不用全部切透啊,反正是从最表层开始切嘛,切300um还不够你看的吗?电镜视野下已经粉宽粉宽了。
不过合金和硅确实比较硬,应该会比那个参数切得慢一些。
idunno(idunno) 发表:我查阅了一下hitachi 的IM4000,它的效率大概是对于硅样品300um/h,这样切6.4mm厚的样品大概需要21小时,会不会时间太长了。另外我的样品有合金,是不是会比si更难切?不知道你用的是什么ion miling的机器,大概效率是怎么样?
另外我的样品还有空穴(孔隙),这样的样品在ion milling的时候会不会有一些问题?
谢谢!