【求助】ICPMS综述中翻译，NexION300的创新点

刚才找到一篇文献，其中有NexION 300 ICP-MS的介绍
teiple cone interface 是 三锥接口
hyperskimmer cone 是 超截取锥

想问下版主，ICPMS文献综述的翻译问题可不可以在本区中求助

triple cone interface，hyper-skimmer cone
ICP接口三套锥依次为：样品锥、截取锥、超截取锥
美国LECO公司的ICP-TOF-MS Renaissance 很早就是三套锥，这也不是啥新鲜事了


bandpass adjustment 通带调节，质量通带或者能量通道
Reactive gas 甲烷、氨气、氧气属于“反应气”(氢气也属于弱性反应气)，PE用动态反应池中的四级杆设置“质量通带”，用质量歧视消除干扰离子；氢气、氦气属于“碰撞气”，用“碰撞池”中的六级杆(VG或Thermo)或八级杆(Agilent) 设置能量通带，用动能歧视干扰离子。

我来贴全吧，免得不明真相的群众认为 Diane Beauchemin 女士给PE公司光说好话当枪手。

Diane Beauchemin 女士从上世纪八十年代中期，就对PE ICP-MS 手拧螺母去调节炬管架X-Y轴 颇有微词。于我心有戚戚焉，我就觉手拧螺母远远比不上机械马达精确定位。比如现在灵敏度最大了，你把Y轴螺母顺时针拧10度，再逆时针拧10度，肯定回不到原来的位置。无独有偶，九十年代Finnigan MAT/Thermo公司HR-ICP-MS Element I也是手拧，德国不来梅工厂~1996年革新 Element II 时终于大彻大悟，改成机械定位了。



我也来说说对PE NexIon 300的看法：
Thermo Agilent 在RF线圈与石英炬管之间可添加屏蔽圈(Thermo PlasmaScreen/Agilent ShieldedTorch)，通过电容去耦(capacitive decoupling)将ICP焰离子能量色散从5-10eV降为<5eV，有利于提高它们在透镜、四级杆质量分析器中的传输效率，最终显著提高灵敏度。遗憾的是，PE NexIon 300还是固守陈旧的专利技术 PlasmaLok，中高质量段的灵敏度还是比不过安捷伦，更别说瓦里安了。

[正在翻译三楼的这段话

最后一句翻译，刚开始翻译，很晦涩：虽然如此，这台新仪器依然采用了ELAN的中间抽头的负载线圈的专利，它消除二次离子的干扰，是一种对多种不同样品具有耐用性和适用性的高流量分析仪器。
谢谢你这么精彩的讲解啊

说说我的观点：
（1）手动调节问题
早期的仪器没有现在这么自动化。手动调节是不可避免的。步进马达的快速发展是自动调节技术的基础。即使是手动调节，PE的要比Finnigan MAT Element I的调节要麻烦很多。Element I2刚刚推出自动调节的时候，问题多多，折磨死人。

（2） PE的PlasmaLok技术还是有很多优势的，最大的优势在于不用调节炬管位置就可以点火。只是PE一直没有采用屏蔽圈技术，这对于灵敏度的影响还是很大的。因为使用了屏蔽圈之后，有效抑制二次电离，灵敏度一般都可以增大10倍。如果使用冷等离子体技术，优势更加明显。至于PE为什么不采用，原因不清楚。技术文档说PlasmaLok技术可以抑制二次电离，但是为什么灵敏度还是这么多低，不明。

（3）PE一直推崇的优势是稳定性，灵敏度一直是被诟病的，算是PE的技术特点吧。

（4）四级杆通过效率普遍不高，没有办法，这是技术特点决定的。谁能最大化的把离子引入到四级杆，谁的灵敏度就要高一些。PE的NEXION 300的划时代的三锥和三重四极杆组合，应该是出于这个考虑，尽量地降低在离子传输过程中的损耗。

（5）全中文的操作软件，对于有些用户来说，还是很诱人的。

（6）这个免维护，那个免维护，也是很诱人的。

挑挑错吧，嘿嘿，再说说拙见，别见怪：

1.PE NexIon 300 根本不能算是划时代：三锥很新潮吗？其他厂家4个锥5个锥的都有，只是一个说法罢了；三重四级杆纯粹就是欺骗用户，NexIon 第一个偏转四级杆能叫“四级杆质量分析器”么？？？欺负我们搞无机的人不懂仪器吗？

2.全中文的软件现在大家都有了。

3.免维护的事儿，热电早就这么提了，不过什么样的仪器能免维护？质谱能免维护吗？大家冷暖自知吧。

对于PE来说，NexIon 300的确是个划时代产品，不是说它的设计方面有很多新的东西，而是PE在自己的产品线上终于开始尝试吸收别人的东西。但是吸收不够彻底，所以在很多设计方面还是有瑕疵。至于各种优点，总要说几个吧？要不谁买呢？究竟怎样，仁者见仁，智者见智吧。

绝对的免维护是没有的，是不是能够做到简单维护就可以，也是要看操作者自己的水平，不是每个用户都可以。同时，你也要允许人家幽默一把，是吧 :)

全中文的软件，真不是每家都有。呵呵。

我也来说屏蔽圈的看法吧。在Thermo的仪器X2上，半年时间内我烧坏过两个，后来联系工程师反映这个问题后，工程师一听，马上建议让我不做冷焰模式就把这个配件拆下来，看来这个问题经常出现啊！拆来拆去，咳！折腾用户！

不知道Agilent的屏蔽圈是否也有同样的问题？消耗品宣传册上看到有包括这个屏蔽圈，可是，多久需要更换，损坏的频率又如何了呢？

PE的专利技术 PlasmaLok起码没有这个问题要担心吧？省了这个消耗品费用就不说了，手动换硬件更是彻底不需要了。灵敏度指标没多大意义的，只要能满足分析需求，使用方便才是让技术人员最受惠的设计。

我的仪器一开始工程师就告诉我们如果没用，就没装屏蔽圈