水清鱼读月
第1楼2018/10/31
就我个人的理解,GSAS中Le Bail精修主要用于两点,一是没有原子坐标信息时可以用它来获取晶格常数;二是作为Rietveld精修的前导工作,获取Rietveld精修所要的Profile参数。因为Rietveld精修容易发散,相比较而言Le Bail精修要稳定得多,先做Le Bail精修获得的Profile中的GU、GV、GW、LX、LY等参数值,可以直接用做Rietveld精修的初始值,这大大加快了Rietveld精修的速度。
操作上其实没有什么不同,主要是要关闭scale标度因子的精修标记,在LS Control中选择Le Bail 精修,然后就和Rietveld一样的操作,大致是先unit cell和shft,然后 profile啥的。另外Le Bail精修如果发散,重新Powpref一下就会重置所有的HKL强度。
Le Bail做完了,关闭所有精修标记的框,重新打开scale标记开始Rietveld精修即可,不同的是,你已经有了初始的Profile参数了,这比Profile从0开始修难度小多了。
以上,个人理解,供参考。