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安捷伦7900，机台疑似被污染

ICP-MS

  • 背景：半导体行业，正常持续过程，平时量测抛光片表面metal

    现象：在毫无前兆的情况下，量测片子前量测的blank异常升高，起初以为所配置的萃取液污染所致，但更换之前验证ok的萃取液重新量测blank，数值依旧高，然后转到调机界面监控调机液感度，感度正常且RSD正常，切到水中和萃取液中观察各元素的背景值发现，起初各元素数值均正常，但是监控一段时间后，各元素均明显升高，且不再回落，接着有切回到调机液，监控感度数值与之前相差不大，且RSD正常

    问题：什么原因会导致此现象？监控画面见附件
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    +关注 私聊

  • timstoicpms

    第1楼2022/01/19

    无外乎就是 台积电、XX超芯。还是联系 VPD 售后服务团队吧。

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    +关注 私聊

  • 化学潜行者

    第2楼2022/01/20

    各元素均明显升高，升高多少？是不是锥积盐过多或锥孔过大？

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  • NA

    第3楼2022/01/21

    對面的朋友你好，建議你檢查下機台所用的碰撞氣

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    +关注 私聊

  • 光哥

    第4楼2022/01/24

    应助工程师

    以前遇到类似的情况，但我当时是拆洗了整个进样系统、接口最后是八极杆。清洗完之后，整体的背景有所降低。。。。供参考

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