超高分辨率电子束光刻EBLUltrahigh Resolution EB Lithography

产品详情

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统。

超高分辨率的电子束光刻

技术参数：
加速电压：最高130keV
单段加速能力达到130keV，尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度，无微放电
电子束直径＜1.6nm
最小线宽＜7nm
双热控制，实现超稳定直写能力

北京亚科晨旭科技有限公司为您提供超高分辨率电子束光刻EBLUltrahigh Resolution EB Lithography ，nullUltrahigh Resolution EB Lithography 产地为日本，属于进口电子束曝光机，除了超高分辨率电子束光刻EBL的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多电子束曝光机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552，售前、售后均可联系。

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企业名称: 北京亚科晨旭科技有限公司
企业类型:
信用代码: 110105009081828
成立日期: 2005年11月28日
注册资本: 500
经营范围: 技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）

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型号：	Ultrahigh Resolution EB Lithography
产地：	日本
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