电子束光刻系统

电子束光刻系统

参考价:¥400万 - 500万
型号: 电子束光刻系统
产地: 日本
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产品详情

电子束光刻系统

 

 

产品特点
1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪 
2.出色的电子束偏转控制技术 
3.采用场尺寸调制技术,电子束定位分辨率(address size)可达0.0012nm 
4.采用轴对称图形书写技术,图形偏角分辨率可达0.01mrad 
5.应用领域广泛,如微纳器件加工,Si/GaAs

 

产品参数

产品参数
1.最小线宽:小于10nm(8nm available) 
2.加速电压:1-50kV 
3.电子束直径:小于2nm 
4.套刻精度:20nm(mean+2σ) 
5.拼接精度:20nm(mean+2σ) 
6.加工晶圆尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option) 
7.描电镜分辨率:小于2nm

 

产品介绍

产品介绍
纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技                             
术制作中是zui好的方法之一。为21世纪先进纳米科技提供尖端 
的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 
系列zui小线宽可达8nm,zui小束斑直径2nm,套刻 
精度 20nm(mean+2σ),拼接精度 20nm(mean+2σ)。

 


北京亚科晨旭科技有限公司为您提供电子束光刻系统,null电子束光刻系统产地为日本,属于进口电子束曝光机,除了电子束光刻系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多电子束曝光机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552,售前、售后均可联系。

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