型号: | CMP20 |
产地: | 上海 |
品牌: | 上海纳腾仪器 |
评分: |
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1、 设备介绍
通过将产品固定在抛光头的最下面,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,抛光液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层抛光液液体薄膜。抛光液中的化学成分与产品表面材料产生化学反应,将不溶的物质转化为易溶物质,或者将硬度高的物质进行软化,然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从产品表面去除,溶入流动的液体中带走,即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的,通过先进的工艺可实现纳米级别的粗糙度效果。
支持存储多种抛光工艺,操作简单便捷,支持2/4/6寸产品抛光,可提供常见晶圆加工工艺,24小时内售后及时响应。
二、技术参数:
基础配置:
抛光头模块:气膜加压,个分区独立控制
摩擦力模块:利用电机电流表征摩擦力
样品加工能力:2/4/6英寸
抛光实现方式:触屏程序控制
抛光头下压力:0~4 psi(4英寸)
抛光头转速:0~300 rpm,连续可控
抛光盘转速:0~300 rpm,连续可控
修整器转速:0~300 rpm,连续可控
抛光头/修整器往复:行程90 mm,速度连续可控
抛光液:1路,蠕动泵供液,流速0~300 mL/min
去离子水:1路,蠕动泵供液,流速0~300 mL/min
升级配置:
电化学模块:电位范围±10 V,电流范围±250 mA,支持三电极、两电极体系,支持多种测量方法,如循环伏安法等。
紫外光模块:波长λ=95 nm的紫外光源、发光面积1020*100(mm)、耗电功率200W、相对光效2000W、能量峰值614mW。
三、案例
铜空白晶圆
铜图案化晶圆
铜/镍MEMS晶圆
金属基底
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