RIE反应离子刻蚀 SI 591

RIE反应离子刻蚀 SI 591

参考价:¥160万
型号: RIE反应离子刻蚀 SI 591
产地: 德国
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RIE反应离子刻蚀 SI 591

 

      反应离子刻蚀机SI 591采用模块化设计,可满足III/V半导体和Si加工工艺领域的的灵活应用。 SENTECH SI 591可应用于各种领域的蚀刻工艺中,能够完成多种刻蚀加工。

主要特点: 

高均匀性和优重复性的蚀刻工艺

预真空锁loadlock

电脑控制操作

SENTECH高级等离子设备操作软件

数据资料记录

穿墙式安装方式

刻蚀终点探测

系统配置:

平行板式反应线圈,13.56 MHz (600 W)

喷淋头式进气

预真空锁loadlock, 带有取放机械手

绝缘、冷却和加热电极(-2580),基底4"-8"直径,基底托架可支持小片材料和多晶圆。

PLC控制, PC 


北京亚科晨旭科技有限公司为您提供RIE反应离子刻蚀 SI 591,nullRIE反应离子刻蚀 SI 591产地为德国,属于进口电子束曝光机,除了RIE反应离子刻蚀 SI 591的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多电子束曝光机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552,售前、售后均可联系。

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