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【求助】MS 中二次放电到底是怎么来的?

  • juanbaby52
    2007/06/17
  • 私聊

ICP-MS

  • MS 中二次放电到底是怎么来的?谁能给我详细的讲一下其产生过程?
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  • chauchylan

    第1楼2008/04/10

    可以参看一下:<电感耦合合等离子体质谱应用实例>这本书.
    作者:王小如 主编
    多原子离子的产生主要就是和二次放电有关吧,降低二次放电可以减小多原子离子的产生..

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  • chauchylan

    第2楼2008/04/11

    对于二次放电的消除,不同公司采用的措施也不尽相同..

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  • 唐伯猫点蚊香

    第3楼2008/04/13

    是的,有采用冷等离子体技术,有采用屏蔽炬技术,但实际应用还有问题.

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  • chauchylan

    第4楼2008/04/13

    二次放电主要发生在采样锥与分离锥之间吧,是由于等离子体具有较高的电位而产生的..减小的措施有带中心抽头负载线圈接法,即负载线圈中心接地,还有采用屏蔽炬技术的..

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  • chauchylan

    第5楼2008/04/14

    等离子体处于常压,采样锥与截取锥大约有几百至几十帕的气压,处于低真空,质量分析器则处于高真空,由此可见两锥之间极易放电,是多原子离子产生的地方之一..

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  • chauchylan

    第6楼2008/04/16

    降低多原子离子干扰的一个主要途径就是减小二次放电效应吧..

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