【仪器小白】关于ED-XRF的检测原理

应助达人

通常来说检测器的响应是非常快的。当X光进入Si晶体（不管是Si(Li)、Si-PIN，还是SDD），产生电子空穴对，这个时间在μs以内，然后立即被电场扫走被电极搜集形成脉冲电流，所以你说的情况发生几率是很低的。
这个脉冲电流经过电路处理、前置放大器放大等一系列过程后，在相应的道址上累计一个计数。而不同能量的X光子产生的电子空穴对数目不同，对吧？对应的脉冲电流大小、脉冲电压的高低也不一样，在MCA那里，会进入不同的道址。打个不太恰当的比方，酒店(MCA)按照身高分配房间，张三身高1.6m，进入308房间，李四身高1.7米，进入309房间。
当然话说话来，你说的情况还是有一定的几率会发生的，这就是和峰的起源，俩光子一同进入检测器，或者间隔时间非常之短，光子的堆积就会形成和峰。但是通常和峰发生的几率很低，这一点你看看EDXRF的谱图就知道了，和峰并不是频繁发生，谱图上并不是那么常见。对吧?