ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500

ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500

参考价:¥210万
型号: ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500
产地: 德国
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ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500

SI 500是高刻蚀速率、低损伤刻蚀设备,特别针对III-V半导体和微光学应用

主要特点:

高速率刻蚀

低损伤 

高深宽比

高一致性

平板三螺旋天线式PTSA等离子源(P)lanar (T)riple (S)piral (A)ntenna

远程控制

应用领域:III-V半导体化合物,微光学,微系统

SENTECH高级等离子设备操作软件

穿墙式安装方式

干涉式终点探测和刻蚀深度测量系统

 

系统配置:

PTSA ICP等离子源 (13.56 MHz, 1200 W),集成自动匹配网络。

RF偏置(13.56 MHz, 600 W)

循环进气,集成到PTSA源内

高速率真空泵系统,独立气流压强控制


北京亚科晨旭科技有限公司为您提供ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500,nullICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500产地为德国,属于进口电子束曝光机,除了ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多电子束曝光机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552,售前、售后均可联系。

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