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目前使用的重叠校正方法是否有缺陷?

  • chemchenxj
    2014/04/29
  • 私聊

直读光谱

  • 在直读光谱仪中,校准曲线通常都是强度比-浓度比的形式。
    测量样品时,一般都是首先测量分析线和内标线的绝对强度,接着计算强度比,然后再进行标准化和重叠校正。也就是说在重叠校正时是先计算强度比,再减去重叠校正的强度比。理论上,我们是否应该先减去重叠校正的绝对强度,再计算强度比?我们目前使用的重叠校正方法是否有缺陷呢?
    但实际上,为什么包括国际一流的直读光谱仪厂家都是采用这种方法进行重叠校正呢?
  • 该帖子已被版主-king95509加5积分,加2经验;加分理由:话题
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  • chemchenxj

    第1楼2014/04/29

    当然,目前的这种重叠校正方法效果也非常好,只是从理论上感觉有些瑕疵,特发帖请大家来讨论……

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  • king95509

    第2楼2014/04/29

    请问重叠校正的模型是什么?

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  • chemchenxj

    第3楼2014/04/30

    一般使用的公式是
    IR=IR0-ΣFi*Ci

    上式中:
    IR是经过重叠校正后的相对强度(比);
    IR0是未进行重叠校正的相对强度(比);
    Fi是重叠校正的系数;
    Ci
    是与被测谱线重叠的元素的浓度。

    如果使用绝对强度I进行重叠校正是否更符合其物理意义呢?

    I=I0-ΣFi*Ci

    king95509(king95509) 发表:请问重叠校正的模型是什么?

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  • king95509

    第4楼2014/04/30

    感觉后边一个公式和前边的在数量级上有差别,如果前一个公式模型基本对的话,后边的公式里缺少一个强度数量级,比较前边的公式里边是强度的比值,后边公式里是强度。

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  • chemchenxj

    第5楼2014/04/30

    这个应该不是问题,因为两个公式中的校正系数Fi是不同的,Fi的单位也不一样,一个是“强度比单位/浓度单位”,一个是“绝对强度单位/浓度单位”

    king95509(king95509) 发表:感觉后边一个公式和前边的在数量级上有差别,如果前一个公式模型基本对的话,后边的公式里缺少一个强度数量级,比较前边的公式里边是强度的比值,后边公式里是强度。

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  • 老头

    第6楼2014/05/01

    先要搞清楚什么是重叠校正吧。它是校正什么的。

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  • chemchenxj

    第7楼2014/05/01

    这里只讨论谱线的重叠(Line Overlaps),就是使用的谱线附近有其他元素的谱线,实际测量的强度中包含被测谱线的强度和邻近谱线的强度,应该设法减去后者
    为了便于理解,暂不考虑第三元素干扰(Interelement Effect 或者叫Matrix Effect)

    shguan老师您觉得从物理意义上说,应该先计算强度比,再进行重叠校正;还是先进行重叠校正再计算强度比呢?
    是目前使用的重叠校正方法有瑕疵,还是我自己理解的有问题呢?欢迎老师指教!

    老头(shguan) 发表:先要搞清楚什么是重叠校正吧。它是校正什么的。

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  • wccd

    第8楼2014/05/01

    应助达人

    这个可能需要严格的数学理论推算,来证明其公式成立的必要条件和充分条件。

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  • 老头

    第9楼2014/05/02

    Line Overlaps 应当怎么翻译呢?你将它翻译为重叠是从哪里看到的?国人翻译的吧!我同意大家的意见,先讨论数学模型。那些洋泾浜的翻译会给人好多误导。可能当时自己还没有搞清楚就敢写书了。还是先讨论所谓的Line Overlaps的数学模型为好。不然您搞清楚了,我们还是糊涂。

    把这个讨论清楚了,中国懂直读理论的人就更多了。其实很多人都是模模糊糊的,好像明白了。我也是。我的英文不好,吃亏呀。老头

    chemchenxj(chemchenxj) 发表:这里只讨论谱线的重叠(Line Overlaps),就是使用的谱线附近有其他元素的谱线,实际测量的强度中包含被测谱线的强度和邻近谱线的强度,应该设法减去后者
    为了便于理解,暂不考虑第三元素干扰(Interelement Effect 或者叫Matrix Effect)

    shguan老师您觉得从物理意义上说,应该先计算强度比,再进行重叠校正;还是先进行重叠校正再计算强度比呢?
    是目前使用的重叠校正方法有瑕疵,还是我自己理解的有问题呢?欢迎老师指教!

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  • chemchenxj

    第10楼2014/05/02

    在原子发射光谱分析中,干扰效应算是最复杂的问题之一了,要是严格考究的话,专门写本书也不为过。

    原子发射光谱分析法中干扰效应的分类方法本身就容易导致混淆,依其机理,一般可分为非光谱干扰和光谱干扰,非光谱干扰又可分为化学干扰、电离干扰、物理干扰等;光谱干扰又包括背景辐射干扰和谱线重叠干扰等等,其中背景辐射还能分为几种情况,总之,干扰是很复杂的。

    这里只讨论简单的情况,比如就以钢铁或者钛合金中铝对碳的干扰为例,一般都使用C 193.090nm波长分析碳元素,但铝元素有Al 193.003nm谱线,与碳的分析谱线很接近,Al 193.003nmC 193.090nm产生了重叠干扰。

    对于这种情况,目前的直读光谱仪使用的是最简单的数学校正模型:IR=IR0-ΣFi*Ci),即都是先用碳的绝对强度除以参比线的绝对强度得到碳的相对强度IR0,然后校正后的碳相对强度IR=碳的相对强度IR0-校正系数F*铝的浓度CAl
    从物理意义理解的话,应该这样:校正后的碳的相对强度IR=(测得的碳绝对强度-因铝干扰而增加的绝对强度)/参比线的绝对强度,即先扣除重叠干扰的强度再计算相对强度,而不是先计算相对强度再进行重叠干扰校正。

    不知道这样表述清楚了没有,希望能得到shguan老师的指导!

    老头(shguan) 发表:Line Overlaps 应当怎么翻译呢?你将它翻译为重叠是从哪里看到的?国人翻译的吧!我同意大家的意见,先讨论数学模型。那些洋泾浜的翻译会给人好多误导。可能当时自己还没有搞清楚就敢写书了。还是先讨论所谓的Line Overlaps的数学模型为好。不然您搞清楚了,我们还是糊涂。

    把这个讨论清楚了,中国懂直读理论的人就更多了。其实很多人都是模模糊糊的,好像明白了。我也是。我的英文不好,吃亏呀。老头

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