原子层沉积(ALD)系统

原子层沉积(ALD)系统

参考价:面议
型号: AD-230LP
产地: 日本
品牌: SAMCO
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等离子体强化的ALD设备 AD-230LP

卓越的重复性和稳定性

概要

AD-230LP是一种原子层沉积(ALD)系统,能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室,仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室,且不向大气开放反应室,因此能够实现薄膜沉积的优良再现性。


主要特点和优点

  • 可以在原子层水平上实现均匀的层控制。

  • 可实现高纵横比结构的共形沉积。

  • 具有优良的平面内均匀性和再现性,实现了稳定的工艺。

  • 采用独特的反应室结构,优化了原料的气路和气体流,抑制了粒子。

  • 通过采用电容耦合等离子体(CCP)系统,使反应室体积最小化,缩短了气体吹扫时间,加快了一个循环的速度。

应用

  • 氮化膜(AlN、SiN)的形成和低温形成的氧化膜(AlOx、SiO2)。

  • 电子设备的闸门绝缘子

  • 半导体、有机EL等的钝化膜。

  • 半导体激光器的反射面

  • 在MEMS等3D结构上的沉积

  • 石墨烯上的沉积

  • 碳纳米管保护膜粉末涂层


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供SAMCO原子层沉积(ALD)系统AD-230LP,SAMCOAD-230LP产地为日本,属于进口原子层沉积设备,除了原子层沉积(ALD)系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多原子层沉积设备,客服电话400-860-5168转5919,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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