第5楼2005/10/31
现在国内能玩TEM的人都喜欢搞原子分辨的Z衬度像,配合EELS作元素微区分布分析。像硬盘磁头100nm的sensor有10几层,最薄的如隧道层(TMR)才0.7nm,每层元素有差异,非这种技术不可。
FIB是目前纳米科技表征的要求。主要日本精工与FEI两家公司销售。金属研究所有一台很好的FIB设备,去年安装调试的,FEI公司的,D-beam的,为FEI 30 服务。听说清华大学范守善老师研究组有一台,型号可能老点.长三角一些高科企业,如中芯国际,有好几台FIB, 东莞新科磁电制品厂有4台非常好的FIB.其中有一台专做TEM样品,为JEOL 2100 FEG &Gatan 794服务!
一直以来,国内这方面的实力,以科学院物理所,金属所,以及清华大学为最。北京大学好像在大力发展TEM表征的实力,买设备,挖人,从物理所请彭立矛,从金属所请叶先生。但是据说,两台很好的设备TEM/FIB都在电子系俞大鹏组。
FIB操作技术,国内的工程师经验欠缺,水平不足。有志之士,要努力啊!如果大家有兴趣,我会发些这方面的体会与资料的!
我认为国内EELS方面,清华大学的袁俊应该最权威了。