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求科普——Houk 老师关于多原子离子PAI干扰的研究

ICP-MS

  • 如题,谢谢大家。
    1 ICP在正常功率操作,除去高电位情况下,离解能比较低
    的离子,如ArO+及ArN+的丰度与原来ICP的相符。
    但它们在一些仪器里,特别是在高电位情况下,在提
    取过程中实际上已经破碎,而Ar2+却没有损失。
    2 结合很紧的MO+的丰度,如CeO+和LaO+ 与在ICP时的一致,但ClO+却与稀土MO+不同,因此可以认为过量的ClO+
    可能是在离子提取过程中形成的。

    3 从水衍生的各种离子的数量,如H2O+,比OH+多得多。
    4 NO+ 比原来的少(由质谱图看出),原因不明。
  • 该帖子已被版主-阶前尘加2积分,加2经验;加分理由:发帖
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  • 阶前尘

    第1楼2015/03/30

    应助达人

    这么高深的问题,期待高手来解答,估计要一定的物理化学知识!

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  • 阶前尘

    第2楼2015/04/30

    应助达人

    我还帮你置顶吧,我也很想了解这方面的知识

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  • yukiyxy

    第3楼2015/05/21

    楼主,我也想知道,不知道方不方便把原文贴上来,可以根据上下文进行判断。

    envirend(envirend) 发表: 如题,谢谢大家。
    1 ICP在正常功率操作,除去高电位情况下,离解能比较低
    的离子,如ArO+及ArN+的丰度与原来ICP的相符。
    但它们在一些仪器里,特别是在高电位情况下,在提
    取过程中实际上已经破碎,而Ar2+却没有损失。
    2 结合很紧的MO+的丰度,如CeO+和LaO+ 与在ICP时的一致,但ClO+却与稀土MO+不同,因此可以认为过量的ClO+
    可能是在离子提取过程中形成的。

    3 从水衍生的各种离子的数量,如H2O+,比OH+多得多。
    4 NO+ 比原来的少(由质谱图看出),原因不明。

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  • 化工小能手

    第4楼2015/06/02

    书籍里面的吗?哪本书呢?

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  • 又又1990

    第5楼2015/06/04

    好高深的问题啊,老师您现在是否理解了呢?欢迎过来分享哦!

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  • envirend

    第6楼2015/06/04

    应助达人

    [div]原文由yukiyxy发表: 楼主,我也想知道,不知道方不方便把原文贴上来,可以根据上下文进行判断。[/div]某个培训资料上看到的,培训上说引自那个老师的论文。

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  • 网印

    第7楼2015/11/12

    多原子分子质谱的重叠造成的干扰问题,在等离子体中存在多余过量的氧化物,正的或者负的干扰,引入等离子体中还包括有H和OH,ICPMS可以检测到MO 、MH 、MOH ,要减少和水相关的多原子分子,气动雾化冷却雾化或者膜去溶剂这些手段都可以除水,就是Ar吹扫入口的地方加热氟聚合物膜再引入ICPMS。现在的ICPMS很多都是这种机构。
    好久没搞ICPMS了,回得不好,多多包涵。

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  • 网印

    第8楼2015/11/12

    是MO+,MH+,MOH+,在这里没显示

    网印(ytnh984xyz) 发表:多原子分子质谱的重叠造成的干扰问题,在等离子体中存在多余过量的氧化物,正的或者负的干扰,引入等离子体中还包括有H和OH,ICPMS可以检测到MO 、MH 、MOH ,要减少和水相关的多原子分子,气动雾化冷却雾化或者膜去溶剂这些手段都可以除水,就是Ar吹扫入口的地方加热氟聚合物膜再引入ICPMS。现在的ICPMS很多都是这种机构。
    好久没搞ICPMS了,回得不好,多多包涵。

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