【求助】ICP-MS，半导体行业，做标准曲线，标准加入法，总是出现才加标的第一点总是在曲线下方，为什么？是因为环境污染还是因为初次加标就是这样的情况？

基体是硅还是其它的

线形为2个九时，误差比较大，尤其半导体行业，最起码应该在3个九以上吧。

是硅，

但是想把所有的都做成3个九以上太难了，基本是不肯能实现的，特别当浓度很低的时候，PPT

有一种可能是样品基体还没有在ICP以及锥口上实现平衡
一般如果低点线性不好还应该伴随着较差的精度吧

有可能基体浓度高了，对低浓度的标准影响比较大...

在添加时,通常建议第一个添加的量应使被分析的量增加100%,随后的添加量与第一个添加相同...这样可减小误差...

现在延长样品的进样稳定时间了，基本解决了低点偏低的状态。只是每次每个浓度点进样两次，然后再修改曲线，去除高点，不知道这样的做法是否可取？

这种做法不可取,应找出问题原因所在,再进行处理,否则不能保证测试结果的准确性.