无针孔薄膜沉积设备

无针孔薄膜沉积设备

参考价:面议
型号: AL-1
产地: 日本
品牌: SAMCO
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热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积

概要

AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂,仅利用表面反应沉积薄膜,实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外,可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø4英寸的晶片。


主要特点和优点

  • 成膜效率高
     通过提供几十毫秒量级的脉冲,减少了原材料的损耗,提高了沉积效率。

  • 真空清洁,温度不均匀性小
     通过紧贴反应室内壁的内壁加热器,抑制反应室的温度不均匀,可获得清洁的真空。

  • 无针孔成膜
     由于多种前驱体在反应室中没有混合,因此可以防止颗粒,形成无针孔的薄膜。

应用

  • 用于下一代功率器件的栅极氧化膜和钝化膜。

  • 在3D结构上形成均匀的薄膜,如MEMS。

  • 激光表面的沉积

  • 碳纳米管的钝化膜


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供SAMCO无针孔薄膜沉积设备AL-1,SAMCOAL-1产地为日本,属于进口原子层沉积设备,除了无针孔薄膜沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多原子层沉积设备,客服电话400-860-5168转5919,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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