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过氧化氢在半导体行业起到非常关键的作用，常常作为硅片清洁剂，印刷电路板刻蚀剂以及处理金属杂质。本次实验采用T960全自动电位滴定仪依据GB/T 1616-2014 工业过氧化氢测定，测定某半导体上游厂家的工业药水中过氧化氢的含量，用以验证电位滴定法检测工业药水中的过氧化氢方法是否可行。
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一、前言过氧化氢在半导体行业起到非常关键的作用，常常作为硅片清洁剂，印刷电路板刻蚀剂以及处理金属杂质。本次实验采用T960全自动电位滴定仪依据GB/T 1616-2014 工业过氧化氢测定，测定某半导体上游厂家的工业药水中过氧化氢的含量，用以验证电位滴定法检测工业药水中的过氧化氢方法是否可行。二、仪器与试剂2.1、仪器T960全自动电位滴定仪，复合铂电极，容量瓶，分析天平等2.2、试剂c=0.1mol/L的KMnO4标准滴定液，硫酸溶液（20%），去离子水
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海能未来技术集团股份有限公司为您提供《电位滴定法测定工业药水中过氧化氢含量》，该方案主要用于废水中过氧化氢检测，参考标准《暂无》，《电位滴定法测定工业药水中过氧化氢含量》用到的仪器有海能T960全自动滴定仪。
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