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关于液质的背景问题

液质联用（LCMS）

  • 我现在刚入手bruker 的amazon离子阱，以前有一段很长的时间因为没有人维护所以有些样品做完以后都没有清洗，现在开机好多时候都有一两个背景峰出来，用进样针的话强度大概是4*10的5次方，用液相进的话就是3*10的6次方左右，大家一般的背景强度都是多少的？哪些地方比较容易污染？怎么样才能比较有效的清洗呢？
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  • chy57589893

    第1楼2012/08/30

    俩背景峰离子对是什么？

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  • gswsj

    第2楼2012/08/30

    管路中也会带进背景峰的比如增塑剂、溶剂簇等

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  • patjie

    第3楼2012/08/30

    原来的进样针有个413的背景峰，后面发现是进样针的活塞上面残留了好多残渣，黑黑的，用甲醇擦了就好了，背景下降回10的4次方，可是一旦接上液相就有246.88和260.88这两个背景峰达到10的7次方高，而其他好多的杂峰都在10的5次方水平，我不知道是不是因为开了液相以后流速0.3ml/min，雾化气15psi，干燥气8L/min,干燥温度220这些参数大了，所以背景也变高了。

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  • 小猪飞飞

    第4楼2012/09/03

    246.88和260.88可能是什么物质？有可能是连了液相的缘故。之前做过什么样品吗？对现在的检测有没有影响？

    patjie(patjie) 发表:原来的进样针有个413的背景峰，后面发现是进样针的活塞上面残留了好多残渣，黑黑的，用甲醇擦了就好了，背景下降回10的4次方，可是一旦接上液相就有246.88和260.88这两个背景峰达到10的7次方高，而其他好多的杂峰都在10的5次方水平，我不知道是不是因为开了液相以后流速0.3ml/min，雾化气15psi，干燥气8L/min,干燥温度220这些参数大了，所以背景也变高了。

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