GCMS有木有基质干扰？

基质干扰倒不会，不过一般会因为不同基质形成共沸物的沸点不同造成岀峰时间上可能会有差异。溶剂差别越大，岀峰时间差异就越大。

碰到过溶剂是一样的，基质不一样，保留时间差别较大的情况，比如大姜

中间插入基质的前后标准品响应差别较大，特别是出峰时间靠后的化合物，是怎么回事？

应助达人

对于楼主所说的“基质”不是很理解？

应助达人

GCMS有基质干扰是肯定的，所以样品应尽量处理干净，减少干扰。例如某些香精样品对邻苯的测定就影响很大。

应助达人

基质干扰，GC和GCMS应该都有吧？


大部分的原因是否在GC部分？

肯定存在基质干扰，方法确认里就有一项步骤，需要确认是否有基质干扰。

有基质干扰，就像做邻苯，155离子的出峰时间就干扰DINP

楼主貌似是用ICP的，后面跟帖说的基质又多数说是样品主成分，就是基材。其实没必要搞什么名词的，通俗点儿更容易交流。有机样品处理和无机样品处理，基材对测试的干扰不一样的。一般来说重金属测试常常有基质干扰，要搞什么基体匹配的。有机就是萃取液里待测组分可能岀峰时间会有偏差，如果有所谓的干扰，那就要考虑你前处理的方法是否合适了。不过滤不纯化，确实是干扰，不过是不是太牵强了？