EBL电子束光刻系统50KV_价格-北京亚科晨旭科技有限公司

产品详情

电子束光刻系统，EBL电子束光刻系统50KV

产品特点
1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪
2.出色的电子束偏转控制技术
3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（address size)可达0.0012nm
4.采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.01mrad
5.应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs

产品参数

产品参数
1.最小线宽：小于10nm（8nm available)
2.加速电压：1-50kV
3.电子束直径：小于2nm
4.套刻精度：20nm(mean+2σ)
5.拼接精度：20nm(mean+2σ)
6.加工晶圆尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option)
7.描电镜分辨率：小于2nm

北京亚科晨旭科技有限公司为您提供EBL电子束光刻系统50KV，nullEBL电子束光刻系统50KV产地为日本，属于进口电子束曝光机，除了EBL电子束光刻系统50KV的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多电子束曝光机,ASTchian客服电话400-860-5168转4552，售前、售后均可联系。

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信息已认证

企业名称: 北京亚科晨旭科技有限公司
企业类型:
信用代码: 110105009081828
成立日期: 2005年11月28日
注册资本: 500
经营范围: 技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）

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型号：	EBL电子束光刻系统50KV
产地：	日本
品牌：
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