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请教:样品形态与谱峰偏移

扫描电镜(SEM/EDS)

  • 前几天在做无铅锡块的分析,取了2个样,第一个样品比较疏松,表面不是狠光滑;另外一个样品表面很光滑。分析的时候第一个样品多处获取的Sn峰都发生偏移,而第二个样品却比较吻合。请各位发表一下看法,是不是样品的形态的影响?还是别的?谢谢~~

    另外,对Sn的逃逸峰该如何处理?



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  • 第1楼2005/11/29

    [quote]原文由 SeanWen 发表:前几天在做无铅锡块的分析,取了2个样,第一个样品比较疏松,表面不是狠光滑;另外一个样品表面很光滑。分析的时候第一个样品多处获取的Sn峰都发生偏移,而第二个样品却比较吻合。请各位发表一下看法,是不是样品的形态的影响?还是别的?谢谢~~

    另外,对Sn的逃逸峰该如何处理?

    能谱 是不能 准确检测 高形貌样本的, 原因是 X射线的遮挡和反射, 还有背散射电子的 多重散射等, 所以你的理解是正确的, 能谱的样本 有条件的话 最好机械抛光。
    能谱不会有 SN的逃逸峰, 我见过 SI, AU 和 NI的。无法避免

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  • 第2楼2005/11/29

    但是您看,第一个样品的Count Rate并没有比第二个低,还有第一个样品整体上还是比较平的,怎么说呢,就是它比较多孔吧。

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  • 第3楼2005/11/29

    具体参数看得不是很清楚, 计数没有损失, 就是说没有 遮挡。

    SeanWen 发表:但是您看,第一个样品的Count Rate并没有比第二个低,还有第一个样品整体上还是比较平的,怎么说呢,就是它比较多孔吧。

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