users/ofweek/image/j2.jpghttp://webinar.ofweek.com/upload/users/ofweek/image/j3.jpg参加预先提问活动人员里面抽5个幸运奖(限量纪念版4G U盘,价值100元)参加现场提问活动人员里面抽5个幸运奖(限量纪念版4G U盘,价值100元)研讨会结束后 再抽3个大奖(精美真皮钱包,价值500元)公司介绍 美国海洋光学作为微型光纤光谱仪的发明者,一直致力于光纤光谱仪,化学传感器的研究,是全球领先的光传感解决方案提供商,自1989年来在全球共售出近200,000套光谱仪,为OEM客户提供灵活多样的产品选择,为工业科研用户提供性能优越的系统解决方案,涉及领域涵盖生物,环保,医药,光电,化工,教育等。 海洋光学是英国豪迈(Halma)集团的分公司,豪迈集团主要经营用于探测潜伏危险和保护人们生命安全的产品,是专业性电子、安全和环境技术领域的领军企业。

  • 关于光谱仪磨样机

    光谱仪磨样机是产品的一种,在光谱的制作中具有重要作用。光谱磨样机是应用于制备光谱试样过程中,是光谱试样抛光的主要设备。光谱磨样机可分为光谱砂轮磨样机、砂纸磨样机、砂轮片光谱磨样机。光谱磨样机采用一定尺寸的砂纸、砂轮以及专门开发的自动化研磨技术,工作时可以实现无人干预的自动化连续平稳运转,同时通过精确控制,确保精确的研磨度。光谱磨样机对光谱试样加工后,试样可以获得利于光谱精确分析的表面。光谱磨样机操作简单、维护方便,可以同时抛光、研磨光谱试样,适用于各类光谱标样的抛磨。

  • 关于近红外光谱模型转移和光谱转移

    小弟新人,有些事不解,想请教下,望多指点~1、模型转移是不是建立子机与主机模型的关系,一般为斜率截距,然后用主机模型预测子机光谱后,对预测的结果利用斜率截距进行修正?2、光谱转移,是不是建立一种计算关系,对子机采集的光谱进行修正,修正后的光谱可以直接利用主机模型预测,如果主机有多个指标的模型,是不是所有子机光谱修正后都可以利用主机所有指标模型进行预测,还是部分指标可以建立光谱转移关系;部分指标直接利用主机模型;部分指标利用模型转移;部分指标只能建立新的模型,谁的模型也用不上?谢谢了!~

光谱膜厚仪相关的耗材

  • 光学薄膜测厚仪配件
    教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等,也可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术,膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱,也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析,结合多次反射原理,给出膜层的厚度和光学常数(n,k),到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 100nm-30微米;波长范围: 300-1000nm 探测器:650像素Si CCD阵列,12bit A/D精度:1%斑点大小:0.5mm 光源:钨灯-汞灯(360-2000nm)所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:320x360x180mm 重量:9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 光谱仪专用磨样机
    光谱仪磨样机MPJ-1A是一台主要应用于直读光谱仪样品前处理的重要仪器,针对铁基样品的前处理。样品制备好对其进行后期的处理,就是在磨样机上进行磨制,被测样品激发的一面一定要平,使样品纹理清晰,才能保证样品与激发台之间贴合度, 这样才能保证气体冲洗室的密封性,使样品得到更好的激发。刚购置过来的标样和从车间里面拿过来的样品表面都是未经处理过的,光谱仪是不能直接对它们进行分析的,我们需要将样品磨平、磨光滑才能在光谱仪上分析,一般磨样的工具采用专门的磨样机,AC220V电机带动36目的砂纸或砂轮片转动,在磨样的过程中,我们要把样品平衡地放在砂纸上,要用力均匀,要不然磨出来的样品就会不光滑,出现梯度。在使用磨样的时候,应将样品放在同一个位置磨,不要来回或左右摆动,要使磨出来的样品表面的纹路总是在同一个方向,不要出现交叉的纹路。由于铁样或不锈钢样品比较难磨,如果出现样品表面温度特别高的时候,我们可以用冷却水进行局部冷却以后再接着磨,直到把样品磨平,表面纹路统一为止,在样品磨好以后,我们就不能在磨的表面用手或其他的东西去触摸,也不要让灰尘覆盖表面,这样都会影响分析精度。磨样作为样品处理环节的重要组成,对于直读光谱仪的检测是非常重要的。
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
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