【原创】请问火花直读光谱能做金属硅的杂质分析么？

硅这种材料本身就不适合用光电直读光谱仪测试，更不用说里面的杂质了！你要测里面的杂质的话，我建议你用ICP进行测试。

我没用过光电直读光谱，还是不太明白为什么不能测，能说的详细些么？

建议你用ICP检测 以为直读对里面的成分不能很好的检测 杂渍多 有ICP检测的话就可以 用消解法把成分给消解 而且数据也很标准 公认的

建议用ICP检测

这位朋友：你好！
据我所知，火花直读光谱仪只是分析单基体或多基体金属中的杂质元素的。不能用来分析你的试样。
你们的金属硅试样，按你的要求可以采用ICP-OES分析，由于你要求分析的元素非金属较多，可以选购德国斯派克的设备。但是，这要看你们的试样量如何，设备价格高，分析成本高，要算经济帐的啊！
你提到的几种金属元素用常规化学分析应该没有问题的，铁、铝、钙含量是比较高的......

有问题可以联系我，我电话0758-3633688

直读要检测第一步就是放电激发,也就是样品必须导电,不然外层电子不能激发....做硅建议用ICP

这么低的含量，有困难，就是ICP，也无非是半定量分析！！一般光电直读适合高含量的测定，但基质是硅的话，不好做的！！而且样品消解后，氟酸根离子对测定有影响，赶酸也很麻烦，需要赶的很干净，建议消解后用分光光度法来测，光度法对氟酸根没影响！！