光哥
第4楼2013/05/31
晕倒。。。打了这么长的字,点回复,没动静了。只好再抄一次。。。。
抄一段话,手头上也只有这本书了,不过刚巧是A家的机器。《电感耦合等离子体质谱应用实例》P180,关于“高纯有机试剂的分析”
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③有机试剂在ICP中分解产生大量的碳,很细的炭粉沉积在样品锥和炬管口,造成堵塞。
解决方案:加入适当量的氧气与有机物反应,消除炭沉积。有机物和氧气在雾化腔中混合后遇到ICP的明火有可能发生爆炸,Agilent7500系列的ICP-MS采用了含氧20%的氩氧混合气,并在炬管中心管前混合的方式而不是在雾化腔中混合的方式以消除有机物的炭沉积,被试验证明是有效和安全的。其他公司产品也有不同的考虑方案。
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我没做过有机物的分析,不过从以上的话猜测一下:
1、makeup gas进氧气,还是挺危险的;
2、进的不是纯氧,以前就在哪个帖子里看到,要去买那种混合好的“氩氧混合气”钢瓶气,可以直接用;
3、会不会是接在“Dilution gas”那里?就是炬管连接管中间有个接气口。
再抄一段话,同样的一本书,P179
————————————开始割,以下内容有一些我偷懒了,其他都是原文照抄,我没做过有机试剂分析,所以不加入任何的个人观点与看法——————————————————
半导体工业中应用的有机试剂,根据在ICP-MS中的分析方法不同可以分为以下几类:
① 水溶性、低挥发性有机试剂如显影液TMAH以及它的制造原材料TMH、羟胺/维生素B复合体及其衍生系列产物等。这些有机试剂只要用超纯水稀释10倍就可以直接分析。分析方法和氨水基本相同。这类有机试剂基本不产生碳沉积问题,纯水中的氧就足够消除试剂分解中产生的碳。
② 一般挥发性的有机试剂如光刻胶常用溶剂NMP、EL、PGME、PGMEA、ZS-50等清洗试剂及甲醇、乙醇、异丙醇、甲苯、二甲苯、煤油等。这些有机试剂则通常需要用特殊的有机进样系统及工作条件,并需要加入适量的氧气。(以下省略本段剩余文字)。。。。。。。。
③ 挥发性极强的有机试剂如丙酮和甲乙酮等,必须极大减少进样量和应用特殊有机炬管,并在操作中更加注意。其他分析方法和②相似。
④ 特殊的、黏性很大的复杂基体有机试剂如光刻胶、液晶等,必须用适当的溶剂将其按一定比例溶解稀释后分析。(省略本段其剩余文字,估摸着你要分析的也不会是这类的)。。。。。。
——————————没了,今天下午闲得蛋疼——————————————————