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【讨论】请问ICP-MS的模式有哪些?

ICP-MS

  • 我知道有冷焰模式、有机模式、CCT模式,请问有什么区别?分别在什么情况下使用。。。
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  • kiwi-kids

    第1楼2009/09/02

    简单描述如下:

    冷焰模式-主要应用在微电子行业的高纯试剂以及高纯硅分析,目标元素主要是EIE,尤其对于K Ca Fe这些强干扰元素效果较好,但对于高电离能元素有可能没有信号,和标准模式下参数相比,一般ICP功率降低到600W以下,其余参数也有所不同,一般加大采样深度和载气流速。

    有机溶剂直接分析,只是需要加配有机进样系统,不同仪器中的有机进样系统选择有所差别,与标准进样系统相比较,核心的差别是载气中增加了氧气,一般如果有机相大于5%,则必须在雾化室中加入一定量的氧气或者氧气氩气混合气,主要目的是避免锥口结碳,做有机溶剂样品时往往采用较高功率-1500W以上。

    碰撞反应池模式主要应用于强质谱干扰元素测定,例如Fe As Se等等,通过在离子传输通道内设置多级杆池系统,形成碰撞反应通道,通过引入碰撞或反应气体去除某些多原子离子干扰,针对不同干扰,有时候需要选择不同类型的气体。对于碰撞模式为主的池系统,一般还需要采用动能歧视技术,有效减少干扰离子的传输效率以及滤除反应产物。对于纯的反应池系统,必须通过带宽控制,直接在池内滤除不需要的的产物离子,并阻止新的干扰产生。

    disoly 发表:我知道有冷焰模式、有机模式、CCT模式,请问有什么区别?分别在什么情况下使用。。。

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  • pangfengkun

    第3楼2014/03/19

    受教了!谢谢!!

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  • 加油

    第4楼2014/03/25

    kiwi-kids(zhengxxx) 发表:简单描述如下:

    冷焰模式-主要应用在微电子行业的高纯试剂以及高纯硅分析,目标元素主要是EIE,尤其对于K Ca Fe这些强干扰元素效果较好,但对于高电离能元素有可能没有信号,和标准模式下参数相比,一般ICP功率降低到600W以下,其余参数也有所不同,一般加大采样深度和载气流速。

    有机溶剂直接分析,只是需要加配有机进样系统,不同仪器中的有机进样系统选择有所差别,与标准进样系统相比较,核心的差别是载气中增加了氧气,一般如果有机相大于5%,则必须在雾化室中加入一定量的氧气或者氧气氩气混合气,主要目的是避免锥口结碳,做有机溶剂样品时往往采用较高功率-1500W以上。

    碰撞反应池模式主要应用于强质谱干扰元素测定,例如Fe As Se等等,通过在离子传输通道内设置多级杆池系统,形成碰撞反应通道,通过引入碰撞或反应气体去除某些多原子离子干扰,针对不同干扰,有时候需要选择不同类型的气体。对于碰撞模式为主的池系统,一般还需要采用动能歧视技术,有效减少干扰离子的传输效率以及滤除反应产物。对于纯的反应池系统,必须通过带宽控制,直接在池内滤除不需要的的产物离子,并阻止新的干扰产生。

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