型号: | Voyager |
产地: | 美国 |
品牌: | DENTON |
评分: |
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美国Denton(丹顿)PE-CVD
详细介绍
丹顿真空公司位于美国费城,是世界闻名真空镀膜设备制造商。 自一九六四年成立至今丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PE-CVD镀膜系统,用于大型工业生产、科研开发和小规模制造。 丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。
PE-CVD解决方案
与典型CVD反应器相比,等离子体增强型化学气相沉积(PE-CVD)提供了一种可使用更低温度沉积各种薄膜的有效替代方案,同时不会降低薄膜质量。高质量的二氧化硅(SiO2)膜可以在300℃至350℃沉积,而CVD需要650℃至850℃的温度生产类似质量的镀膜。
PE-CVD使用电能产生辉光放电(等离子体),其中能量转移到气体混合物中。这将气体混合物转化成反应性自由基、离子、中性原子和分子,以及其他高活性物质。在PE-CVD中,气相和表面反应受到等离子体性质的强烈控制。代替热活化,气体混合物的电子碰撞电离驱动气相反应,能够在比常规CVD工艺低得多的温度下进行沉积。 对于PE-CVD,沉积速率通常不是基片温度的强函数,表面活化能通常很小。然而,薄膜性质,例如,组成、应力和形态,通常是基片温度的强函数。
等离子体增强CVD的优点
PE-CVD镀膜的一些理想性能包括,良好的粘附性、低针孔密度、良好的保形性,以及平面和三维表面上的均匀性。 PE-CVD的实用性和灵活性在于,其能够在从硅片到汽车部件的各种基材上沉积高质量的镀膜。此外,等离子体增强CVD系统比常规CVD提供更低的拥有成本。
丹顿真空公司专门从事等离子增强CVD (PE-CVD),沉积类金刚石(DLC)镀膜。DLC镀膜是一类无定形碳膜,表现出与金刚石相似的性能,例如,硬度、抗刮擦性和高导热性。此外,DLC镀膜由于其生物相容性、红外透明性和电绝缘性能,在商业方面极具价值。丹顿公司已经开发专有的能力,扩展DLC的特性范围,包括抗指纹和疏水性。
我们的 Voyager PE-CVD解决方案提供低温溅射,具有高度均匀性。
用户单位 | 采购时间 |
中国科学院半导体研究所 | 2017/10/18 |
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