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水平化铜槽中氢氧化钠含量检测方案(自动电位滴定)

检测样品碱

检测项目氢氧化钠含量

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水平化铜槽中氢氧化钠平均含量为0.2176mol/L.为节省滴定时间，可以减少取样量或者增大滴定剂的浓度进行测试。

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lanon海能仪器民族仪器品质典范民族仪器品质典范海能仪器：水平化铜槽中氢氧化钠含量的测定(电位滴定法) 1简介化学铜被广泛应用于有通孔的印制线路板的加工中，其主要目的在于通过一系列化学处理方法在非导电基材上沉积-一层铜继而通过后续电镀方法加厚使之达到设计的特定厚度，有时甚至直接通过化学方法来沉积到整个铜厚度的，化学铜工艺是通过一系列必须的步骤而最终完成化学铜的沉积。其中化学沉铜中含有氢氧化钠和甲醛，其中含量需要进行检测。 2，测定原理及方法 H++OH-=H2O 取待测液用 0.1mol/L滴定到 pH=10.2 记为v1，再继续滴到 pH=10 记为v2，加入25ml1mol/L 的无水亚硫酸钠滴定到 pH=10记为 v3，以 pH 复合电工作工作电极， HCl作滴定剂进行电滴滴定，得到滴定终点。 3实验仪器 ● T960 电位滴定仪 ● 10ml滴定管 16位自动进样器 ● pH复合电极 4试剂滴定剂：C(HCI)=0.09837mol/L，滴定剂的浓度用基准物质碳酸钠标定。碳酸钠基准物质 1mol/LNa2SO3溶液 5实验步骤仪器准备，请参照说明书测定方法：取待测液5ml用0.1mol/L 滴定到 pH=10.2记为v1，再继续滴到 pH=10 记为v2，加入25ml1mol/L 的无水亚硫酸钠滴定到 pH=10 记为v3，以 pH复合电极作工作电极， HCl作滴定剂进行电位滴定，得到滴定终点。 6测试结果 1)进样方式：进样器 2)参数设定：常量滴定 3)实验数据编取样量(ml) C(HCI)/mo//L V1(/ml) V2(ml) V3(m) C(OH)/mol/L 号 1 5 0.09837 11.060 12.020 14.080 0.2176 2 11.058 12.018 14.078 3 11.056 12.016 14.082 7，实验结果水平化铜槽中氢氧化钠平均含量为 0.2176mol/L.为节省滴定时间，可以减少取样量或者增大滴定剂的浓度进行测试。 -- --

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