请问:玻璃基片上ZnO:AL薄膜的xrd图中,一般文献说衍射峰在34.4度,为什么我测的是33度左右.哪位知道原因?

这个问题比较复杂，产生峰位偏移的原因比较多，你可以根据你的样品制备工艺，结合测试仪器等相关因素才能做出准确的判断。

那么导致衍射角偏小的原因都有哪些呢?

有可能是宏观残余应力造成的，衍射峰偏小说明晶格常数大于粉末材料的，可能有残余压应力存在，但这个角度差的比较多，其他的影响因素大家一起分析下

衍射峰位向低角度偏移的原因很多。
一是仪器本身有0位误差
二是样品表面不平，有轴向误差
三是样品的晶胞参数比人家的大
四是残余应力的存在
不过，你说的这个误差也大了点，衍射角都差了1.5度。Δd/d=3.6%了。

俺测量的衍射角度都有32.7度的呢.不过是掺铝以后的氧化锌薄膜.有文献说掺杂后的氧化锌薄膜c轴方向有张应力,怎么又成压应力了?这个角度是从原始数据测得的,没有经过拟合,难得拟合后测量数据会变化?

在讨论这个问题之前，我建议你先测量一个粗硅（必须是去应力退火后）粉样，否则的话，仪器误差干扰你，弄得你没办法分析。

1，你测过衬底的XRD么？
2，在别的基片，比如Si/Al2O3上面生长的ZnO，你测过么？
3，undoped的ZnO呢？