仪器信息网APP
选仪器、听讲座、看资讯
当前位置: 仪器社区 >质谱 > ICP-MS > 帖子详情

安捷伦7900,机台疑似被污染

ICP-MS

  • 背景:半导体行业,正常持续过程,平时量测抛光片表面metal

    现象:在毫无前兆的情况下,量测片子前量测的blank异常升高,起初以为所配置的萃取液污染所致,但更换之前验证ok的萃取液重新量测blank,数值依旧高,然后转到调机界面监控调机液感度,感度正常且RSD正常,切到水中和萃取液中观察各元素的背景值发现,起初各元素数值均正常,但是监控一段时间后,各元素均明显升高,且不再回落,接着有切回到调机液,监控感度数值与之前相差不大,且RSD正常

    问题:什么原因会导致此现象?监控画面见附件
    +关注 私聊
  • timstoicpms

    第1楼2022/01/19

    无外乎就是 台积电、XX超芯。还是联系 VPD 售后服务团队吧。

0
    +关注 私聊
  • 化学潜行者

    第2楼2022/01/20

    各元素均明显升高,升高多少?是不是锥积盐过多或锥孔过大?

0
    +关注 私聊
  • NA

    第3楼2022/01/21

    對面的朋友你好,建議你檢查下機台所用的碰撞氣

0
    +关注 私聊
  • 光哥

    第4楼2022/01/24

    应助工程师

    以前遇到类似的情况,但我当时是拆洗了整个进样系统、接口最后是八极杆。清洗完之后,整体的背景有所降低。。。。供参考

0
猜你喜欢最新推荐热门推荐更多推荐
举报帖子

执行举报

点赞用户
好友列表
加载中...
正在为您切换请稍后...