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求助7700S测试半导体材料中Cu元素的含量

  • 豆豆3252
    2015/03/16
    • 私聊

ICP-MS

  • 各位老师大家好：我用的是10%HF&5%H2O2测试SiO2中Cu离子的含量，用3种模式测试的结果相差较大，麻烦大家帮我看看哪种模式测试的准确。测试结果附上 ，谢谢
    CuCuCu
    636363
    CoolNogasHE
    00.0090.005
    1.6440.0950.086
    0.0010.0110.004
    1.570.0320.022
    0.0010.0630.004
    0.9730.1080.038
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  • 光哥

    第1楼2015/03/16

    应助工程师

    测试模式以下的那堆数据代表？？？这个好难猜的

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  • 豆豆3252

    第2楼2015/03/16

    老师，每行是测试同一种样品的测试结果，PPb 含量的

    光哥(xsh1234567) 发表:测试模式以下的那堆数据代表？？？这个好难猜的

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  • timstoicpms

    第3楼2015/03/16



    你到底是测 高纯HF、双氧水中的Cu杂质？还是用 HF H2O2去消解高纯SiO2，进而测硅的Cu杂质？

    豆豆3252(v2868110) 发表:各位老师大家好：我用的是10%HF&5%H2O2测试SiO2中Cu离子的含量，用3种模式测试的结果相差较大，麻烦大家帮我看看哪种模式测试的准确。测试结果附上 ，谢谢
    CuCuCu
    636363
    CoolNogasHE
    00.0090.005
    1.6440.0950.086
    0.0010.0110.004
    1.570.0320.022
    0.0010.0630.004
    0.9730.1080.038

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  • 豆豆3252

    第4楼2015/03/17

    用 HF H2O2去消解高纯SiO2，测试溶液中Cu杂志的含量。

    timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:你到底是测 高纯HF、双氧水中的Cu杂质？还是用 HF H2O2去消解高纯SiO2，进而测硅的Cu杂质？

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  • 豆豆3252

    第6楼2015/03/18

    老师i我不太懂这个测试，用cool测试溶液没问题，但是用cool测试腐蚀后的溶液，cool与nogas和氦气差的好多。我们公司要测试腐蚀完氧化层的溶液。我就不知道用什么模式测了。

    timstoICPMS(timstoICPMS) 发表: 你变脸 变得真快！ http://bbs.instrument.com.cn/shtml/20150304/5692067/

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  • 光哥

    第7楼2015/03/18

    应助工程师

    所以你前处理、仪器的各种状态什么的全都没有，单凭几个数据如何判断？

    基础的是Cool Plasma模式适应于简单基体的溶液，看这个样子你似乎是没赶酸挥发硅就直接测的？那就用H2模式吧

0
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  • 豆豆3252

    第8楼2015/03/18

    老师，没有H2模式，能用氦气模式吗

    光哥(xsh1234567) 发表:所以你前处理、仪器的各种状态什么的全都没有，单凭几个数据如何判断？

    基础的是Cool Plasma模式适应于简单基体的溶液，看这个样子你似乎是没赶酸挥发硅就直接测的？那就用H2模式吧

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  • 豆豆3252

    第9楼2015/03/18

    老师麻烦您帮我解释下酸挥发硅是什么意思呗，谢谢。

    光哥(xsh1234567) 发表:所以你前处理、仪器的各种状态什么的全都没有，单凭几个数据如何判断？

    基础的是Cool Plasma模式适应于简单基体的溶液，看这个样子你似乎是没赶酸挥发硅就直接测的？那就用H2模式吧

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  • 豆豆3252

    第10楼2015/03/18

    老师麻烦您帮我解释下酸挥发硅是什么意思呗，谢谢。

    光哥(xsh1234567) 发表:所以你前处理、仪器的各种状态什么的全都没有，单凭几个数据如何判断？

    基础的是Cool Plasma模式适应于简单基体的溶液，看这个样子你似乎是没赶酸挥发硅就直接测的？那就用H2模式吧

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