ICP-MS
mier
第1楼2007/07/10
同问,面临同样的问题
Rainwolf_Q
第2楼2007/08/08
用HF处理,然后加热赶出SiF4。
第3楼2007/08/08
看看附件,是ICPOES的,和你的要求略有不同,但可供借鉴。【由于该附件或图片违规,已被版主删除】相关文献
fangzhen0221
第4楼2008/01/07
我主要是做半导体硅,样品处理方法是加1:1的硝酸:氢氟酸,先加硝酸,后加氢氟酸,然后放在加热板上赶SiF4
a_lei82
第5楼2008/01/16
用HF可以做其他元素,可B不行啊!
yuyuunt
第6楼2008/02/26
是啊,回收率很差。BF3会挥发,听说有加甘露醇的,但是做有机的好麻烦哦
perryclive
第7楼2008/03/26
嗯嗯,文献中有用甘露醇的...ICP-AES...
光哥
第8楼2008/03/28
和多晶硅相比,金属硅应该是很低的纯度才是吧??1101的也才接近4N啊。
jchencs
第9楼2008/03/31
如果纯度不超过6N,可用ICP测,如果超过则只能用GDMS测。
chauchylan
第10楼2008/04/01
应根据SI的纯度,选择合适的分析方法吧...
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