型号: | ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500 |
产地: | 德国 |
品牌: | |
评分: |
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ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀 SI 500
SI 500是高刻蚀速率、低损伤刻蚀设备,特别针对III-V半导体和微光学应用
主要特点:
高速率刻蚀
低损伤
高深宽比
高一致性
平板三螺旋天线式PTSA等离子源(P)lanar (T)riple (S)piral (A)ntenna
远程控制
应用领域:III-V半导体化合物,微光学,微系统
SENTECH高级等离子设备操作软件
穿墙式安装方式
干涉式终点探测和刻蚀深度测量系统
系统配置:
PTSA ICP等离子源 (13.56 MHz, 1200 W),集成自动匹配网络。
RF偏置(13.56 MHz, 600 W)
循环进气,集成到PTSA源内
高速率真空泵系统,独立气流压强控制
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