我在故我思
第6楼2010/10/07
“MOS”为金属-氧化物-半导体(Metal-oxide-semiconduceopr),百度定义为“它属于生产金属氧化物半导体电路专用的化学品,是一种高纯试剂。其纯度要求单项金属离子杂质含 量均在10-7%~10-9%范围内。而更重要的是控制产品内微粒杂质(即尘埃和不溶颗粒)的个数,应当符合美国材料试验学会(ASTM)“0”级标准,即对5~10微米大小的颗粒,每100毫升中最大允许在2700个以下,而对5微米大小的颗粒,要求在304个以下。”
一般的ICP前处理都可以是使用这种试剂,干扰比其他级别的试剂少很多;如果还是有干扰可以将MOS级的硝酸重蒸后再使用。