电子束曝光EBL

电子束曝光EBL

参考价:¥400万 - 500万
型号: 电子束曝光EBL
产地: 日本
品牌:
评分:
核心参数
关注展位 全部仪器
展位推荐 更多
产品详情

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 

超高分辨率的电子束光刻

技术参数:
加速电压:最高130keV
单段加速能力达到130keV,尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度,无微放电
电子束直径<1.6nm
最小线宽<7nm
双热控制,实现超稳定直写能力


北京亚科晨旭科技有限公司为您提供电子束曝光EBL,null电子束曝光EBL产地为日本,属于进口电子束曝光机,除了电子束曝光EBL的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多电子束曝光机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552,售前、售后均可联系。

相关产品

北京亚科晨旭科技有限公司为您提供电子束曝光EBL,null电子束曝光EBL产地为日本,属于进口电子束曝光机,除了电子束曝光EBL的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多电子束曝光机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552,售前、售后均可联系。
Business information
工商信息 信息已认证
当前位置: ASTchian 仪器 电子束曝光EBL

关注

拨打电话

留言咨询