GaN HEMT半导体器件的特点及其应用
西安国联质量检测技术股份有限公司
品控 张敏莉
摘 要:随着电力电子技术的发展,高频、高功率密度成为未来的发展趋势,GaN器件由于其高频、低损耗等特点而受到广泛关注。本文通过将GaN HEMT器件和Si器件进行对比,对GaN HEMT半导体器件的自身特性以及未来的应用趋势进行综述。器件特性 | IPW65R110CFDA Cool MOSFET | GS66508B GaN HEMT |
漏源电压VDS/V | 650 | 650 |
通态电流ID/A(25℃) | 31.2 | 30 |
通态电流ID/A(100℃) | 19.7 | 25 |
通态电阻RDS(on)/mΩ(25℃) | 110 | 50 |
驱动电压Vgs/V | -20/20 | -10/7 |
驱动阈值电压VGS(th)/V | 4 | 1.3 |
输入电容Ciss/pF | 3240 | 260 |
反向恢复电荷Qrr/nC | 800 | 0 |
封装 | 14.81x9.70mm2 | 7.0x8.4mm2 |
表1是选取了功率等级相同的GaN器件以及Si器件进行其材料性能的对比。
材料 特性 | UDS /V | RON /m | IDmax /A | UGS(DC) /V |
C3M0065090J | 900 | 65 | 35 | -4/15 |
C3M0120100J | 1000 | 120 | 22 | -4/15 |
C2M0025120D | 1200 | 25 | 90 | -5/20 |
C2M0045170D | 1700 | 45 | 72 | -5/20 |
材料 特性 | UDS /V | RON /m | IDmax /A | UGS(DC) /V | UGS(DC) /V |
EPC2100 | 30 | 8 | 9.5 | -4/6 | 0.8/2.5 |
EPC2033 | 15 | 7 | 31 | -4/6 | 0.8/2.5 |
EPC2025 | 300 | 120 | 6.3 | -4/6 | 0.8/2.5 |
EPC66502 | 650 | 220 | 7 | -10/7 | 0.8/2.5 |
(a) GaN HEMT开通波形
(b) GaN HEMT关断波形
(a) Si MOSFET开通波形
(b) Si MOSFET关断波形
图 2 GaN HEMT和Si MOSFET开通关断波形对比
2.3 宽禁带器件的目前应用实例年份 | 单位 | 功率 /kW | 效率 % | 功率密度 (KW/L) |
2014 | 三菱和欧姆龙 | 5.5 | -- | -- |
2014 | 富士电机 | 20 | 99 | 0.25 |
2014 | 富士电机 | 1 | 98.8 | 0.2 |
2015 | 三菱 | 4.4 | 98 | 0.26 |
2015 | 美国科锐 | 50 | 99.1 | 0.23 |