螣芯电子原厂RTP快速退火炉升温速率可达150℃/sTable-6

原厂RTP快速退火炉升温速率可达150℃/s

参考价：面议

型号：

Table-6

产地：

广东

品牌：

螣芯电子

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产品详情

螣芯科技

RTP快速退火炉RTP-150真空快速退火炉

产品特点

u 红外卤素灯管加热，冷却采用风冷

u 灯管功率PID控温，可准确控制温度升温，保证良好的重现性与温度均匀性

u 采用平行气路进气方式，气体的进入口设置在Wafer表面，避免退火过程中冷点产生，保证产品良好的温度均匀性

u 大气与真空处理方式均可选择，进气前气体净化处理

u 标配三组工艺气体

u 可测单晶片样品的尺寸为6英寸（150mm）

u 采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障仪器使用安全

RTP行业应用

u 氧化物、氮化物生长

u 硅化物合金退火

u 砷化镓工艺

u 欧姆接触快速合金

u 氧化回流

其他快速热处理工艺

RTP-150RL
产品尺寸	6寸晶圆或者支持150×150mm产品
腔体材质	镀金铝制腔体
腔体门锁方式	自动门锁，保证制程安全
温度范围	室温~800℃

升温速度	150℃/s可编程（此温度为不含载盘的升温速度） 20℃/s（SiC载盘）
温度均匀度	±5℃≤500℃ ±1%＞500℃

温度控制重复性	±1℃
恒温持续时间	可依据要求编程
温控方式	快速PID温控
控温区域	多组控温区域，保证恒温区温度稳定性
降温速度	约200℃/min（1000~400℃）不可编程
腔体设计	可配置大气常压腔体或者真空腔体
真空泵	风冷式干泵
腔体冷却方式	水冷腔体，独立水冷源控制冷却
冷水机配置	优先选螣芯科技配置的冷水机，或者使用厂务用水
衬底冷却方式	氮气吹扫
工艺气体	MFC控制，常规两路气体（N₂ / GN₂）一路工艺气体、一路氮气吹扫气体
控制方式	工业电脑+PC control
温度校准	TC Wafer及温度校准工具（选配）
Wafer托盘	SiC（选配）

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