【讨论】如何解读如下的谱图中的Ni峰的变化，即低能端与高能端Ni峰的强度对比~

呵呵，如果答案满意，在理论上和实际上都解释得通的话，可以帮给出最佳答案的兄弟做一个样品~

Ni的L系与k系的相对强度问题，由于加速电压不变，二者的相对强度与两个因素有关。
1 下面的平面从图上看似乎有另一方向的倾斜，这会影响二者的相对强度。
2 这是主要原因。 从这三张图比较看，3点w的M系和Ga的L系是三张图中最强的，这两个线系的X-光子都会激发出Ni的L系光子，使谱图上的NiL线系增强。2点的这种作用小于3点，属于居中的情况。
以上说的是 Ni的L系与k系的相对强度问题，不是绝对强度。

楼上说的1我赞同，我很怀疑第一点是由于样品倾斜，而且位于样品的比较下方的位置，造成低能端的特征X射线光子被吸引了一部分。此样品其实是FIB加工出来的一个坑，断面为感兴趣的地方所在。

楼主说的2有不解之处，楼主说“1点w的M系和Ga的L系是三张图中最强的”，并没有在1点位置观察到较强的W和Ga峰，相反，在点3位置有很强的W峰存在。

你说的很对，是我把编号搞错了，我现在就更正过来。谢谢你的提醒。

你指的是3点中的W和Ga增加了Ni在低能端的峰？那我是不是可以这样理解，如果FIB时不镀W而是镀Pt，那情况应该就不同了吧？

我个人也是这样认为的，样品倾斜后，激发的位置不一定就在此处

Pt的Ma=2.05，与Ni的吸收边距离稍远一些，对NiL的激发要比WMa稍弱一些。但如果Pt的含量高了对NiL的激发也会增高。

就这个问题我还想说明，Ni的K系与L系的相对高度还与加速电压有密切关系，若是低于20千伏，则图3的谱峰分布主要是受加速电压的影响。而图1则是由于低能X光子被吸收了一部分。不知你用的加速电压是多少。

15KV