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A356高硅含量的偏离问题

直读光谱

  • 我这儿生产的A356产品的硅分析时,发现硅含量偏差较大,一个表面上甚至可以达到0.15的偏离,流槽中两个样品会有0.25的偏差。哪位大侠对此有研究,请给予指教!
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  • 第1楼2005/12/28

    主要是样品的均匀性问题,高硅铝样品最好使用快速急泠模取样,否则样品的偏析较大.

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  • 第2楼2005/12/29

    我也考虑是试样的均匀性问题,但如何才能避免这种不均匀呢?速冷模具行不行?我试一试!

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  • 第3楼2006/04/30

    请问快速急泠模是什么样的?

    zzybzy 发表:主要是样品的均匀性问题,高硅铝样品最好使用快速急泠模取样,否则样品的偏析较大.

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  • 第4楼2006/04/30

    高硅含量一过共晶点就非常容易产生结晶偏差,所以可以做一个金属模具,浇铸出来的样品像一个图章的样子,底面直径大约35毫米,厚度6毫米左右,浇铸口径不大于8毫米,把样品的底面车平就可以了,应该问题不大。

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  • 第5楼2006/05/08

    广冶用的是直径6cm的模子,做成月饼装,采取的样品是AL-SI中间合金,SI含量达到20%以上。我们用他们的样品检测发现比较均匀,相差也到不了1.5%。
    你的问题估计是生产上的问题,SI的密度与AL差不多,A356的SI%也就6~7左右。一般混合炉温度不够或搅拌问题,静置时间不足都会形成成分不均允的情况

    csucjg 发表:我这儿生产的A356产品的硅分析时,发现硅含量偏差较大,一个表面上甚至可以达到0.15的偏离,流槽中两个样品会有0.25的偏差。哪位大侠对此有研究,请给予指教!

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  • 第7楼2006/05/14

    应助达人

    Si要求在6.5%-7.5%,生产控制样偏差0.15%应该算正常,标准样也有这么大的偏差,生产时结晶Si要尽量要小,便宜渗入合金中,精炼搅拌均匀,静置时间适当放长,取样制样很关键,模具壁要厚,便于冷却快,晶粒细化,样品均匀性就好。

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