HSQ-光刻胶/SOG

HSQ-光刻胶/SOG

品牌Applied Quantum

货号 H-SiOx 价格 面议

核心参数

规格
克

产品介绍

HSQ (Hydrogen Silsesquioxane Polymers) 是⼀种半导体级纯度的氢倍半硅氧烷聚合物。作为半导体⾏业的⼀种重要材料应⽤于超⾼分辨EUV光刻、电⼦束光刻，以及作为旋涂玻璃层（SOG）应⽤于半导体⾏芯⽚表⾯平坦化层和介电层以及中间层等。


为了满⾜各位⽼师对⾼品质电⼦束光刻胶的需求，汇德信与加拿⼤AQ Materials建⽴深度合作关系，旨在为各位⽼师提供灵活且易于存储的H-SiOx（HSQ）超⾼分辨率电⼦束负胶产品。


AQM开发了⼀种⽅便且通⽤的⽅法来合成电⼦级倍半硅氧烷基（由硅和氧核，H-SiOx组成）树脂。这类聚合物/树脂是⼀款超⾼分辨率的电⼦束负胶⽤于纳⽶电⼦器件制造过程。我们的H-SiOx聚合物具有最佳的分⼦量，可以在普通有机溶剂（例如甲苯和甲基异丁基酮）中制成均匀的溶液，获得⾼质量薄膜。可以获得具有⼩于10 nm半周期（视光刻胶厚度）的密集图案。


图1 H-SiOx粉末，便于存储 
图1 H-SiOx粉末，便于存储

产品特点：


图2 H-SiOx制成的菲涅⽿波带⽚ 

图2 H-SiOx制成的菲涅⽿波带⽚①


  • 成膜性好

  • 高分辨率（<10 nm特征尺寸）

  • 优异的线条边缘粗糙度

  • 良好的耐干蚀刻性能

  • 粉末形式可灵活配制不同厚度

  • 在20°C下具有非常长的保存周期（粉末形式）


H-SiOx具有与经典HSQ相同的超⾼分辨率和优异的耐⼲法刻蚀能⼒。但相⽐于经典HSQ产品以粉末形式存储，保质期更⻓，可根据应⽤灵活配置浓度获得不同胶厚的薄膜。可使⽤通⽤TMAH显影液或者盐显影液进⾏显影⼯艺，分别可获得⾼灵敏度（对⽐度约为4.8）或低灵敏度⾼对⽐度（约为8.7）的结果②，可满⾜不同应⽤场景的需求。


为了更好的服务⼴⼤客户，我们针对H-SiOx产品采取粉末形式交货，延⻓产品的使⽤寿命，客户可根据⾃⼰的实际膜厚需求配置，为⽅便⼤家使⽤，我们免费赠送MOS级MIBK溶剂，以及过滤器，⽅便客户使⽤！


关于H-SiOx超⾼分辨率电⼦束负胶产品，如果您有任何问题或者需要产品资料，请随时联系我们！


参考文献：


① Application of HSQ electron beam resist for silicon photonic applications, courtesy of Applied Nanotools Inc.

② https://doi.org/10.1116/1.5079657


HSQ-光刻胶/SOG信息由北京汇德信科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于HSQ-光刻胶/SOG报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。除供应HSQ-光刻胶/SOG外，北京汇德信科技有限公司还可为您提供电子束光刻胶 AR-P 6510，紫外光刻胶 AR-P 3200（AR-P 3210，3220，3250），紫外光刻胶 AR-N 4400等产品，公司有专业的客户服务团队，是您值得信赖的合作伙伴。

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