【求助】ICP测 As 偏高200PPM!.有谱图.请各位帮忙看看!

建议1.将仪器的炬管重新安装一次,确认炬管位置正确,
2. 重新启动仪器及电脑,热机1个小时后再测,
3.在测的过程中观察电浆是否正常

你把最终的结果反馈过来 我再帮你看看

你吹扫了么？？

另外，重新配一个溶液看看。

还有，调整一下背景扣除点，避开左边的锋！

好.谢谢.先按你们说的办先.等下我把结果发上来.

在
1.重启机器\预热并初始化,
2.检查雾化器
3.更换一个备用的干净矩管,
4.做光谱矫正
5.开测!
结果如图.


干扰的元素拖个好长的尾巴哦.不知道怎么办了.

所用试剂为GR级,所用的玻璃器皿均已用10%HNO3浸泡过夜并用去离子水清洗5遍以上.

但是结果还是偏高.

从谱图分析,初步怀疑是铁的干扰?还是基体问题?(所测样品为锑锭)

各位大虾,帮我分析一下,谢谢!

这个峰不就很好了么已经？？

这个峰不就很好了么已经？？

既然怀疑铁干扰，买铁单元素标准溶液上机测试，如真的，可用IEC扣除干扰。

沾污影响的可能性不大，四楼的谱图中做的reagent blank-试剂空白与calibration系列-标准溶液的背景是大致在同一强度位置的。

从谱图中可以看出样品、包括管理样(均为斜坡背景)与标准溶液(水平背景)存在基体差的光谱背景干扰。建议采用基体匹配法或是标准加入法来进行样品的测定以克服上述的干扰。