Elionix离子束刻蚀系统

Elionix离子束刻蚀系统

参考价：面议
型号： EIS-200
产地： 日本
品牌：
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上海纳腾仪器有限公司
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产品名称：离子束刻蚀系统

品牌：Elionix

型号：EIS-200

关键词标签：离子束蚀刻，干法蚀刻，离子束轰击，离子束减薄

简短描述：（<40字）：利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

一、简介

EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术（ECR）的小型离子束蚀刻系统，特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄，清洗、镀膜等。

EIS200.jpg

EIS-200原理：

原理.jpg

利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速到达样品表面，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

EIS-200具有以下优点：

?   方向性好，各向异性，陡直度高，侧向刻蚀少

?   分辨率高

?   不受刻蚀材料限制，可对石英等材料进行蚀刻

?   可控制蚀刻Taper角

?   可以设定多样的实验条件

二、主要功能

l  主要应用

纳米级图案刻蚀

高深宽比蚀刻

表面清洁

离子减薄

l  技术能力

离子枪

ECR型离子枪

离子化气体

Ar、Xe等、惰性离子气体

N2、O2、CF4等、活性离子气体

加速电压

100V～3000V 连续可变（高加速电压可选) (输出电流20mA MAX)

离子束流密度

Ar:1.5mA/cm2以上 (2kV加速時）

O2:2.0mA/cm2以上 (2kV加速時）

离子束有效直径

Φ20mm（FWHM35mm)

离子束稳定度

±3％/2H

大样品尺寸

Φ4英寸

三、应用

纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等

?   SiO2 on Si substrate

应用1.jpg

?   Diamond Substrate（金刚石）

应用2.jpg

?   Quartz (Mask)

应用3.jpg

?   Oriented PET film

应用4.jpg


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典型用户
用户单位 采购时间
上海微系统所 2019/03/29

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