等离子体(ICP)刻蚀设备

等离子体(ICP)刻蚀设备

参考价:面议
型号: RIE-350iPC
产地: 日本
品牌: SAMCO
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ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-350iPC

最大ø350毫米的托架


概要

RIE-350iPC是一种盒式装载电感耦合等离子体(ICP)蚀刻设备,可处理多达ø350毫米的载盘,用于多晶圆批量处理。
该系统为各种蚀刻应用提供了坚固可靠的硬件和卓越的工艺控制,具有较高的生产率,如功率器件、微型LED、VCSEL、LD、电容器和射频滤波器。

主要特点和优点

  • 最大加工范围:ø350 mm (ø3" x 12, ø4" x 8, ø12" x 1)

  • 先进的ICP源HSTC™(Hyper Symmetrical Tornado Coil)能有效地提供均匀的高密度等离子体,并在大面积上具有优异的蚀刻均匀性。

  • 对称的疏散设计与TMP相结合,形成了高效的流动。

  • 优化的气体歧管,提供工艺气体的均匀性。

  • 可选的光学/干涉式端点检测系统可实现对多个工艺运行的精确蚀刻深度控制。

应用

  • GaN、GaAs、InP和SiC的高精度蚀刻

  • SiN和SiO2的蚀刻

  • 电介质和金属的蚀刻

  • 用于HBLED的PSS(图案化蓝宝石衬底)加工

深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供SAMCO等离子体(ICP)刻蚀设备RIE-350iPC,SAMCORIE-350iPC产地为日本,属于进口湿法腐蚀/刻蚀设备,除了等离子体(ICP)刻蚀设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多湿法腐蚀/刻蚀设备,客服电话400-860-5168转5919,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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