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微流控芯片光刻机优势及特色
孚光精仪
2019/09/25
私聊
生命科学仪器综合讨论
微流控芯片光刻机
专业为
微流控芯片制作
而设计,用于
刻画制作微结构
表面,全自动化和可编程操作,适合几乎所有常用材料。
微流控芯片光刻机
采用多功能一体化设计理念,一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能,而且不需要无尘环境,用户安装使用不再需要单独建设超净间,从而大大提高用户的使用经济性和方便性。
微流控芯片光刻机
特色
可以根据用户的芯片衬底基片尺寸,形状和厚度进行调节。
是一种无掩模光刻系统,具有两个易操作的软件,用户可以创建个人微结构图案,从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。
具有技术突破性设计和灵活性优势,非常适合加工微纳结构用于MEMS,BioMEMS,微流控系统,传感器,光学元件,MicroPatterning微图案化,实验室单芯片,CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。
无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构,从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管(波长405纳米- 50毫瓦),光学扫描器和F-θ透镜(405纳米)。激光束根据设定微结构图案而运动。
为了方便使用,较好的再现性和较高的质量,焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用,修改或其他用户使用。
微流控芯片光刻机:
http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html
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